[發明專利]多種化學品共腔處理裝置

無效

• 申請號: 200810230103.1
• 申請日: 2008-12-24
• 公開（公告）號: CN101760741A
• 公開（公告）日: 2010-06-30
• 發明（設計）人: 孫東豐;徐春旭
• 申請（專利權）人: 沈陽芯源微電子設備有限公司
• 主分類號: C23F1/08
• 分類號: C23F1/08;C30B33/10;H01L21/306
• 代理公司: 沈陽科苑專利商標代理有限公司 21002
• 代理人: 張志偉

技術領域

本發明是應用于半導體制程中刻蝕部分針對多種化學藥液共腔處理技術，具體為一種多種化學品共腔處理裝置。

背景技術

以槽式刻蝕為代表的傳統濕法刻蝕，刻蝕精度很難控制，由于溶劑微粒的沾污而導致高的缺陷水平，并且會產生大量的化學廢液，不能用于大直徑小特征的晶圓加工。而單片刻蝕可以避免溶劑微粒的沾污，但在化學品回收利用方面仍是個空白。

發明內容

為了實現化學品的回收，本發明的目的在于提供一種多種化學品共腔處理裝置，將多種化學藥液在同一個腔體分離，可在大直徑小特征的晶圓加工中得到廣泛應用。

本發明的技術方案是：

一種多種化學品共腔處理裝置，該裝置主要設有藥液杯、藥液杯外腔、藥液杯內腔，可升降的藥液杯置于藥液杯外腔與藥液杯內腔之間。

所述的多種化學品共腔處理裝置，可升降的藥液杯與升降汽缸相連。

所述的多種化學品共腔處理裝置，該裝置內側安裝旋轉馬達，旋轉馬達安裝在電機法蘭上，承片臺安裝在旋轉馬達的軸上，晶片放置在承片臺上。

本發明的有益效果是：

1、以槽式刻蝕為代表的傳統濕法刻蝕成品率低，而應用離心機旋轉的單片刻蝕方式又導致大量化學品浪費，該裝置可應用于單片濕法刻蝕對化學藥液分離，實現化學藥液再利用。本發明裝置設有承片臺(CHUCK)、旋轉馬達、可升降藥液杯(CUP)、CUP外腔、CUP內腔，可升降CUP在CUP外腔與CUP內腔之間，CHUCK安置在旋轉馬達上。本發明通過可升降CUP的高度對刻蝕過程中化學藥液的遮擋控制化學藥液留存在CUP內腔和CUP外腔，實現對化學藥液的分離。

2、本發明利用可升降藥液杯(CUP)的升降高度來實現對化學藥液的分離，化學藥液在晶片在旋轉過程中噴灑，受離心力作用，化學藥液在晶片邊緣呈直線甩出。此時控制CUP升降高度，讓不同的化學藥液保留在內腔CUP和外腔CUP。

附圖說明

圖1是本發明的一種狀態結構示意圖，可升降CUP在下位；

圖2是本發明的另一狀態結構示意圖，可升降CUP在上位。

圖中，1、晶片；2、承片臺(CHUCK)；3、旋轉馬達；4、藥液杯(CUP)；5、藥液杯外腔；6、藥液杯內腔；7、化學藥液；8、汽缸；9、電機法蘭。

具體實施方式：

如圖1-圖2所示，本發明多種化學品共腔處理裝置主要包括：晶片1、承片臺(CHUCK)2、旋轉馬達3、藥液杯(CUP)4、藥液杯外腔5、藥液杯內腔6、化學藥液7、汽缸8、電機法蘭9等，具體結構如下：

可升降藥液杯4在藥液杯外腔5與藥液杯內腔6之間，藥液杯外腔5位于外側，中間放置可升降的藥液杯4，內側為藥液杯內腔6，可升降的藥液杯4下部與升降汽缸8相連。旋轉馬達3安裝在電機法蘭9上，承片臺2安裝在旋轉馬達3的軸上，晶片1放置在承片臺2上。

本發明的工作過程如下：

將旋轉馬達3安裝在電機法蘭9上，承片臺2安裝在旋轉馬達3的軸上，再依次安裝藥液杯內腔6、可升降藥液杯4、藥液杯外腔5。可升降藥液杯4下部安裝的升降汽缸8，實現可升降藥液杯4的升降，利用可升降藥液杯4的高度來阻擋晶片1旋轉甩出的化學藥液7。可升降藥液杯4在低位時，把化學藥液7放到藥液杯外腔5(圖1)，可升降藥液杯4在高位時，把化學藥液7留在藥液杯內腔6(圖2)。