[發明專利]一種封裝阻隔涂層及其制備方法

有效

• 申請號: 200810241535.2
• 申請日: 2008-12-15
• 公開（公告）號: CN101752500A
• 公開（公告）日: 2010-06-23
• 發明（設計）人: 劉萍
• 申請（專利權）人: 深圳丹邦投資集團有限公司
• 主分類號: H01L51/00
• 分類號: H01L51/00;H01L51/52;H01L51/54;H01L51/44;H01L51/46;H01L51/56;H01L51/48;H01L51/42;H01L51/50;C09D1/00;C09D4/02;C09D5/00;C09D5/16
• 代理公司: 深圳新創友知識產權代理有限公司 44223
• 代理人: 江耀純

1.一種封裝阻隔涂層，用于對環境敏感器件，依次包括無機涂層、單 體涂層、低聚合物有機涂層、防污保護涂層，其特征在于：所述無機涂層 是氮化無機涂層，所述氮化無機涂層中的氮化物是從由AlN和Si₃N₄組成 的組中選出的一種或兩種；所述單體涂層包括二乙二醇二丙烯酸脂、丙二 醇二丙稀酯、二季戊四醇丙稀酸六酯和光引發劑苯偶姻；所述低聚合物有 機涂層包括：四乙二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、聚乙二醇單 乙醚單丙稀酸酯、端羥基聚環氧乙烷和端羥基聚環氧丙烷縮聚合成的端羥 基的低分子量聚合物、光引發劑苯偶姻乙醚；所述防污保護涂層包括：季 戊四醇三丙稀酸酯、二季戊四醇六丙稀酸酯、氮化硅、光聚合引發劑、甲 基乙基酮溶劑和氟化物。

2.如權利要求1所述的封裝阻隔涂層，其特征在于：所述無機涂層厚 度范圍

3.如權利要求1或2所述的封裝阻隔涂層，其特征在于：所述單體涂 層各成份按重量份為：

4.如權利要求1或2所述的封裝阻隔涂層，其特征在于：所述低聚合 物有機涂層各成份按重量份為：

5.如權利要求1或2所述的封裝阻隔涂層，其特征在于：所述防污保 護涂層按重量份含有：

6.如權利要求5所述的封裝阻隔涂層，其特征在于：所述防污保護涂 層還包括氟化物，其加入方法是：將異丙醇加入到可熱交聯的含氟聚合物 JN-7214，制得0.6％重量比的粗分散液，用超聲波處理后分散液滲透到防 污層涂布溶液。

7.如權利要求1所述的封裝阻隔涂層，其特征是：

所述氮化無機涂層厚度為

所述單體分子量低于400，所述單體涂層厚度0.1-0.5微米；

所述低聚合物有機涂層厚度0.5-1.0微米；

所述防污保護涂層厚度0.1-0.5微米。

8.如權利要求1所述的封裝阻隔涂層，其特征是：所述對環境敏感器 件包括OLED、薄膜太陽電池。

9.一種封裝阻隔涂層制備方法，該封裝阻隔涂層用于對環境敏感器件 的封裝，其特征是包括如下步驟：

對基材進行表面化學粗化處理；

濺鍍沉積無機涂層，所述無機涂層是氮化無機涂層，所述氮化無機涂 層中的氮化物是從由AlN和Si₃N₄組成的組中選出的一種或兩種；

濺鍍沉積單體涂層，所述單體涂層包括二乙二醇二丙烯酸脂、丙二醇 二丙稀酯、二季戊四醇丙稀酸六酯和光引發劑苯偶姻；

濺鍍沉積低聚合物有機涂層，所述低聚合物有機涂層包括：四乙二醇 二丙烯酸酯、二季戊四醇四丙烯酸酯、聚乙二醇單乙醚單丙稀酸酯、端羥 基聚環氧乙烷和端羥基聚環氧丙烷縮聚合成的端羥基的低分子量聚合物、 光引發劑苯偶姻乙醚；

濺鍍沉積防污保護涂層，所述防污保護涂層包括：季戊四醇三丙稀酸 酯、二季戊四醇六丙稀酸酯、氮化硅、光聚合引發劑、甲基乙基酮溶劑和 氟化物。

10.如權利要求9所述的封裝阻隔涂層制備方法，其特征是：單體涂 層、低聚合物有機涂層和防污保護涂層的濺鍍沉積方法是：分別通過超聲 波下攪拌形成均勻懸浮液稀釋避免凝聚，加熱后通過管子泵到噴嘴噴霧成 液滴，閃蒸室壁保持在防止液滴在閃蒸室凝結的溫度上，蒸汽控制凝結在 基材上，冷卻凝結，然后UV固化。

11.如權利要求10所述的封裝阻隔涂層制備方法，其特征是：氮化無 機涂層的濺鍍沉積是在真空濺鍍沉積機進行的，通過等離子增強化學氣相 沉積閃蒸器內加熱到汽化，經過真空蒸汽沉積技術濺射聚合物液體膜，然 后冷卻凝結成無機層。

12.如權利要求11所述的封裝阻隔涂層制備方法，其特征是：濺鍍沉 積氮化無機涂層的步驟重復多次操作，得到多層阻隔涂層。