[發(fā)明專利]具有光纖模塊的光刻裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810144580.6 | 申請日： | 2008-08-22 |
| 公開（公告）號： | CN101655667A | 公開（公告）日： | 2010-02-24 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 徐維成;王雅志 | 申請（專利權(quán)）人： | 南亞科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20;G02B6/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人： | 魏曉剛 |
| 地址： | 中國臺*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 具有 光纖 模塊 光刻 裝置 | ||
1.一種具有光纖模塊的光刻裝置，包括：
一光源；
一光罩，位于該光源下方；
一透鏡，位于該光罩下方；
一基材平臺，位于該透鏡的下方，用于承載一晶圓，其中該晶圓之上具有一干膜；以及
一光纖模塊，具有一前表面，其中該光纖模塊位于該透鏡下方且于該基材平臺上方，該光纖模塊的該前表面和該晶圓上的該干膜表面之間，定義出一間隔，該間隔小于該光源的波長，以產(chǎn)生近場效應(yīng)，提升該光刻裝置的分辨率。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，光纖模塊與該透鏡相接合并且由該透鏡出射的光線完全進入該光纖模塊。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光刻裝置，其特征在于，還包括一光學材料位于該光纖模塊與該透鏡之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻裝置，其特征在于，該光學材料的折射率介于該光纖模塊的折射率和該透鏡的折射率之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，其中該干膜包括一光阻。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻裝置，其特征在于，該干膜包括一光阻和一高折射率材料，該光阻位于該高折射率材料的下方。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光刻裝置，其特征在于，該高折射率材料包括一抗反射層。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光刻裝置，其特征在于，該高折射率材料的厚度小于該光源的波長。
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