[發明專利]向下式基板薄型化裝置及采用該裝置的薄型化系統

無效

• 申請號: 200810178449.1
• 申請日: 2008-11-26
• 公開（公告）號: CN101555101A
• 公開（公告）日: 2009-10-14
• 發明（設計）人: 崔讚圭
• 申請（專利權）人: M.M.科技株式會社
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 北京北翔知識產權代理有限公司
• 代理人: 楊 勇;鐘守期

1.一種向下式玻璃薄型化裝置，具有：

固定部，將至少一張基板垂直固定；

噴嘴部，設置在所述基板的垂直上方，使蝕刻液沿著所述基板表面 流下；

所述噴嘴部包括：

容納部，容納從外部注入的蝕刻液；

導向部，將溢出所述容納部的蝕刻液導向至所述基板的垂直上部方 向。

2.根據權利要求1所述的向下式玻璃薄型化裝置，其特征在于， 所述噴嘴部在所述基板的垂直上部側至少設置一個，以可調節噴嘴流量 的方式形成。

3.根據權利要求1所述的向下式玻璃薄型化裝置，其特征在于， 在所述容納部的上部面形成有一定部分開口的蝕刻液通過狹縫，在所述 通過狹縫的外側方向，形成有將蝕刻液均勻地引向所述導向部的多個導 向槽。

4.根據權利要求1或3所述的向下式玻璃薄型化裝置，其特征在 于，在所述容納部的內部形成有用于防止所供給的蝕刻液的流量急速增 加的緩沖隔壁。

5.根據權利要求4所述的向下式玻璃薄型化裝置，其特征在于， 所述緩沖隔壁由形成有多個蝕刻液緩沖通孔的薄板構件構成。

6.根據權利要求1所述的向下式玻璃薄型化裝置，其特征在于， 所述導向部采用沿著垂直向下逐漸傾斜的結構，其末端以與所述基板的 上部面的垂直上部方向相對應的方式排列。

7.根據權利要求6所述的向下式玻璃薄型化裝置，其特征在于， 所述蝕刻液是選自氫氟酸類、混合酸類以及非氫氟酸類的蝕刻液的任意 一種。

8.一種向下式玻璃薄型化系統，其特征在于包括：

水洗模塊，具有對至少一張基板在垂直豎立的狀態下進行清洗的 水洗室；

蝕刻模塊，具有對通過所述基板水洗模塊的基板進行蝕刻的蝕刻 室，

所述蝕刻室在所述基板的垂直上部側至少設置一個，具有：噴嘴 部，使蝕刻液從所述基板的垂直上部方向沿著所述基板的表面自由落 下；固定部，將至少一張基板垂直固定，

具有移動單元，使所述固定部移動以實現所述水洗模塊和蝕刻模 塊的內部之間的往復移動；

所述噴嘴部包括：

容納部，容納從外部注入的蝕刻液；

導向部，將溢出所述容納部的蝕刻液導向至所述基板的垂直上部方 向。

9.根據權利要求8所述的向下式玻璃薄型化系統，其特征在于， 在所述容納部的上部面形成有一定部分開口的蝕刻液通過狹縫，在所述 通過狹縫的外側方向，形成有將蝕刻液均勻地引向所述導向部的多個導 向槽。

10.根據權利要求9所述的向下式玻璃薄型化系統，其特征在于， 在所述容納部的內部形成有用于防止所供給的蝕刻液的流量急速增加的 緩沖隔壁。

11.根據權利要求10所述的向下式玻璃薄型化系統，其特征在于， 所述緩沖隔壁由形成有多個蝕刻液緩沖通孔的薄板構件構成。

12.根據權利要求9所述的向下式玻璃薄型化系統，其特征在于， 還具有蝕刻液循環供給單元，它包括將在所述蝕刻模塊使用的蝕刻液 供向所述蝕刻室，使使用過的蝕刻液再次循環的結構。

13.根據權利要求12所述的向下式玻璃薄型化系統，其特征在于， 所述蝕刻液循環供給單元包括具有供給蝕刻液的蝕刻液供給泵的蝕刻 液主儲存容器。

14.根據權利要求12所述的向下式玻璃薄型化系統，其特征在于， 具有用于回收在所述蝕刻室使用過的蝕刻液的蝕刻液回收容器。

15.根據權利要求12所述的向下式玻璃薄型化系統，其特征在于， 所述蝕刻液循環供給單元具有至少一個過濾部，該過濾部對在所述蝕 刻室內使用過的蝕刻液進行過濾。