[發(fā)明專利]光學(xué)臨近修正參數(shù)采集方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810203537.2
• 申請(qǐng)日: 2008-11-27
• 公開（公告）號(hào): CN101738850A
• 公開（公告）日: 2010-06-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王謹(jǐn)恒
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
• 主分類號(hào): G03F1/14
• 分類號(hào): G03F1/14;G06F17/50
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 李麗

1.一種光學(xué)臨近修正參數(shù)采集方法，其特征在于，包括步驟：

對(duì)包括非直角彎角的測(cè)試線條進(jìn)行光學(xué)臨近修正，形成具有輔助線條的 待曝光圖形，所述非直角彎角為連貫的測(cè)試線條內(nèi)的夾角，包括15度、30度、 45度、60度、75度、105度、120度、135度、150度和/或165度，所述的 測(cè)試線條的寬度為100納米、65納米、45納米、32納米或22納米；

通過實(shí)際曝光或仿真的方法獲取待曝光圖形曝光后所形成的成型線條；

通過對(duì)比成型線條與測(cè)試線條的差異，獲取輔助線條在所述測(cè)試線條在 單個(gè)角度的彎角或多個(gè)角度的彎角處是否出現(xiàn)冗余和/或缺漏。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)臨近修正參數(shù)采集方法，其特征在于：還包 括獲取所述輔助線條的冗余和/或缺漏的相應(yīng)的長度。

3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)臨近修正參數(shù)采集方法，其特征在于：還包 括獲取所述輔助線條的冗余和/或缺漏相應(yīng)出現(xiàn)的位置。

4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)臨近修正參數(shù)采集方法，其特征在于：所述 測(cè)試線條有一組以上，每組內(nèi)包括一條以上的測(cè)試線條，各組測(cè)試線條的寬 度相同而相應(yīng)的測(cè)試線條之間的間隔距離不同。

5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)臨近修正參數(shù)采集方法，其特征在于：所述 的寬度與間隔距離的比例為1∶1至1∶10。

6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)臨近修正參數(shù)采集方法，其特征在于：所述 測(cè)試線條有一組以上，每組內(nèi)包括一條以上的測(cè)試線條，各組測(cè)試線條的寬 度與相應(yīng)的測(cè)試線條之間的間隔距離的比例相同。

7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)臨近修正參數(shù)采集方法，其特征在于：所述 的寬度與間隔距離的比例為1∶1。