[發明專利]基板處理裝置及基板處理方法

有效

• 申請號: 200810149147.1
• 申請日: 2008-09-12
• 公開（公告）號: CN101387835A
• 公開（公告）日: 2009-03-18
• 發明（設計）人: 宮城聰;金岡雅;茂森和士;安田周一;真田雅和
• 申請（專利權）人: 株式會社迅動
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30;H01L21/027;H01L21/67
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司
• 代理人: 馬少東

技術領域

本發明涉及一種對基板進行處理的基板處理裝置及基板處理方法。?

背景技術

為了對半導體襯底、液晶顯示裝置用基板、等離子顯示器用基板、光盤用基板、磁盤用基板、光磁盤用基板、光掩模用基板等各種基板進行多種處理而使用基板處理裝置。?

在基板處理裝置中，例如對形成在基板上的感光膜(抗蝕膜)進行顯影處理。在進行顯影處理時，向基板上的抗蝕膜供給顯影液。經過了規定時間后，向基板上供給沖洗液，使顯影處理停止并沖洗掉基板上的顯影液。接著，使基板高速旋轉以甩掉基板上的沖洗液，從而使基板干燥(例如，參照JP特開2003-31488號公報)。?

通常，在利用離心力來使基板干燥的情況下，基板上會殘留沖洗液的微小液滴。這是因為對于微小液滴只作用有與其質量對應的很小的離心力，所以很難將其從基板上甩掉。尤其是，在微小液滴附著于基板的中心部附近的情況下，對于該液滴只作用有更小的離心力，所以要除去微小液滴變得更加困難。?

另外，在顯影處理后的抗蝕膜上，親水性部分和疏水性部分混合存在，所以抗蝕膜對沖洗液的保持力會不均勻。這也是沖洗液易殘留在基板上的原因之一。這樣，若液滴殘留在基板上，則會產生顯影缺陷。?

發明內容

本發明的目的在于，提供一種能夠使顯影處理后的基板確實地干燥的基板處理裝置及基板處理方法。?

(1)本發明的一個方面的基板處理裝置具有：基板保持裝置，其將基板保持為大致水平；旋轉驅動裝置，其使基板保持裝置所保持的基板繞垂直于該基板的軸旋轉；顯影液供給部，其向基板保持裝置所保持的基板上供給顯影液；液層形成部，其通過向基板保持裝置所保持的基板上供給沖洗液來沖洗掉基板上的顯影液，然后在基板上形成沖洗液的液層；氣體噴出部，其在旋轉驅動裝置驅動旋轉基板的狀態下，向通過液層形成部而形成在基板上的液層的中心部噴出氣體。?

在該基板處理裝置中，通過顯影液供給部向基板保持裝置所保持的基板上供給顯影液，從而對基板進行顯影處理。在進行了顯影處理后，液層形成部向基板上供給沖洗液，以此沖洗掉基板上的顯影液，然后在基板上形成沖洗液的液層。?

然后，在旋轉驅動裝置使基板旋轉的狀態下，氣體噴出部向基板上液層的中心部噴出氣體。此時，表面張力使液層不分離成多個區域，而是保持圓環形狀的狀態一體地向基板的外側移動。由此，抑制微小液滴的形成，從而確實地能夠使基板干燥。因此，能夠確實地防止產生殘留在基板上的液體所導致的顯影缺陷。?

(2)在通過液層形成部形成液層時，旋轉驅動裝置可以使基板以第一轉速旋轉，在通過液層形成部形成了液層之后，旋轉驅動裝置可以使基板的轉速分階段或連續地上升至第二轉速，氣體噴出部向可以以第三轉速旋轉的基板上的液層噴出氣體，第三轉速高于第一轉速且低于第二轉速。?

此時，在形成液層時，旋轉驅動裝置使基板以第一轉速旋轉。由此，即使是基板處于相對水平面稍微傾斜的狀態，也能夠在基板上均勻地形成液層。?

在形成液層之后，通過旋轉驅動裝置的驅動，基板的轉速分階段或者連續地上升。由此，作用于液層周邊部的朝向外側的離心力增大。另一方面，由于在液層的中心部作用有與離心力相對的張力，所以液層不會向外側飛濺而被保持在基板上。?

在基板的轉速上升的過程中，基板的轉速為高于第一轉速且低于第二轉速的第三轉速時，氣體噴出部向基板上液層的中心部噴出氣體。由此，作用于液層的張力消失，液層受到離心力的作用向基板的外側移動。此時，表面張力使液層不分離成多個區域而是保持圓環形狀的狀態一體地向基板的外側移動。因此，基板上的微小液滴的形成得以抑制，所以能夠確實地除去基板上的液層。?

(3)在通過液層形成部形成了液層之后且氣體噴出部噴出氣體之前，旋轉驅動裝置使基板在規定時間內維持在第四轉速，第四轉速高于第一轉速且低于第二轉速。?

此時，液層擴散到基板上的整個區域，而且液層穩定地被保持在基板上。由此，能夠確實地防止在氣體噴出部噴出氣體之前液層向基板的外側飛濺，并且，在噴出氣體時，能夠使液層在確實地保持圓環形狀的狀態下一體地向基板的外側移動。?

(4)基板處理裝置也可以還具有：層厚檢測器，其對通過液層形成部而形成在基板上的液層的厚度進行檢測；控制部，其基于層厚檢測器檢測出的液層的厚度，控制由旋轉驅動裝置驅動的基板的轉速以及氣體噴出部噴出氣體的時機。?