[發明專利]一種封裝阻隔涂層及其制備方法有效
| 申請號: | 200810241535.2 | 申請日: | 2008-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN101752500A | 公開(公告)日: | 2010-06-23 |
| 發明(設計)人: | 劉萍 | 申請(專利權)人: | 深圳丹邦投資集團有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/00 | 分類號: | H01L51/00;H01L51/52;H01L51/54;H01L51/44;H01L51/46;H01L51/56;H01L51/48;H01L51/42;H01L51/50;C09D1/00;C09D4/02;C09D5/00;C09D5/16 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 封裝 阻隔 涂層 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及對環境敏感器件如OLED(有機發光顯示器)、薄膜太陽 電池等的封裝阻隔涂層及其制備方法,特別是該封裝阻隔涂層能有效阻隔 防止氧氣、濕氣、水汽、透過。
背景技術
平板顯示器行業正在醞釀著一場變革,推動這個變革的是有機發光二 極管(OLED)這種新型發光固體材料。但在平面顯示器上用的OLED受 到環境穩定性的限制,容易透過濕氣、氧氣,大大降低OLED的使用壽命。
類似地,其他環境敏感器件如薄膜太陽電池等的封裝也存在類似的問 題。
為此,傳統密封方法是使用玻璃基板和玻璃蓋封裝并用邊緣膠帶密 封,其缺點是工序多、成本高,不能達到輕、薄、短小,也無法控制OLED 阻隔氧氣、濕氣、水汽透過,使OLED使用期短,顯示品質變差。
美國Vitex?Systems公司和Battelle紀念研究所首先提出了一種采用有 機和無機濺鍍阻隔層的技術方案,并提出了其阻隔層濺鍍設備,相關文獻 如US5872355、US20010015620、WO03094256、WO0036665等。該方案 阻隔層達到水蒸氣透過率(WR)10-5cc/m2/day(即每天每平方米10-5毫升, 下同),最好阻隔層水蒸汽透過率高出5個數量級。該技術方案是利用特制 的真空鍍膜設備在聚酯薄膜基材上沉積一層無機阻隔層,主要是氧化鋁和 二氧化硅,再在無機阻隔層上沉積聚合物層,使用單體閃蒸技術將單體蒸發, 蒸汽冷卻在聚酯薄膜上凝結,通過UV照射使單體交聯而固化形成阻隔層。
其中,沉積無機層特別是沉積氧化鋁層是通用非常成熟的技術,方法 有熱蒸發、電子束蒸發、濺射、活性濺射、化學氣相沉積(CVD)、等離 子增強化學氣相沉積(PECVD)和電子回旋加速器共振源等離子增強化學 氣相沉積(ECR-PECVD)等,國內外許多公開文獻有報道。前述相關文 獻WO03094256專利是使用活性濺射技術的一個實例。
發明內容
本發明所提供的封裝阻隔涂層包括氮化無機涂層、單體涂層、低聚合 物有機涂層、防污保護涂層。其制備方法中,通過使用閃蒸、凝結、聚合 技術沉積聚合物層,從而得到封裝阻隔涂層。
根據本發明實施例,本發明還可以具有如下可選的技術特征:
氮化無機涂層可以分別為:AlN和Si3N4,因氮化物密度高,不損傷有 機物表面平整,不易產生微孔。
單體涂層可以為二乙二醇二丙烯酸脂和丙二醇二丙稀酯混合加入二季 戊四醇丙稀酸六酯;為提高單體固化速度采,用光引發劑苯偶姻,單體采 用UV照射能數秒時間固化。
低聚合物有機涂層可采用多元酯類:四乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四 醇四丙烯酸酯、聚乙二醇單乙醚單丙稀酸酯,以及端羥基聚環氧乙烷、端 羥基聚環氧丙烷縮聚合成的端羥基的低分量聚合物,分子量控制在真空容 易蒸發的水平上。光引發劑采用苯偶姻乙醚聚合物涂層賦予著好的柔性、 高附著力、高強度、最佳成膜性特點。
防污保護涂層可以為:季戊四醇三丙稀酸酯、二季戊四醇六丙稀酸酯、 氮化硅、光聚合引發劑及甲基乙基酮溶劑,再加氟化物,形成防污層涂布 溶液;其中,氟化物的加入方法是:將異丙醇加入到可熱交聯的含氟聚合 物JN-7214,制得0.6%重量比的粗分散液,用超聲波處理后分散液滲透到 防污層涂布溶液。
更具體地,各層可以按下述方案,其中配方中的份數為重量份:
無機層:采用高純度AlN或Si3N4真空濺射無機涂層厚度范圍
單體涂層:
低聚合物有機涂層:
防污保護:
本發明阻隔涂層制備方法為:對基材聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET) 或聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)進行表面化學粗化處理——濺鍍沉積無機 氮化物——濺鍍沉積有機單體層——濺鍍沉積低聚合物層——濺鍍沉積層 防污層保護層。
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H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
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H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
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