[發(fā)明專利]自屏蔽輻射源的高能電子束輻照加工系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810239790.3
• 申請日: 2008-12-17
• 公開（公告）號: CN101752020A
• 公開（公告）日: 2010-06-23
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐華平;劉耀紅;張化一
• 申請（專利權(quán)）人: 同方威視技術(shù)股份有限公司;清華大學(xué)
• 主分類號: G21K5/00
• 分類號: G21K5/00;G21K5/10;G21F7/00;G21F1/08
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 馬永利;蔣駿

1.一種輻射源自屏蔽的高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)，包括輻 照設(shè)備和土建建筑，其中：

所述輻照設(shè)備包括：加速器(1)、加速器功率源與輔助系統(tǒng)(5)、 連接所述加速器(1)和所述加速器功率源與輔助系統(tǒng)(5)的功率輸送 裝置(4)、掃描盒(3)、連接所述加速器(1)和所述掃描盒(3)的 電子束漂移管(2)、束下物品傳送系統(tǒng)(7)、以及控制所述加速器(1) 和所述束下物品傳送系統(tǒng)(7)的工作的控制系統(tǒng)(6)，

所述土建建筑包括：安裝有所述加速器(1)的加速器室(21)、 由鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)構(gòu)成的安裝有所述掃描盒(3)的輻照室(12)、由 鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)構(gòu)成的物品傳送通道迷宮(13)、以及由普通磚石結(jié)構(gòu) (18)構(gòu)成的安裝有所述控制系統(tǒng)(6)的控制室(20)，

其中所述束下物品傳送系統(tǒng)(7)通過所述物品傳送通道迷宮(13) 出/入所述輻照室(12)，并且從所述掃描盒(3)的下方穿過，

其特征在于：所述輻照設(shè)備還包括安裝在所述加速器(1)的四周 及頂部的屏蔽體(22)，所述屏蔽體(22)由重金屬材料制成，具有輻 射防護(hù)功能，能夠屏蔽所述加速器(1)所產(chǎn)生的側(cè)向及頂向輻射射線， 從而使所述屏蔽體(22)的外部達(dá)到符合國家輻射防護(hù)安全標(biāo)準(zhǔn)的水平， 并且所述加速器室(21)由普通磚石結(jié)構(gòu)構(gòu)成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)，其特 征在于：所述加速器室(21)內(nèi)還安裝有所述功率輸送裝置(4)和所 述加速器功率源與輔助系統(tǒng)(5)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)，其 特征在于：所述加速器室(21)具有不帶輻射防護(hù)功能的普通輕便門 (23)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)，其 特征在于：所述重金屬材料是鋼、鉛或鎢。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)，其 特征在于：所述加速器(1)是行波直線加速器或駐波直線加速器。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)，其 特征在于：所述高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)按上下兩層進(jìn)行布置。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)，其特 征在于：所述上層包括所述加速器室(21)和所述控制室(20)，所述 下層包括所述輻照室(12)和所述物品傳送通道迷宮(13)，所述屏蔽 體(22)安裝在所述加速器(1)的四周和頂部，所述輻照室(12)頂 部的鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)的厚度足以使所述鋼筋混凝土結(jié)構(gòu)外部的輻射達(dá) 到符合國家安全標(biāo)準(zhǔn)的水平。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)，其 特征在于：所述電子束漂移管(2)的直徑為φ30mm～φ60mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)，其 特征在于：所述電子束漂移管(2)的長度為1m～3m。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)， 其特征在于：所述高能電子束輻照加工系統(tǒng)(200)在同一層面進(jìn)行水 平布置。