[發(fā)明專利]一種天線制造的三維光刻方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810204054.4 | 申請日： | 2008-12-04 |
| 公開（公告）號： | CN101752643A | 公開（公告）日： | 2010-06-23 |
| 發(fā)明（設計）人： | 宋玉明;歐立文;張新山;盧曉峰;戴豐;于松濤;唐永玲 | 申請（專利權）人： | 上海安費諾永億通訊電子有限公司 |
| 主分類號： | H01Q1/00 | 分類號： | H01Q1/00;H01Q1/38;G03F7/00 |
| 代理公司： | 南京天華專利代理有限責任公司 32218 | 代理人： | 夏平 |
| 地址： | 201108 上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 天線 制造 三維 光刻 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種天線制造的三維光刻方法，包括：提供基體結構件，在基體結構件的表面形成導電層，導電層的上面形成感光油墨層，以及遮蔽，曝光，顯影，蝕刻過程，其特征在于：所述導電層形成在基體結構件的三維表面上，所述的感光油墨層形成在導電層的三維表面上，所述的遮蔽和曝光過程都是對感光油墨層的三維表面進行。
2.如權利要求1所述的三維光刻方法，其特征在于，所述感光油墨為一種主要成分對特定光譜敏感而發(fā)生化學反應的感光抗蝕油墨。
3.如權利要求2所述的三維光刻方法，其特征在于，所述特定光譜為紫外光。
4.如權利要求1所述的三維光刻方法，其特征在于，所述導電層為金屬層。
5.如權利要求4所述的三維光刻方法，其特征在于，所述金屬層為銅或者鎳或者銀層；金屬層為一層或一層以上。
6.如權利要求4或者5所述的三維光刻方法，其特征在于，所述金屬層為電鍍，化學鍍，涂或者刷的金屬層。
7.如權利要求1所述的三維光刻方法，其特征在于，所述基體結構件為可鍍塑膠。
8.如權利要求7所述的三維光刻方法，其特征在于，所述可鍍塑膠為ABS。
9.如權利要求1所述的三維光刻方法，其特征在于，若所述導電層需要直接暴露，在蝕刻過程后，所述方法還包括褪膜步驟。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海安費諾永億通訊電子有限公司，未經(jīng)上海安費諾永億通訊電子有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作，請聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810204054.4/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：一種嵌入式軟件頻繁復位的控制方法和裝置
- 下一篇：升降式交通信號燈
