[發明專利]坩堝加熱裝置和包括該坩堝加熱裝置的淀積裝置

有效

• 申請號: 200810214020.3
• 申請日: 2008-08-22
• 公開（公告）號: CN101372736A
• 公開（公告）日: 2009-02-25
• 發明（設計）人: 魯碩原;姜泰旻;成鎮旭;李相奉;李承默;樸鎮佑;金善浩;鄭明鐘
• 申請（專利權）人: 三星SDI株式會社
• 主分類號: C23C14/12
• 分類號: C23C14/12;C23C14/26;F27B14/06;F27B14/20
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司
• 代理人: 羅正云;王誠華

技術領域

本發明的各方面涉及一種坩堝加熱裝置，和一種包括該坩堝加熱裝置的淀積裝置，更具體而言，涉及一種包括具有接觸部分的帶的坩堝加熱裝置，和一種包括該坩堝加熱裝置的淀積裝置。?

背景技術

近年來，利用諸如液晶顯示器(LCD)和有機發光二極管(OLED)等平板顯示器(FPD)的薄輕型結構的優點，廣泛進行著實現大型顯示器和改善顯示器質量的研究。在FPD中，OLED可為下一代FPD，其能夠提供快速反應速度，無需濾色片即可實現顏色標識，并且無需使用單獨的光源即可解決傳統OLED的問題。?

一般而言，OLED具有形成在基板上的像素電極的預定圖案。諸如空穴傳輸層、有機發射層、電子傳輸層等有機層相繼形成在像素層上，并且相反電極形成在有機層上。?

OLED有機層可通過光刻蝕法形成。然而，在光刻蝕法過程中，有機層在抗層離的過程中和蝕刻過程中會暴露于濕氣中。當淀積有機層時該濕氣會造成問題。?

為了解決上述問題，可以采用一種在真空腔室中蒸發、升華和真空淀積有機材料的方法以形成有機層。這種真空淀積方法包括將基板放置在真空腔室中以便在其上形成有機層。隨后，包括多個圖案部分的圖案掩膜設置在該基板下方。同時，一種坩堝加熱裝置以預定距離設置在圖案掩膜下方，該坩堝加熱裝置包含用于在基板上淀積的有機材料。?

該坩堝加熱裝置使用加熱器蒸發具有圖案掩膜上的圖案的有機材料，以?在基板上形成有機層。因此，該坩堝加熱裝置是對有機層的特征造成直接影響的重要裝置。?

傳統的坩堝加熱裝置包括坩堝，其包括一個具有開放上部的主體以容納將要被淀積的材料，以及與該主體的上部配合并具有開口用于噴射材料的蓋。溫度控制部分設置在坩堝加熱裝置的外側，用于控制該坩堝加熱裝置的溫度。溫度控制部分通過熱電偶電連接至主體。因此，由于容納在主體內的淀積材料的溫度可由熱電偶獲得，所以有可能通過調節加熱該坩堝的加熱器來控制材料的淀積。?

在傳統坩堝加熱裝置中，坩堝的熱電偶和主體之間點接觸。因此，當熱電偶被連接或者斷開以實現對坩堝的維護或者更換淀積材料時，很難將熱電偶與主體接觸在相同的位置。因此，很難再現相同的溫度。?

另一方面，非接觸熱電偶可連接至與主體的外側間隔一定距離的帶，而不直接連接至主體。因此，加熱器和淀積材料的溫度均被檢測，使得檢測到的溫度比淀積材料的實際溫度高，從而造成溫度準確性的問題。?

發明內容

本發明的各方面提供一種坩堝加熱裝置，和一種包括該坩堝加熱裝置的淀積裝置，所述坩堝加熱裝置通過包括具有接觸部分的帶能夠提高溫度精確性和溫度準確性。?

根據本發明的各方面，一種坩堝加熱裝置包括：坩堝，其包括用于容納淀積材料的主體，和設置在該主體上并具有噴嘴的蓋；帶，其通過多個接觸部分連接至坩堝的外下區域，并連接至熱電偶的一個端子；殼體，用于容納坩堝和帶，并具有開放的上部；和加熱器，設置在殼體內部，用于加熱淀積材料。?

根據本發明的另一方面，一種淀積裝置包括：腔室；位于所述腔室上部并具有多個圖案部分的圖案掩膜；和坩堝加熱裝置，包括：坩堝，其包括用于容納淀積材料的主體和設置在主體上并具有噴嘴的蓋；帶，其通過多個接?觸部分連接至坩堝的外下區域，并連接至熱電偶的一個端子；殼體，用于容納坩堝和帶，并具有開放的上部；和加熱器，其設置在殼體內部，用于加熱淀積材料。?

本發明的其他方面和/或優點一部分將在下文中描述，一部分根據說明書顯而易見，或者可通過應用本發明得知。?

附圖說明

根據下文對示例性實施例的描述并結合附圖，本發明的這些和/或其他方面和優點將變得顯而易見和更為容易理解，其中：?

圖1為根據本發明的示例性實施例的坩堝加熱裝置的剖視圖；?

圖2為根據本發明的示例性實施例的坩堝加熱裝置的帶的透視圖；和?

圖3為根據本發明的示例性實施例的包括坩堝加熱裝置的淀積裝置的剖視圖。?

具體實施方式

現在將詳細參照本發明示例于附圖中的示例性實施例，其中全文中相同的附圖標記代表相同的元件。以下將參照附圖對實施例進行描述以闡釋本發明。?