[發明專利]圖案形成方法

有效

• 申請號: 200810215456.4
• 申請日: 2008-08-15
• 公開（公告）號: CN101399050A
• 公開（公告）日: 2009-04-01
• 發明（設計）人: 木原尚子;稗田泰之;鐮田芳幸
• 申請（專利權）人: 株式會社東芝
• 主分類號: G11B5/74
• 分類號: G11B5/74;G11B5/82;G11B5/84
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司
• 代理人: 于 輝

技術領域

本發明涉及圖案形成方法，通過該圖案形成方法生產的壓印模塑體，以及使用了該壓印模塑體的磁性記錄介質的制造方法。

背景技術

自從磁性記錄介質發明以來，它的記錄密度逐年持續增加并且直到今天這種趨勢還在繼續。

盡管構圖介質對于實現高達萬億位(tera-bit)級別的記錄密度可以是有效的方法，但獲得這種高記錄密度所需的單元的尺寸被限制在大小為30-20nm或者更小。這種單元的精細微組裝可以通過用電子束拉伸精細圖案來產生，但需要很長時間。因此，以此方式生產的介質價格將變得很高。

已提出通過采用其中構圖介質是利用二嵌段共聚物的相分離生產的方法來解決這一問題，如IEEE?Trans.Magn.Vol.38，pp.1949，K.Naito等人以及在JP-A2004-342226(KOKAI)中描述。更準確地說，根據這種方法，例如由聚苯乙烯和聚甲基丙烯酸甲酯構成的二嵌段共聚物，經受相分離以形成網點圖案，隨后將其輸送到磁膜上以產生用作記錄單元的磁性點。由于二嵌段共聚物的相分離，有可能形成以最密集形式排列的圓形網點圖案。

在其上具有構圖介質的磁性記錄設備的情形中，有可能兩個或多個記錄單元被其記錄頭錯誤地運行或者讀出整體。如果有可能優化條件如磁性點的排列和符合記錄頭的磁道寬度，可能會消除這種可能性。JP-A2004-265474(KOKAI)中提出通過二嵌段共聚物以如下的方式相分離以形成網點圖案，產生稍符合記錄頭構型軌道的形狀。然而，即使用通過二嵌段共聚物相分離形成網點圖案的方法，還是難于優化條件如磁性點的排列和符合記錄頭構型的磁道寬度。

發明概述

根據本發明一個方面的圖案形成方法包括：

在基材上形成包含組合物的層，該組合物含有可以相分離為第一相和比第一相顯示更高的耐蝕刻性的第二相的二嵌段共聚物，所述第一相含有第一組分以及所述第二相含有第二組分；

使所述二嵌段共聚物經受相分離以獲得相分離的層，由此形成由所述第一組分構成并且具有沿第一方向延展的圓柱體或者層狀構型的易蝕刻區域；

在所述相分離的層上形成壓印抗蝕劑層；

使用掩模圖案對所述壓印抗蝕劑層進行壓印，以在所述壓印抗蝕劑層上形成沿與第一方向交叉的第二方向延展的并包含凸起和凹陷的不規則圖案；

從所述壓印抗蝕劑層選擇性地除去殘留在不規則圖案的每一凹陷底部的剩余抗蝕劑，由此僅剩下構成凸起的抗蝕劑，同時選擇性地從所述相分離的層除去第一組分以獲得含有第二組分的耐蝕刻的圖案；和

不僅使用壓印抗蝕劑層的凸起而且還使用含有第二組分的耐蝕刻的圖案作為掩模來蝕刻所述基材。

根據本發明另一方面的圖案形成方法包括：

在基材上形成包含組合物的層，該組合物含有可以相分離為第一相和比第一相顯示更高的耐蝕刻性的第二相的二嵌段共聚物，所述第一相含有第一組分以及所述第二相含有第二組分；

使所述二嵌段共聚物經受相分離以獲得相分離的層，由此形成由所述第一組分構成并且具有沿第一方向延展的圓柱體或者層狀構型的易蝕刻區域；

從所述相分離的層除去第一組分以形成沿第一方向延展的并含有第二組分的耐蝕刻的圖案；

在所述耐蝕刻的圖案上形成壓印抗蝕劑層；

使用掩模圖案對所述壓印抗蝕劑層進行壓印，以在所述壓印抗蝕劑層上形成沿與第一方向交叉的第二方向延展的并包含凸起和凹陷的不規則圖案；

從所述壓印抗蝕劑層選擇性地除去殘留在不規則圖案的每一凹陷底部的剩余抗蝕劑，由此僅剩下構成凸起的抗蝕劑，和

不僅使用含有第二組分的耐蝕刻的圖案而且還使用壓印抗蝕劑層的凸起作為掩模來蝕刻所述基材。

根據本發明的一方面的壓印模塑體包含通過上述圖案形成方法制備的基材。

根據本發明的一個方面的磁性記錄介質的生產方法包括：

在介質基材上形成磁膜；

在所述磁膜上形成抗蝕劑層；

使用上述的壓印模塑體對所述抗蝕劑層進行壓印，以產生由凸起構成的抗蝕劑圖案；和

使用所述抗蝕劑圖案作為掩模來蝕刻所述磁膜。

附圖說明

圖1A是根據一個實施方案的磁性記錄介質的平面視圖；

圖1B是圖1A的“A”區域的平面放大視圖；

圖2是顯示根據一個實施方案的壓印模塑體的制造方法的一個步驟的透視圖；

圖3是顯示圖2所示步驟的下一步驟的透視圖；

圖4是顯示根據另一個實施方案的壓印模塑體的制造方法的一個步驟的透視圖；

圖5是顯示圖4所示步驟的下一步驟的透視圖；