[發明專利]條形障壁及后基板的制作方法無效
| 申請號: | 200810116004.0 | 申請日: | 2008-07-01 |
| 公開(公告)號: | CN101620965A | 公開(公告)日: | 2010-01-06 |
| 發明(設計)人: | 田玉民;王勇 | 申請(專利權)人: | 四川虹歐顯示器件有限公司 |
| 主分類號: | H01J9/02 | 分類號: | H01J9/02;H01J9/24;H01J9/20;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京康信知識產權代理有限責任公司 | 代理人: | 吳貴明 |
| 地址: | 100085北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 條形 后基板 制作方法 | ||
1.一種條形障壁的制作方法,其特征在于,利用玻璃基板(11)自身形成所述條形障壁(15),所述玻璃基板與所述條形障壁為一體式結構。
2.根據權利要求1所述的條形障壁的制作方法,包括以下步驟:
a)在所述玻璃基板(11)上形成感光膠層(12);
b)將具有障壁圖形的掩模板(13)覆蓋在所述感光膠層(12)上;
c)對所述感光膠層(12)進行曝光操作以得到與所述掩模板(13)上的所述障壁圖形對應的圖形;
d)對具有所述障壁圖形的感光膠層(12)進行顯影;
e)對所述玻璃基板(11)進行蝕刻,并去除所述感光膠層(12)的殘留部分,從而得到所述條形障壁。
3.根據權利要求2所述的條形障壁的制作方法,其中,所述感光膠層(12)為抗酸性材料。
4.根據權利要求2所述的條形障壁的制作方法,其中,所述蝕刻使用氫氟酸進行。
5.一種后基板的制作方法,所述方法包括根據權利要求2所述的步驟,所述步驟(e)之后還包括如下步驟:
f)將電極材料直接施加在由所述玻璃基板(11)自身形成的所述條形障壁(15)的底部以作為尋址電極(21),同時沿所述條形障壁(15)的側壁施加相同的所述電極材料以形成線狀的引線,所述引線向上延伸到所述條形障壁(15)的外部;
g)在所述條形障壁(15)的內壁施加不透明介質(22);
h)在所述不透明介質(22)上施加熒光粉(23),從而形成所述后基板。
6.根據權利要求5所述的后基板的制作方法,其中,在步驟(f)中,通過噴涂的方法形成所述尋址電極(21)以及所述引線。
7.根據權利要求5所述的后基板的制作方法,其中,在步驟(g)中,通過噴涂或印刷的方法施加所述不透明介質(22)。
8.根據權利要求5所述的后基板的制作方法,其中,在步驟(h)中,通過噴涂或印刷的方法施加所述熒光粉(23)。
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