[發明專利]自屏蔽輻射源的高能電子束輻照加工系統有效
| 申請號: | 200810239790.3 | 申請日: | 2008-12-17 |
| 公開(公告)號: | CN101752020A | 公開(公告)日: | 2010-06-23 |
| 發明(設計)人: | 唐華平;劉耀紅;張化一 | 申請(專利權)人: | 同方威視技術股份有限公司;清華大學 |
| 主分類號: | G21K5/00 | 分類號: | G21K5/00;G21K5/10;G21F7/00;G21F1/08 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 馬永利;蔣駿 |
| 地址: | 100084 北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 屏蔽 輻射源 高能 電子束 輻照 加工 系統 | ||
技術領域
本發明涉及電子束輻照加工技術,尤其涉及一種高能電子束輻照加 工系統。
背景技術
電子束輻照加工技術是利用電子加速器產生的電子束或電子束轉 化為X射線與物質相互作用所產生的物理效應、化學效應和生物效應, 對被加工物品進行處理,以達到預期的目標。該技術的應用涉及工業、 農業、醫療健康、環境保護和公眾安全等領域。電子束輻照加工技術具 有工藝簡單、束流功率大、容易控制、安全性好、能耗低、效率高、無 污染、無殘留、技術附加值高、效益好等優點。該技術在輻照化工、食 品與衛生用品的輻照消毒滅菌等領域已經有非常成熟的應用,例如使多 相高分子聚合物經射線輻照引發聚合而生產性能更好的化工產品。
現有的典型高能電子束輻照加工系統100通常按上下兩層布置,如 圖1所示。下層主要為輻照室12和物品傳送通道迷宮13,其墻體為鋼 筋混凝土結構11,由于對高能電子束和X射線屏蔽的需要,墻體厚度 通常為1m~3m。輻照室12中安裝有掃描盒3,物品傳送通道迷宮13 中安裝有束下物品傳送系統7。在上層中,加速器室14與加速器室迷宮 15的墻體為鋼筋混凝土結構11,由于對高能電子束和X射線屏蔽的需 要,墻體厚度通常為1m~3m,并且加速器室迷宮口處需要安裝厚重的 屏蔽門19。設備室16與控制室17無輻射防護要求,可以為普通磚石結 構18。加速器1安裝在加速器室14內,加速器功率源與輔助系統5安 裝在設備室16內,控制系統6安裝在控制室17內。加速器1和加速器 功率源與輔助系統5之間通過穿過屏蔽墻體的功率輸送裝置4連接,加 速器1和掃描盒3之間通過穿過上下層之間的屏蔽墻體的電子束漂移管 2連接。
在上述現有的高能電子束輻照加工系統100中,由于加速器1本身 不具有輻射屏蔽功能,所以整個加速器室14需要2m~3m厚的混凝土 進行屏蔽。因為加速器1的安裝和維護需要,還要設計至少具有兩個彎 道的迷宮15,迷宮15的墻體厚度也在1m左右,同時迷宮口還需要非 常厚重的屏蔽門19進行防護,通常重量在10噸以上。以上這些都極大 地增加了建筑成本,同時占用了較大的空間。另外,由于加速器室14 具有非常強的輻射射線,所以加速器功率源與輔助系統5安裝在屏蔽墻 體外的設備室16,并且連接加速器1和加速器功率源與輔助系統5的功 率輸送裝置4需要穿越很厚的混凝土屏蔽墻,其長度越長,功率衰減越 大,降低了整個系統的功率效率,削弱了系統的輻照加工處理能力。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是提供一種克服了上述缺陷的高能電 子束輻照加工系統。
為此,本發明提供一種輻射源自屏蔽的高能電子束輻照加工系統, 其包括輻照設備和土建建筑。所述輻照設備包括加速器、加速器功率源 與輔助系統、連接所述加速器和所述加速器功率源與輔助系統的功率輸 送裝置、掃描盒、連接所述加速器和所述掃描盒的電子束漂移管、束下 物品傳送系統、以及控制所述加速器和所述束下物品傳送系統的工作的 控制系統。所述土建建筑包括安裝有所述加速器的加速器室、由鋼筋混 凝土結構構成的安裝有所述掃描盒的輻照室、由鋼筋混凝土結構構成的 物品傳送通道迷宮、以及由普通磚石結構構成的安裝有所述控制系統的 控制室。所述束下物品傳送系統通過所述物品傳送通道迷宮出/入所述輻 照室,并且從所述掃描盒的下方穿過。所述輻照設備還包括安裝在所述 加速器的四周及頂部的屏蔽體,所述屏蔽體由重金屬材料制成,具有輻 射防護功能,能夠屏蔽所述加速器所產生的側向及頂向輻射射線,從而 使所述屏蔽體的外部達到符合國家輻射防護安全標準的水平,并且所述 加速器室由普通磚石結構構成。
上述的輻射源,自屏蔽的高能電子束輻照加工系統,使加速器具有 自屏蔽功能,從而加速器室無需厚實的鋼筋混凝土屏蔽結構,也無需加 速器室迷宮和屏蔽門,從而大量節省了建筑成本,并且便于安裝和維護。
作為本發明的一種優選方案,所述加速器室還安裝有所述功率輸送 裝置和所述加速器功率源與輔助系統。這樣,功率輸送裝置長度短,衰 減小,有利于提高系統的功率效率,提高系統的輻照加工處理能力。
附圖說明
通過結合附圖來閱讀后面的具體實施方式,可以更好地理解本發明 的特征和優點,其中在附圖中用相同的附圖標記表示相同或相似的元 件。在附圖中:
圖1是現有的典型高能電子束輻照加工系統的示意圖;以及
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