[發明專利]光刻設備、工作臺系統和工作臺控制方法

有效

• 申請號: 200810185622.0
• 申請日: 2008-12-17
• 公開（公告）號: CN101464634A
• 公開（公告）日: 2009-06-24
• 發明（設計）人: 毛里求斯·G·E·斯克乃德斯;威廉姆斯·F·J·西蒙斯
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 王波波

技術領域

本發明涉及一種光刻設備、工作臺系統和工作臺控制方法。

背景技術

光刻設備是將需要的圖案施加到襯底的機構，通常是施加到該襯底的目標部分上。例如，光刻設備可用在集成電路(ICs)的制造中。在這樣的例子中，可替換地稱為掩模或掩模版的圖案化裝置可用來產生電路圖案，該電路圖案將形成在該IC的單獨層上。這個電路圖案可轉移到襯底(如硅晶片)上的目標部分(包括部分管芯、一個管芯或幾個管芯)上。該電路圖案的轉移典型地是通過在提供在該襯底上的輻射敏感材料(抗蝕劑)層上的成像。通常，單個襯底會包含被順序圖案化的鄰近的目標部分的網絡。傳統的光刻設備包括所謂的步進電動機和所謂的掃描裝置，在該步進電動機中，通過一次曝光目標部分上的整個圖案，使每個目標部分被照射，在該掃描裝置中，通過在給定方向(“掃描”方向)掃描穿過輻射束的圖案，并同時沿平行或反平行這個掃描方向同步掃描該襯底，使每個目標部分被照射。通過將該圖案壓印到該襯底上，將該圖案從該圖案化裝置轉移到該襯底上也是可能的。

在光刻中，采用控制系統來控制可移動部件的位置、速度、加速度和/或其他位置參數，該可移動部件例如是襯底臺(也稱為襯底架或晶片架)或支撐(也稱為掩模架或掩模臺)。在這樣的控制系統中，采用反饋控制環來提供該控制系統的精確反應。此外，為了實現快速反應，可采用前饋，如加速度前饋(acceleration?feedforward)。這樣的加速度前饋可提供所需要的力來移動所述工作臺或其它討論中的可移動的部件，通過用具有大量的所述工作臺或其它可移動部件乘以所需要的加速度，可確定該加速度前饋。然而，所述工作臺可能不是無限硬的，例如不是剛體(rigid?body)，?且如柔性模式(flex?mode)之類的內部共振模式(internal?resonance?mode)可能對該前饋起作用，因此在加速或減速期間可能導致所述工作臺的變形。

在該反饋環中，提供位置測量以確定所述工作臺的位置。然而，該位置測量不在作為激勵力(actuator?force)施加定位點的所述工作臺的同一定位點進行，因此而產生的結果是，當所述工作臺的上述變形發生時，導致位置誤差。為了能夠消除這種誤差，可采用瞬時前饋(snap-feedforward)施加附加力，這(幾乎)瞬間地提供所述工作臺的移動。在控制圖形表示中，該瞬時前饋可提供作為平行于該加速度前饋的附加的前饋路徑，且被輸入相應的設定點信號(setpoint?signal)。在本文中，術語瞬時(snap)理解為該加速度的二次導數(double?time?derivative)。通過采用所述瞬時前饋，進行位置測量所在的所述工作臺的點因此可更精確地對應于所需要的位置設定點。然而，通過這種瞬時前饋并沒有消除所述變形。在減速階段，可發生相反的影響，由此該變形可能在相反的方向被投射。因此，盡管采用了所述瞬時前饋，在動態情形中所述工作臺的變形仍然可能發生，且由于采用所述瞬時前饋所導致的所述工作臺的瞬間運動可能將高頻成分加到所述工作臺的該運動中，且當采用所述瞬時前饋時可能產生剩余誤差。

發明內容

改善所述工作臺的動態行為是需要的。

根據本發明的實施例，提供一種光刻設備，包括配置為調節輻射束的照明系統；配置為支撐圖案化裝置的支撐，所述圖案化裝置能夠引入具有圖案的所述輻射束，所述圖案在所述輻射束的橫截面中，以形成圖案化的輻射束；配置為保持襯底的襯底臺；配置為將圖案化的輻射束投影到所述襯底的目標部分上的投影系統，及用于響應于設定點信號控制所述支撐和所述襯底臺中的一個支撐的位置的工作臺控制系統，所述工作臺控制系統包括用于以反饋方式控制所述位置的反饋控制環，所述反饋控制環具有設定點輸入，及用于產生向前傳到所述反饋控制環的前饋信號的加速度前饋，所述前饋信號從所述位置設定點信號導出，其中所述工作臺控制系統被安排為將所述位置設定點信號修改為修改的位置設定點信號，所述反饋控制環的所述設定點輸入安排為接收所述修改的位置設定點信號，?所述修改的位置設定點信號安排為考慮所述襯底臺和所述支撐中的一個的非剛體特性。