[發(fā)明專利]苯并咔唑插層水滑石復(fù)合發(fā)光材料及其制備方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810227218.5 | 申請(qǐng)日: | 2008-11-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101440281A | 公開(公告)日: | 2009-05-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陸軍;閆東鵬;衛(wèi)敏;段雪 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京化工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C09K11/06 | 分類號(hào): | C09K11/06 |
| 代理公司: | 北京眾合誠(chéng)成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 朱 琨 |
| 地址: | 100029北*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 咔唑插層水 滑石 復(fù)合 發(fā)光 材料 及其 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于無機(jī)有機(jī)復(fù)合發(fā)光材料領(lǐng)域,特別是提供了一種苯并咔唑插層 水滑石的復(fù)合發(fā)光材料及其制備方法。
背景技術(shù)
有機(jī)電致發(fā)光器件因其具有發(fā)光亮度高、結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、驅(qū)動(dòng)電壓低和視角廣 等優(yōu)點(diǎn),使得其在平面顯示方面的應(yīng)用越來越引起人們的關(guān)注。種類繁多的有機(jī) 發(fā)光化合物和金屬發(fā)光配合物的研究與開發(fā)為獲得高亮度、高效率、全色、高 穩(wěn)定性的發(fā)光器件提供了前提條件。具有良好電致發(fā)光效率的熒光染料被廣泛 應(yīng)用于有機(jī)電致發(fā)光器件的制備中,大大促進(jìn)了有機(jī)電致發(fā)光器件的發(fā)展。
咔唑類染料是一種性能優(yōu)異的藍(lán)光電致發(fā)光材料,具有很高的熒光量子效 率,發(fā)光波長(zhǎng)窄,色純度好,且熒光發(fā)射波段位于450nm左右,是純正的藍(lán)光。咔 唑及其衍生物分子具有大的共軛體系及強(qiáng)的分子內(nèi)的電子轉(zhuǎn)移,已作為優(yōu)良的 光學(xué)材料深入研究并加以開發(fā)應(yīng)用,如將其作為π給體與π受體形成特殊性能 的電荷轉(zhuǎn)移型配合物,是倍受人們關(guān)注的一類新型光電材料。同時(shí)咔唑具有良好 的空穴傳輸性能,其衍生物有較高的玻璃化轉(zhuǎn)變溫度,已被用來制作高性能的藍(lán) 色有機(jī)電致發(fā)光器件。
但染料類發(fā)光材料在通常的溶液狀態(tài)下易形成聚集體,不利于染料分子的 高效發(fā)光。若將染料分子作為客體均勻分布于一種主體材料中,則可以最大限 度提高客體的發(fā)光效率。因此將帶負(fù)電荷的染料分子引入層狀材料水滑石的層 間,形成有機(jī)—無機(jī)復(fù)合物,可實(shí)現(xiàn)染料分子在分子尺度上定向排列和均勻分 散,同時(shí),還可提高染料分子的物理和化學(xué)穩(wěn)定性。然而將咔唑或其衍生物染 料分子引入層狀材料水滑石層間的研究至今還未見報(bào)道。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種苯并咔唑插層水滑石的復(fù)合發(fā)光材料及其制備方 法。該材料的特征在于,化學(xué)式為:[(M2+)1-x(M3+)x(OH)2]x+(A-)x·mH2O,其中 0.1≤x≤0.33,m=3~6為層間結(jié)晶水分子數(shù),M2+代表二價(jià)金屬陽(yáng)離子,M3+代表三價(jià)金屬離子,A-代表2-羥基苯并咔唑-3-羧酸根陰離子,晶體結(jié)構(gòu)為類 水滑石材料的晶體結(jié)構(gòu),金屬陽(yáng)離子和氫氧根離子以共價(jià)鍵構(gòu)成八面體,通過 共邊形成片狀結(jié)構(gòu),2-羥基苯并咔唑-3-羧酸根陰離子插入水滑石層間構(gòu)成均勻 分散的2-羥基苯并咔唑-3-羧酸根陰離子插層的陰離子型超分子層狀復(fù)合發(fā)光材 料。
本發(fā)明的制備方法的具體操作步驟為:
(1)配制二價(jià)、三價(jià)金屬陽(yáng)離子摩爾比M2+/M3+為2:1~4:1的溶液A,其 中二價(jià)金屬陽(yáng)離子濃度為0.01~1.6M;
(2)按2-羥基苯并咔唑-3-羧酸鈉與步驟(1)中三價(jià)金屬陽(yáng)離子M3+摩爾 比為1:1~3:1的比例配制2-羥基苯并咔唑-3-羧酸鈉的無水乙二醇溶液B,濃度 為0.01~2.0M;
(3)將溶液A與溶液B混合得到溶液C,然后將溶液C倒入四口燒瓶中;
(4)配制摩爾數(shù)是步驟(1)中的金屬離子摩爾總數(shù)2倍的NaOH溶液, 濃度為0.01~3.0M,將該NaOH溶液通過恒壓漏斗,在氮?dú)獗Wo(hù)條件下向裝有 溶液C的四口燒瓶中緩慢滴加;
(5)滴加完成后用NaOH調(diào)節(jié)pH值為8.0~10.0,得到漿液D,將四口燒 瓶置于50~80℃水浴中在氮?dú)獗Wo(hù)條件下反應(yīng)12~24小時(shí),或?qū){液D轉(zhuǎn)移 到微波快速消解罐中,控溫80~100℃下微波加熱反應(yīng)2~5小時(shí);
(6)將步驟(4)中的反應(yīng)產(chǎn)物分別用去CO2、去離子水和乙二醇離心洗 滌3~6次,至洗滌液無色,將離心得到的濾餅在50~70℃溫度范圍內(nèi)真空干 燥15~20小時(shí),即得到2-羥基苯并咔唑-3-羧酸根陰離子插層水滑石復(fù)合發(fā)光 材料。
本發(fā)明所述的M2+為Mg2+、Ni2+、Co2+、Zn2+或Ca2+,M3+為Al3+或Fe3+。
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