[發(fā)明專利]光刻設(shè)備、工作臺系統(tǒng)和工作臺控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810185622.0
• 申請日: 2008-12-17
• 公開（公告）號: CN101464634A
• 公開（公告）日: 2009-06-24
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 毛里求斯·G·E·斯克乃德斯;威廉姆斯·F·J·西蒙斯
• 申請（專利權(quán)）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 王波波

1.一種光刻設(shè)備，包括：

照明系統(tǒng)，該照明系統(tǒng)配置為調(diào)節(jié)輻射束；

圖案化裝置支撐，該圖案化裝置支撐配置為支撐圖案化裝置，所述圖案化裝置能夠引入在其橫截面具有圖案的所述輻射束，以形成圖案化的輻射束；

襯底支撐，該襯底支撐配置為保持襯底；

投影系統(tǒng)，該投影系統(tǒng)配置為將圖案化的輻射束投影到所述襯底的目標部分上，及

工作臺控制系統(tǒng)，該工作臺控制系統(tǒng)配置為響應(yīng)于位置設(shè)定點信號控制所述支撐中的一個支撐的位置，所述工作臺控制系統(tǒng)包括：

反饋控制環(huán)，該反饋控制環(huán)配置為以反饋方式控制所述位置，所述反饋控制環(huán)具有設(shè)定點輸入，及

加速度前饋，該加速度前饋配置為產(chǎn)生向前傳到所述反饋控制環(huán)的前饋信號，所述前饋信號從所述位置設(shè)定點信號導(dǎo)出，

其中所述工作臺控制系統(tǒng)被安排為將所述位置設(shè)定點信號修改為修改的位置設(shè)定點信號，所述反饋控制環(huán)的所述設(shè)定點輸入安排為接收所述修改的位置設(shè)定點信號，所述修改的位置設(shè)定點信號安排為考慮所述支撐中的所述一個支撐的非剛體特性。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻設(shè)備，其中所述工作臺控制系統(tǒng)被安排為，通過將設(shè)定點成形信號加到所述位置設(shè)定點信號上而產(chǎn)生所述修改的設(shè)定點信號。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光刻設(shè)備，其中所述工作臺控制系統(tǒng)被安排為，通過用設(shè)定點成形函數(shù)乘所述前饋信號而確定所述設(shè)定點成形信號。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻設(shè)備，其中所述設(shè)定點成形函數(shù)被選擇為用于補償所述支撐中的所述一個支撐的定位誤差，所述定位誤差基本上等于所述前饋信號乘所述支撐中的所述一個支撐的轉(zhuǎn)移函數(shù)部分，所述轉(zhuǎn)移函數(shù)部分用于模擬所述支撐中的所述一個支撐的所述非剛體特性。

5.一種用于光刻設(shè)備的工作臺系統(tǒng)，包括：

可移動的工作臺；及

工作臺控制系統(tǒng)，該工作臺控制系統(tǒng)配置為響應(yīng)于位置設(shè)定點信號控制所述工作臺的位置，所述工作臺控制系統(tǒng)包括：

反饋控制環(huán)，該反饋控制環(huán)配置為以反饋方式控制所述位置，所述反饋控制環(huán)具有設(shè)定點輸入，及

加速度前饋，該加速度前饋配置為產(chǎn)生向前傳到所述反饋控制環(huán)的前饋信號，所述前饋信號從所述位置設(shè)定點信號導(dǎo)出，

其中所述工作臺控制系統(tǒng)被安排為將所述位置設(shè)定點信號修改為修改的位置設(shè)定點信號，所述反饋控制環(huán)的所述設(shè)定點輸入被安排為接收所述修改的位置設(shè)定點信號，所述修改的位置設(shè)定點信號被安排為考慮所述工作臺的非剛體特性。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的工作臺系統(tǒng)，其中所述工作臺控制系統(tǒng)被安排為，通過將設(shè)定點成形信號加到所述位置設(shè)定點信號上而產(chǎn)生所述修改的設(shè)定點信號。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的工作臺系統(tǒng)，其中所述工作臺控制系統(tǒng)安排為，通過用設(shè)定點成形函數(shù)乘所述前饋信號而確定所述設(shè)定點成形信號。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的工作臺系統(tǒng)，其中所述設(shè)定點成形函數(shù)被選擇為用于補償所述工作臺的定位誤差，所述定位誤差基本上等于所述前饋信號乘所述工作臺的轉(zhuǎn)移函數(shù)部分，所述轉(zhuǎn)移函數(shù)部分用于模擬所述工作臺的所述非剛體特性。

9.一種光刻設(shè)備工作臺控制方法，該方法用于響應(yīng)于位置設(shè)定點信號控制可移動工作臺的位置，該方法包括：

采用具有設(shè)定點輸入的反饋控制環(huán)，以反饋方式控制所述工作臺的所述位置；及

產(chǎn)生向前傳到所述反饋控制環(huán)的前饋信號，所述前饋信號從所述位置設(shè)定點信號導(dǎo)出，

其中所述位置設(shè)定點信號被修改為修改的位置設(shè)定點信號，所述反饋控制環(huán)的所述設(shè)定點輸入用于接收所述修改的位置設(shè)定點信號，所述修改的位置設(shè)定點信號用于考慮所述工作臺的非剛體特性。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光刻設(shè)備工作臺控制方法，其中通過將設(shè)定點成形信號加到所述位置設(shè)定點信號上而產(chǎn)生所述修改的設(shè)定點信號。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的光刻設(shè)備工作臺控制方法，通過用設(shè)定點成形函數(shù)乘所述前饋信號而確定所述設(shè)定點成形信號。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的光刻設(shè)備工作臺控制方法，所述設(shè)定點成形函數(shù)被選擇為用于補償所述工作臺的定位誤差，所述定位誤差基本上等于所述前饋信號乘所述工作臺的轉(zhuǎn)移函數(shù)部分，所述轉(zhuǎn)移函數(shù)部分用于模擬所述工作臺的所述非剛體特性。