[發明專利]觸控面板及其制造方法

無效

• 申請號: 200810146812.1
• 申請日: 2008-08-25
• 公開（公告）號: CN101661345A
• 公開（公告）日: 2010-03-03
• 發明（設計）人: 曾馨賢
• 申請（專利權）人: 時緯科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041;B32B7/02;B32B9/00
• 代理公司: 北京市浩天知識產權代理事務所
• 代理人: 許志勇

1.一種觸控面板，其包括：

一第一基板；

一第一導電層，設于該第一基板上；

一間隔層，設于該第一導電層上；

一第二導電層，設于該間隔層上；

一第二基板，設于該第二導電層上；及

一光學鍍膜，設于該第一基板與該第一導電層之間與該第二基板與該第二導電層之間任選其一，其L*a*b*色彩空間的b值為負數，而該觸控面板的b值介于-0.5～0.5之間。

2.如權利要求1所述的觸控面板，其中該第一基板與該第二基板為一透明絕緣薄膜。

3.如權利要求1所述的觸控面板，其中：

該第一導電層與該第二導電層為一透明導電薄膜；及/或

該第一導電層與該第二該導電層的材質是為一金屬氧化物。

4.如權利要求1所述的觸控面板，其中該光學鍍膜的最小反射率波長在380～500nm的范圍內。

5.如權利要求1所述的觸控面板，其中：

該光學鍍膜設于該第一基板下；或

該光學鍍膜設于該第二基板上。

6.如權利要求1所述的觸控面板，其中該光學鍍膜的材質是為一有機化合物、一無機化合物及其該有機化合物與該無機化合物所成的一混合物三者任選其一，而該無機化合物是為金屬氧化物、金屬氟化物任選其一。

7.一種觸控面板的制造方法，其步驟包括：

(a)提供一第一基板；

(b)形成一第一導電層于該第一基板上；

(c)形成一間隔層于該第一導電層上；

(d)形成一第二導電層于該間隔層上；

(e)形成一第二基板于該第二導電層上；及

(f)形成L*a*b*色彩空間的b值為負數的一光學鍍膜于該第一基板與該第一導電層之間與該第二基板與該第二導電層之間任選其一，調整該觸控面板的b值介于-0.5～0.5之間。

8.如權利要求7所述的方法，其中該光學鍍膜是采用蒸鍍法、濺鍍法、電鍍法、化學氣相沉積法、濕式涂布法任選其一。

9.如權利要求8所述的方法，其中：

步驟(f)更包括形成L*a*b*色彩空間的b值為負數的一光學鍍膜于該第一基板下，調整該觸控面板的b值介于-0.5～0.5之間；或

步驟(f)更包括形成L*a*b*色彩空間的b值為負數的一光學鍍膜于該第二基板上，調整該觸控面板的b值介于-0.5～0.5之間。

10.一種觸控面板，其包括：

一基板；

一導電層，設于該基板上；及

一光學鍍膜，設于該基板與該導電層之間，其L*a*b*色彩空間的b值為負數，而該觸控面板的b值介于-0.5～0.5之間。

11.一種觸控面板的制造方法，其步驟包括：

(a)提供一基板；

(b)形成一導電層于該基板上；及

(c)形成L*a*b*色彩空間的b值為負數的一光學鍍膜于該基板與該導電層之間，調整該觸控面板的b值介于-0.5～0.5之間。