[發(fā)明專利]光刻膠滴注系統(tǒng)、光刻膠噴嘴及其使用方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810208048.6
• 申請日: 2008-12-25
• 公開（公告）號: CN101762984A
• 公開（公告）日: 2010-06-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 安輝
• 申請（專利權(quán)）人: 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 李麗

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種光刻膠滴注系統(tǒng)、光刻 膠噴嘴及其使用方法。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體制造中，通常利用光刻步驟在晶片上形成光刻膠掩膜層，光刻 膠掩膜層將需要刻蝕的區(qū)域暴露，將不需要刻蝕的區(qū)域覆蓋，從而在后續(xù)刻 蝕工藝中就可以將暴露的區(qū)域刻蝕掉，然后把光刻膠掩膜層去除就得到了所 需的半導(dǎo)體結(jié)構(gòu)。一般來講，在光刻中首先要利用光刻膠涂覆裝置向晶片表 面滴注光刻膠，然后在將光刻膠在晶片表面均勻分布，這樣就形成了光刻膠 層，然后再對光刻膠層進行曝光和顯影就可以得到光刻膠掩膜層。

因為光刻膠掩膜層的質(zhì)量好壞影響到半導(dǎo)體器件的質(zhì)量，因此在半導(dǎo)體 制造中光刻膠涂覆裝置發(fā)揮著重要的作用，例如在2008年8月14日公開的， 公開號為CN101178542A的中國專利申請中提供了一種光刻膠涂覆裝置，如 圖1所示，包括光刻膠噴嘴10、RRC(Reduction?Resist?Consumption噴嘴20、 光刻膠管道30和光刻膠加熱系統(tǒng)40。如圖2所示，在該裝置中光刻膠噴嘴 10和RRC噴嘴20為上部為圓柱體，下部為椎體。這種光刻膠涂覆裝置在進 行硅片噴涂光刻膠前，RRC噴嘴20先向硅片表面噴涂一層溶劑進行潤濕， 然后光刻膠噴嘴10向硅片噴涂光刻膠，光刻膠噴嘴10噴涂完光刻膠之后會 進行回抽，使光刻膠噴嘴10出口處的光刻膠縮到光刻膠噴嘴內(nèi)，這樣可以使 減少光刻膠與空氣接觸形成結(jié)晶，但是因為仍然會形成結(jié)晶，因此在光刻膠 噴嘴10下一次噴涂之前或者間隔一定時間例如1800s或3600s，需要先進行 一次空噴(dummy)，將光刻膠噴嘴10內(nèi)與空氣接觸形成結(jié)晶的部分光刻 膠噴到廢液里扔掉，然后再向晶片噴涂光刻膠。

上述光刻膠涂覆裝置不能有效的阻止光刻膠噴嘴內(nèi)的光刻膠與空氣接觸 形成結(jié)晶，因此在每次涂覆前都要將一些結(jié)晶的光刻膠噴到廢液里，浪費了 資源，成本較高。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決上述問題，本發(fā)明提供了一種光刻膠涂覆裝置及其方法，該裝 置節(jié)省了資源，降低了成本。

本發(fā)明的光刻膠滴注系統(tǒng)，包括光刻膠供給裝置、溶劑供給裝置、與所 述光刻膠供給裝置相連的噴嘴，所述光刻膠噴嘴包括管狀運輸部件、和管狀 運輸部件密封相連的存儲部件，以及和存儲部件密封相連的噴涂部件，其中 存儲部件的平均流量大于管狀運輸部件和噴涂部件的平均流量，當所述噴嘴 回吸時，所述存儲部件用于存儲從所述溶劑供給裝置內(nèi)吸入的溶劑。

可選的，所述噴嘴的管狀運輸部件、存儲部件以及噴涂部件為一次成型 的一個整體。

可選的，所述噴嘴的存儲部件的容積為0.5mL-5mL。

可選的，所述存儲部件沿光刻膠流向的剖面為菱形。

可選的，所述噴嘴的噴涂部件包括一椎體，所述椎體的錐頂部為噴口。

可選的，包括管狀運輸部件、和管狀運輸部件密封相連的存儲部件，以 及和存儲部件密封相連的噴涂部件，其中存儲部件的平均流量大于管狀運輸 部件和噴涂部件的平均流量。

可選的，所述噴嘴的管狀運輸部件、存儲部件以及噴涂部件為一次成型 的一個整體。

可選的，所述噴嘴的存儲部件的容積為0.5mL-5mL。

相應(yīng)的本發(fā)明的光刻膠滴注系統(tǒng)的使用方法，包括步驟：

所述噴嘴向晶片表面噴涂所述存儲部件內(nèi)的溶劑；

所述噴嘴向晶片表面噴涂所述光刻膠供給裝置提供的光刻膠；

所述噴嘴從所述噴涂部件回吸空氣；

所述噴涂部件的噴口與所述溶劑供給裝置接觸；

所述噴嘴回吸所述溶劑供給裝置內(nèi)的溶劑，使溶劑進入所述存儲部件內(nèi)。

可選的，所述回吸的空氣在噴嘴內(nèi)沿光刻膠流向的高度為2mm。

上述技術(shù)方案的優(yōu)點是：

因為噴嘴設(shè)置了存儲部件，因此利用存儲部件存儲溶劑，從而將光刻膠 封閉在噴嘴內(nèi)，隔離了光刻膠和空氣，減少了光刻膠和空氣的接觸，這樣就 不會形成結(jié)晶，因此本發(fā)明就不再需要空噴(dummy)，所以大大減少了光 刻膠的浪費，降低了成本。并且因為本發(fā)明中利用在噴嘴設(shè)置存儲部件，使 噴嘴代替了現(xiàn)有技術(shù)中的RRC噴嘴和光刻膠噴嘴，因此使得結(jié)構(gòu)更加簡單， 操作方便。

附圖說明

圖1為一種現(xiàn)有的光刻膠涂覆裝置的示意圖；