[發(fā)明專利]末端執(zhí)行器及帶有該末端執(zhí)行器的基片傳送自動(dòng)機(jī)械

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810215787.8
• 申請日: 2008-09-05
• 公開（公告）號(hào): CN101383319A
• 公開（公告）日: 2009-03-11
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 河宗義
• 申請（專利權(quán)）人: 細(xì)美事有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/687
• 分類號(hào): H01L21/687;H01L21/677;B25J9/06;B65G47/90;B65G49/07
• 代理公司: 上海恩田旭誠知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 尹洪波

技術(shù)領(lǐng)域

一般地，本發(fā)明的具體實(shí)施方式涉及末端執(zhí)行器，和帶有該末端執(zhí)行器的基片傳送自動(dòng)機(jī)械。更具體地，本發(fā)明的具體實(shí)施方式涉及用于拾取和/或放置基片的末端執(zhí)行器，以及利用該末端執(zhí)行器將基片傳送至所需位置的自動(dòng)機(jī)械。

背景技術(shù)

通常，半導(dǎo)體制造方法包括在半導(dǎo)體晶片之類的基片上進(jìn)行層的沉積的沉積處理、在沉積層上形成光致抗蝕劑圖形的光刻處理、利用該光致抗蝕劑圖形形成所需電路圖形的蝕刻處理、在蝕刻處理后的清潔處理等。

實(shí)施這些處理過程的裝置包括提供高真空環(huán)境的密閉室單元。該室單元包括工藝室、傳送室、緩沖室等。工藝室和緩沖室可設(shè)置在傳送室周圍。設(shè)置基片傳送自動(dòng)機(jī)械，用于在工藝室和緩沖室之間傳送半導(dǎo)體基片。

日本專利公開2002-158272揭示了一種基片傳送自動(dòng)機(jī)械的例子。

圖1為示出了現(xiàn)有的基片傳送自動(dòng)機(jī)械的立體圖。

參見圖1，現(xiàn)有的基片傳送自動(dòng)機(jī)械包括裝在殼體10上的基臂20、與基臂20的端部連接的第一端臂30和第二端臂40、及分別可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接至端臂30和40的第一托板51和第二托板53。基片傳送自動(dòng)機(jī)械利用托板51和53，在緩沖室和工藝室之間傳送半導(dǎo)體基片W1和W2。

通常，在工藝室中用蝕刻液或蝕刻氣對半導(dǎo)體基片進(jìn)行處理。如反應(yīng)副產(chǎn)物、蝕刻液等可能殘留在基片上的污染物通過清潔處理除去，并可在半導(dǎo)體基片上作干燥處理。

同時(shí)，當(dāng)半導(dǎo)體基片被傳送以進(jìn)行清潔處理以去除污染物時(shí)，第一托板51和第二托板53會(huì)被半導(dǎo)體基片污染。還有，當(dāng)清潔處理后用被污染的第一和第二托板51和53傳送清潔的半導(dǎo)體基片時(shí)，該清潔的半導(dǎo)體基片會(huì)被污染了的第一和第二托板51和53重新污染。

為解決上述問題，可用第一和第二托板51和53中的一個(gè)來傳送上面殘留有污染物的半導(dǎo)體基片，而由第一和第二托板51和53中的另一個(gè)來傳送清潔的半導(dǎo)體基片。例如，在第一托板51傳送上面殘留有污染物的半導(dǎo)體基片的情況下，就用第二托板53來傳送清潔的半導(dǎo)體基片。這樣，會(huì)使帶有該第一和第二托板51和53的基片傳送裝置的生產(chǎn)能力受到不利影響。也就是說，會(huì)增加傳送半導(dǎo)體基片所需的時(shí)間。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明具體實(shí)施方式提供了一種能同時(shí)拾取多個(gè)基片的末端執(zhí)行器。

本發(fā)明具體實(shí)施方式還提供了一種具有能同時(shí)拾取多個(gè)基片的末端執(zhí)行器的基片傳送自動(dòng)機(jī)械。

根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，一種末端執(zhí)行器包括：肘節(jié)板；第一托板，其以可沿垂直方向移動(dòng)的方式連接至所述肘節(jié)板，以支承第一基片；以及第二托板，其連接至所述肘節(jié)板，以支承第二基片，其中該第二托板靠近所述第一托板。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實(shí)施方式，所述末端執(zhí)行器還包括升降裝置，其用于向上移動(dòng)所述第一托板以讓所述第一托板支承所述第一基片，并用于向下移動(dòng)所述第一托板以讓所述第二托板支承第二基片。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實(shí)施方式，所述升降裝置包括，用于移動(dòng)所述第一托板的驅(qū)動(dòng)部和用于控制所述驅(qū)動(dòng)部的控制器。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實(shí)施方式，所述第一基片為待處理基片和經(jīng)處理基片中的任一種，而所述第二基片為所述待處理基片和經(jīng)處理基片中的另一種。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實(shí)施方式，所述末端執(zhí)行器還包括設(shè)置在所述第一托板和第二托板的端部上的制動(dòng)部，以防止所述第一基片和第二基片從所述第一托板和第二托板掉落。

根據(jù)本發(fā)明的另一方面，一種基片傳送自動(dòng)機(jī)械包括：可轉(zhuǎn)動(dòng)殼體；下臂，其可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接至所述殼體；上臂，其可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接至所述下臂的端部；以及可轉(zhuǎn)動(dòng)地連接至所述上臂端部的末端執(zhí)行器。此處，所述末端執(zhí)行器包括：肘節(jié)板；第一托板，其以可沿垂直方向移動(dòng)的方式連接至所述肘節(jié)板以支承第一基片；和第二托板，其連接至所述肘節(jié)板以支承第二基片，該第二托板靠近所述第一托板。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實(shí)施方式，所述末端執(zhí)行器包括升降裝置，其用于向上移動(dòng)所述第一托板以讓所述第一托板支承所述第一基片，并用于向下移動(dòng)所述第一托板以讓所述第二托板支承第二基片。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實(shí)施方式，所述升降裝置包括，用于移動(dòng)所述第一托板的驅(qū)動(dòng)部和用于控制所述驅(qū)動(dòng)部的控制器。

根據(jù)本發(fā)明的一些具體實(shí)施方式，所述末端執(zhí)行器還包括設(shè)置在所述第一托板和第二托板的端部上的制動(dòng)部，以防止所述第一基片和第二基片從所述第一托板和第二托板掉落。