[發(fā)明專利]基板處理裝置及基板處理方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810149147.1
• 申請(qǐng)日: 2008-09-12
• 公開（公告）號(hào): CN101387835A
• 公開（公告）日: 2009-03-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宮城聰;金岡雅;茂森和士;安田周一;真田雅和
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社迅動(dòng)
• 主分類號(hào): G03F7/30
• 分類號(hào): G03F7/30;H01L21/027;H01L21/67
• 代理公司: 隆天國際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 馬少東

1.一種基板處理方法，其特征在于，

包括：

將基板保持為大致水平的工序，

向所保持的基板上供給顯影液的工序，

通過向基板上供給沖洗液來沖洗顯影液的工序，

在沖洗掉顯影液之后，使基板以第一轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn)，在以上述第一轉(zhuǎn)速旋轉(zhuǎn) 的基板上形成沖洗液的液層的工序，

在形成了液層之后，使基板的轉(zhuǎn)速分階段或連續(xù)地上升至第二轉(zhuǎn)速，當(dāng) 基板的轉(zhuǎn)速在上升的過程中變?yōu)榈谌D(zhuǎn)速時(shí)，向基板上的液層的中心部噴出 氣體的工序，上述第三轉(zhuǎn)速高于上述第一轉(zhuǎn)速且低于上述第二轉(zhuǎn)速；

在形成了液層之后且向液層噴出氣體之前，使基板在規(guī)定時(shí)間內(nèi)維持第 四轉(zhuǎn)速，上述第四轉(zhuǎn)速高于上述第一轉(zhuǎn)速且低于上述第二轉(zhuǎn)速。