[發明專利]圖像形成設備

有效

• 申請號: 200810212718.1
• 申請日: 2008-08-29
• 公開（公告）號: CN101377639A
• 公開（公告）日: 2009-03-04
• 發明（設計）人: 板橋奈緒
• 申請（專利權）人: 兄弟工業株式會社
• 主分類號: G03G15/04
• 分類號: G03G15/04;G03G15/01
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所
• 代理人: 吳龍瑛;張黎明

相關申請的交叉引用

本申請要求對于2007年8月31日提交的第2007-225936號日本專利申請的優先權， 該申請公開的內容通過全文引用而結合在本文中。

技術領域

本發明的設備和裝置涉及圖像形成設備，更具體而言，涉及感光構件和曝光構件的發 光表面設置成彼此靠近的圖像形成設備。

背景技術

日本未經審查的第H02-40541號實用新型申請公報(參看圖2，專利文件1)和日本 未經審查的第2004-45795號專利申請公報(參看圖6，專利文件2)說明了相關技術的圖 像形成設備。例如，相關技術的圖像形成設備包括感光構件和曝光構件(諸如LED頭) 的發光表面，并且感光構件和發光表面設置成彼此靠近以便于使感光構件曝光。在相關技 術的圖像形成設備中，因為感光構件和曝光構件的發光表面設置成彼此靠近，所以從向感 光構件提供顯影劑的顯影單元漂浮的顯影劑附著到發光表面導致污染該發光表面，從而降 低圖像的質量。因此，例如，專利文件1或專利文件2公開了一種構造，其中，向感光構 件突出的防塵壁或遮蔽部分設置在曝光構件的端部(發光表面)附近以防止從顯影單元漂 浮的顯影劑附著到該發光表面上。

發明內容

然而，因為上述相關設備具有由曝光構件的定位機構間接確定防塵壁相對于感光構件 的位置，所以防塵壁相對于感光構件的定位精度不夠高。因此，防塵壁不充分靠近感光構 件，從而不能令人滿意地防止從顯影單元漂浮的顯影劑附著到所述發光表面上。

為了通過使用曝光構件的定位機構使防塵壁令人滿意地靠近感光構件，例如，當加大 防塵壁的尺寸時，由于無法令人滿意的防塵壁相對于感光構件的定位精度，導致防塵壁的 端部與感光構件接觸，從而破壞所述表面。

本發明的目的是提供一種能夠通過令人滿意地抑制從顯影單元漂浮的顯影劑附著到 發光表面抑制圖像質量降低的圖像形成設備。

根據本發明的一個方面，本發明提供的圖像形成設備包括：在其表面形成靜電潛像的 感光構件；和具有發光元件的曝光構件，該曝光構件在與感光構件上的相對位置相對的曝 光位置使感光構件曝光從而形成靜電潛像，并可以在曝光位置和從曝光位置后退的后退位 置之間移動，其中曝光構件包括比該曝光構件的發光表面突出更多的防塵壁和相對于感光 構件將曝光構件定位在曝光位置上的定位構件，以及其中防塵壁和定位構件整體地形成。

根據本發明的另一個方面，本發明提供的圖像形成設備包括：感光構件；具有發光元 件、防塵壁和定位構件的曝光構件，所述防塵壁比該曝光構件的發光表面突出更多，所述 定位構件相對于感光構件將曝光構件定位在曝光位置上；和支撐感光構件并具有防塵壁在 曝光位置處被插入其中的通孔的框架；其中防塵壁和定位構件整體地形成，其中防塵壁和 定位構件設置在曝光構件的發光表面一側，以及其中當曝光構件定位在曝光位置處時定位 構件與框架接觸。

根據具有上述構造的圖像形成設備，因為與曝光構件的防塵壁形成整體的定位構件相 對于感光構件對曝光構件進行定位，所以可以相對于感光構件對防塵壁進行高精度定位。 因此，可以使防塵壁令人滿意地靠近感光構件。

根據本發明的圖像形成設備，因為防塵壁能夠相對于感光構件進行定位，所以可以使 防塵壁令人滿意地靠近感光構件。因此，因為從顯影單元漂浮的顯影劑附著到發光表面的 情況能夠被充分抑制，所以可以防止圖像質量的下降。

附圖說明

本發明的說明性的各個方面將參照下列附圖進行詳細說明，其中：

圖1是顯示根據本發明的示例性實施例的打印機的剖視圖；

圖2是顯示LED單元位于后退位置的打印機的剖視圖；

圖3是顯示LED單元，鼓框架和感光鼓的立體圖；

圖4A和4B是顯示根據所述示例性實施例的打印機的示意圖，其中，圖4A是顯示曝 光位置處的LED單元，鼓框架和感光鼓之間的關系的側視圖，圖4B是其剖視圖；以及

圖5A，5B和5C是顯示根據另一個示例性實施例的打印機的示意圖，其中圖5A是顯 示從一側觀察的LED單元和鼓框架的部分剖視圖，圖5B是從后側觀察的LED單元和鼓 框架的部分剖視圖，圖5C是從上側觀察的LED單元和鼓框架的平面圖。