[發(fā)明專利]光刻膠滴注系統(tǒng)、光刻膠噴嘴及其使用方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810208048.6
• 申請日: 2008-12-25
• 公開（公告）號(hào): CN101762984A
• 公開（公告）日: 2010-06-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 安輝
• 申請（專利權(quán)）人: 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
• 主分類號(hào): G03F7/16
• 分類號(hào): G03F7/16
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 李麗

1.一種光刻膠滴注系統(tǒng)，包括光刻膠供給裝置、溶劑供給裝置、與所述 光刻膠供給裝置相連的噴嘴，

其特征在于，所述噴嘴包括管狀運(yùn)輸部件、和管狀運(yùn)輸部件密封相連的 存儲(chǔ)部件，以及和存儲(chǔ)部件密封相連的噴涂部件，其中存儲(chǔ)部件的最大流量 大于管狀運(yùn)輸部件和噴涂部件的最大流量，所述存儲(chǔ)部件用于噴嘴回吸時(shí)存 儲(chǔ)從所述溶劑供給裝置內(nèi)吸入的溶劑。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠滴注系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴的管 狀運(yùn)輸部件、存儲(chǔ)部件以及噴涂部件為一次成型的一個(gè)整體。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光刻膠滴注系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴的存 儲(chǔ)部件的容積為0.5mL-5mL。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻膠滴注系統(tǒng)，其特征在于，所述存儲(chǔ)部件 沿光刻膠流向的剖面為菱形。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠滴注系統(tǒng)，其特征在于，所述噴嘴的噴 涂部件包括一椎體，所述椎體的錐頂部為噴口。

6.一種光刻膠噴嘴，其特征在于，包括管狀運(yùn)輸部件、和管狀運(yùn)輸部件 密封相連的存儲(chǔ)部件，以及和存儲(chǔ)部件密封相連的噴涂部件，其中存儲(chǔ)部件 的平均流量大于管狀運(yùn)輸部件和噴涂部件的最大流量。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的噴嘴，其特征在于，所述噴嘴的管狀運(yùn)輸部件、 存儲(chǔ)部件以及噴涂部件為一次成型的一個(gè)整體。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的噴嘴，其特征在于，所述噴嘴的存儲(chǔ)部件的容 積為0.5mL-5mL。

9.一種權(quán)利要求1所述的光刻膠滴注系統(tǒng)的使用方法，其特征在于，包 括步驟：

所述噴嘴向晶片表面噴涂所述存儲(chǔ)部件內(nèi)的溶劑；

所述噴嘴向晶片表面噴涂所述光刻膠供給裝置提供的光刻膠；

所述噴嘴從所述噴涂部件回吸空氣；

所述噴涂部件的噴口與所述溶劑供給裝置接觸；

所述噴嘴回吸所述溶劑供給裝置內(nèi)的溶劑，使溶劑進(jìn)入所述存儲(chǔ)部件內(nèi)。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的使用方法，其特征在于，所述回吸的空氣在 噴嘴內(nèi)沿光刻膠流向的高度為2mm。