[發明專利]圖像形成設備

有效

• 申請號: 200810212718.1
• 申請日: 2008-08-29
• 公開（公告）號: CN101377639A
• 公開（公告）日: 2009-03-04
• 發明（設計）人: 板橋奈緒
• 申請（專利權）人: 兄弟工業株式會社
• 主分類號: G03G15/04
• 分類號: G03G15/04;G03G15/01
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所
• 代理人: 吳龍瑛;張黎明

1.一種圖像形成設備，其特征在于，該圖像形成設備包括：

在其表面形成靜電潛像的感光構件；和

具有發光元件的曝光構件，所述曝光構件在與所述感光構件上的相對位置相對的曝光 位置處使所述感光構件曝光以形成所述靜電潛像，所述曝光構件可以在所述曝光位置和從 所述曝光位置后退的后退位置之間移動，

其中，所述曝光構件包括，

比所述曝光構件的發光表面突出更多的防塵壁，和

相對于所述感光構件將所述曝光構件定位在所述曝光位置上的定位構件，以及

其中，所述防塵壁和所述定位構件整體地形成；

該圖像形成設備進一步包括支撐所述感光構件并具有通孔的框架，所述防塵壁在所述 曝光位置處被插入所述通孔中；

當所述曝光構件處于所述曝光位置時，所述定位構件與所述框架接觸。

2.如權利要求1所述的圖像形成設備，其特征在于，所述防塵壁和所述定位構件設置在 所述曝光構件的所述發光表面一側。

3.如權利要求1所述的圖像形成設備，其特征在于，

其中，所述防塵壁包括凸起，所述凸起在所述曝光位置與在所述感光構件上的相對位 置處的所述感光構件的移動方向上彼此相對的所述通孔的內壁之一相接觸。

4.如權利要求1所述的圖像形成設備，其特征在于，所述防塵壁由絕緣材料制成。

5.如權利要求1所述的圖像形成設備，其特征在于，所述防塵壁關于所述感光構件的轉 動軸方向上的中心位置對稱。

6.如權利要求1所述的圖像形成設備，其特征在于，所述防塵壁設置在對應于所述感光 構件上的形成所述靜電潛像的區域的范圍內。

7.如權利要求1所述的圖像形成設備，其特征在于，在所述曝光位置，在所述感光構件 上的所述相對位置處該感光構件的移動方向上，所述防塵壁設置在比所述感光構件上的相 對位置更下游的位置。

8.如權利要求1所述的圖像形成設備，其特征在于，所述防塵壁設置在所述感光構件的 轉動軸方向上。

9.一種圖像形成設備，其特征在于，該圖像形成設備包括：

感光構件；

具有發光元件，防塵壁和定位構件的曝光構件，所述防塵壁比所述曝光構件的發光表 面突出更多，所述定位構件相對于所述感光構件將所述曝光構件定位在曝光位置；和

支撐所述感光構件并具有通孔的框架，所述防塵壁在所述曝光位置處被插入所述通 孔；

所述防塵壁和所述定位構件整體地形成，

所述防塵壁和所述定位構件設置在所述曝光構件的發光表面一側，以及

當所述曝光構件定位在所述曝光位置處時，所述定位構件與所述框架接觸。

10.如權利要求9所述的圖像形成設備，其特征在于，所述防塵壁包括凸起，以及

當所述曝光構件定位在所述曝光位置處時，所述凸起與所述通孔的內壁接觸。

11.如權利要求9所述的圖像形成設備，其特征在于，所述防塵壁設置成與所述感光構件 的縱向基本平行。

12.如權利要求9所述的圖像形成設備，其特征在于，其中所述防塵壁包括從下側向上側 形成的凹部，以及

當所述曝光構件定位在所述曝光位置處時，所述凹部的底部與所述框架接觸。

13.如權利要求9所述的圖像形成設備，其特征在于，所述框架包括孔，以及

當所述曝光構件定位在所述曝光位置處時，所述定位構件插入所述孔中。