[發明專利]生成超聲振動的裝置與方法及用其清洗晶片的裝置與方法有效
| 申請號： | 200810149050.0 | 申請日： | 2008-09-18 |
| 公開（公告）號： | CN101391255A | 公開（公告）日： | 2009-03-25 |
| 發明（設計）人： | 安英基;鄭載正;成保藍璨 | 申請（專利權）人： | 細美事有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/12 | 分類號： | B08B3/12;B06B3/00 |
| 代理公司： | 上海恩田旭誠知識產權代理有限公司 | 代理人： | 尹洪波 |
| 地址： | 韓國忠南天*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 生成 超聲 振動 裝置 方法 清洗 晶片 | ||
1.一種生成超聲振動的裝置，所述裝置包括：
生成超聲振動的超聲振動生成器；及
位于所述超聲振動生成器的一端部的傳遞部件，并且所述傳遞部件包括至少一種用于控制所述超聲振動的強度與方向的材料，所述超聲振動經由所述傳遞部件傳遞至用于清洗晶片的清洗溶液；
其中所述材料設置為所述傳遞部件中的至少一材料層，并且根據所述材料層的數量、各材料層的厚度、以及各材料層的寬度中的至少一個來改變所述超聲振動的強度與方向。
2.如權利要求1所述的裝置，其中所述傳遞部件的材料包括固相、液相、以及氣相中的一種。
3.一種生成超聲振動的方法，所述方法包括：
生成超聲振動；及
通過將所述超聲振動經由材料層傳遞而改變所述超聲振動的強度及方向；
其中根據所述材料層的數量、各所述材料層的厚度、以及各所述材料層的寬度中的至少一個來改變所述超聲振動的強度與方向。
4.如權利要求3所述的方法，其中所述材料層包括具有固相、液相、以及氣相中的一種的材料。
5.一種清洗晶片的裝置，所述裝置包括：
位于所述晶片上方的清洗溶液供給器，其將清洗溶液供給到所述晶片上；
位于所述晶片上方的超聲振動生成器，其生成超聲振動；及
位于所述超聲振動生成器一端部的傳遞部件，且所述傳遞部件包括用于控制所述超聲振動的強度與方向的材料，所述超聲振動經由所述傳遞部件傳遞至用于清洗晶片的清洗溶液；
其中所述材料設置為所述傳遞部件中的至少一材料層，并且根據所述材料層的數量、各材料層的厚度、以及各材料層的寬度中的至少一個來改變所述超聲振動的強度與方向，以使所述超聲振動的強度及方向與所述晶片上形成的圖形的形狀相對應。
6.如權利要求5所述的裝置，其中所述傳遞部件的材料包括固相、液相、以及氣相中的一種。
7.如權利要求5所述的裝置，其中所述傳遞部件與所述超聲振動生成器在一本體中一體形成。
8.一種清洗晶片的方法，所述方法包括：
將清洗溶液供給至晶片上；
生成超聲振動；
通過所述超聲振動經由材料層傳遞而改變所述超聲振動的強度及方向；及
將所述超聲振動施加至所述清洗溶液；
其中所述材料層設置為傳遞部件中的至少一材料層，并且根據所述材料層的數量、各材料層的厚度、以及各材料層的寬度中的至少一個來改變所述超聲振動的強度與方向，以使所述超聲振動的強度及方向與所述晶片上形成的圖形的形狀相對應。
9.如權利要求8所述的方法，其中所述材料層包括固相、液相、以及氣相中的一種。
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