[發明專利]羥基磷灰石/納米氧化鋯梯度涂層及其制備方法無效
| 申請號: | 200810239388.5 | 申請日: | 2008-12-12 |
| 公開(公告)號: | CN101745149A | 公開(公告)日: | 2010-06-23 |
| 發明(設計)人: | 栗卓新;李輝;李紅;吳永智;魏琪;郭天旭 | 申請(專利權)人: | 北京工業大學 |
| 主分類號: | A61L27/32 | 分類號: | A61L27/32;A61L27/30;C23C4/10 |
| 代理公司: | 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203 | 代理人: | 張慧 |
| 地址: | 100124 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 羥基 磷灰石 納米 氧化鋯 梯度 涂層 及其 制備 方法 | ||
1.一種羥基磷灰石/納米氧化鋯梯度涂層,其特征在于,所述的梯度涂層包括有與基體相接處的底層(1)、覆蓋在底層(1)之上的下中間層(2)、覆蓋在下中間層(2)之上的上中間層(3)和覆蓋在上中間層(3)之上的表面層(4);其中,底層(1)的組成為氧化鋯;下中間層(2)的組成為30wt%氧化鋯+70wt%羥基磷灰石復合粉末;上中間層(3)的組成為10wt%氧化鋯+90wt%羥基磷灰石復合粉末;表面層(4)的組成為羥基磷灰石;底層(1)的厚度為20~30μm;下中間層(2)的厚度為40~50μm;上中間層(3)的厚度為40~50μm;表面層(4)的厚度為50~60μm。
2.根據權利要求1所述的一種羥基磷灰石/納米氧化鋯梯度涂層的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
(一)、制備噴涂粉料:
1)底層(1)的粉料:將一次粒徑為40~100nm的納米氧化鋯粉末造粒,得到粒度為20~40μm的納米團聚氧化鋯粉末;
2)下中間層(2)的粉料:將粒度小于5μm,Y2O3含量為2~3mol%的納米團聚氧化鋯粉末和粉末粒度為38~75μm的羥基磷灰石粉末按質量比3∶7混合后,造粒,得到粒徑為75~150μm的30wt%氧化鋯+70wt%羥基磷灰石復合粉末;
3)上中間層(3)的粉料:將粒度小于5μm,Y2O3含量為2~3mol%的納米團聚氧化鋯粉末和粉末粒度為38~75μm的羥基磷灰石粉末按質量比1∶9混合后,造粒,得到粒徑為75~150μm的10wt%氧化鋯+90wt%羥基磷灰石復合粉末;
4)表面層(4)的粉料:羥基磷灰石粉末,粒徑為75~105μm;
(二)、噴涂粉料:
1)底層(1)的噴涂:采用等離子噴涂設備將底層(1)的粉料噴涂到基體之上,噴涂工藝參數為:主氣Ar,主氣流量42~45L/min,輔氣H2,輔氣流量10~12L/min,送粉氣Ar,送粉氣流量6~6.5L/min,送粉率20g/min,電流700A,槍擺速度500mm/s,噴涂距離100mm,底層(1)的厚度為20~30μm;
2)下中間層(2)的噴涂:采用等離子噴涂設備將下中間層(2)的粉料噴涂到底層(1)之上,噴涂工藝參數為:主氣Ar,主氣流量40~42L/min,輔氣H2,輔氣流量8~9L/min,送粉氣Ar,送粉氣流量6~6.5L/min,送粉率20g/min,電流670A,槍擺速度500mm/s,噴涂距離100mm,下中間層(2)的厚度為40~50μm;
3)上中間層(3)的噴涂:采用等離子噴涂設備將上中間層(3)的粉料噴涂到下中間層(2)之上,噴涂工藝參數為:主氣Ar,主氣流量40~42L/min,輔氣H2,輔氣流量8~9L/min,送粉氣Ar,送粉氣流量6~6.5L/min,送粉率20g/min,電流670A,槍擺速度500mm/s,噴涂距離100mm,上中間層(3)的厚度為40~50μm;
4)表面層(4)的噴涂:采用等離子噴涂設備將表面層(4)的粉料噴涂到上中間層(3)之上,噴涂工藝參數為:主氣Ar,主氣流量42~45L/min,輔氣H2,輔氣流量6~7L/min,送粉氣Ar,送粉氣流量6~6.5L/min,送粉率18g/min,電流650A,槍擺速度500mm/s,噴涂距離100mm,表面層(4)的厚度為50~60μm;
(三)、將步驟(二)中制的涂層,以5~8℃/min的升溫速度加熱至750℃,保溫3h后,冷卻至室溫,得到羥基磷灰石/納米氧化鋯梯度涂層。
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