[發明專利]應用于移栽容器的穩壓系統

無效

• 申請號: 200810099800.8
• 申請日: 2008-06-16
• 公開（公告）號: CN101609257A
• 公開（公告）日: 2009-12-23
• 發明（設計）人: 陳俐殷;蔡銘貴;黃柏凱
• 申請（專利權）人: 億尚精密工業股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/00;H01L21/677;H01L21/673;H01L21/67;B65D85/00
• 代理公司: 北京中原華和知識產權代理有限責任公司
• 代理人: 壽 寧;張華輝

技術領域

本發明涉及一種可確保移載容器內、外氣壓平衡的技術領域的穩壓系統，特別是涉及一種可以防止移載容器內部產生負壓的應用于移載容器的穩壓系統，藉以進一步保護移載容器內部的物件。

背景技術

受到半導體制程技術不斷開發與成熟化的影響，晶圓的尺寸已由早期的3時、4時、6時、8時進展到12時，至于晶片上的集成電路的線徑則不斷的微細化，其線徑已由早期的0.25微米發展至90～45奈米，而使電子產品不斷朝向輕薄短小、高頻、高效能等的特性發展，這也代表半導體制程中所產生的不良率，對于廠商的損失也大幅的擴大，因此如何進一步的提高制程的優良率，是各半導體廠商不斷思考及研發的方向。

而影響其制程優良率的關鍵在于晶圓(Wafer)表面的微粒附著量與光掩膜(Reticle，光掩膜即光罩，本文均稱為光掩膜)表面的微粒、霧化等現象。而目前晶圓或光掩膜在制作、清洗、操作與儲存、運輸過程中，不論是置于移轉容器或無塵室的環境中，均存在有不少的微粒、水氣、氣體、化學溶劑分子等有害物質，這些有害物質會附著于晶圓或光掩膜的表面，且在經過長時間儲存或曝光制程的加熱后，會在晶圓或光掩膜的表面產生微粒附著、結晶、又或霧化等現象，這些現象均會造成晶圓良率的降低，且增加了清理與改善的時間，造成生產量降低，相對的也會提高營運的成本。

因此，為了解決上述問題，業界開發有如美國專利第US?4,532,970號與美國專利第US?4,534,389號的晶圓、光置密閉移轉系統，以確保周圓環境的微粒或有害物質不致進入緊鄰光掩膜與晶圓的環境中。

由于晶圓或光掩膜污損的原因除了微粒之外，更進一步包含環境中的水氣、有毒氣體、塑膠制移載容器所釋出的硫化物和制作過程中的有害物質，其會造成霧化與結晶的現象，故為了解決這些問題，業界則開發出在移載容器上加裝充、填氣的結構，可將干凈的惰性氣體注入該移載容器內以擠出有害氣體，同時進一步提升該移載容器的氣密性，以防止外部微粒進入、且防止干凈的惰性氣體流失，例如中國臺灣專利公告第223680號及第I262164號等，其均是通過對于該移載容器結構的改變，來提高移載容器的氣密性，但是在結構上進行氣密性的改良是一項重大的工程，不僅需要增加開發、制模與組裝的成本，而且受到材質、蓋合力與接觸面積等因素的影響，其并無法達到完全氣密的效果。因此發明人以前曾開發出一種循環氣流的光掩膜盒，通過同步注氣與排氣的循環氣流，來保持光掩膜盒內部的潔凈度。

然而發明人并未以此自滿，仍以尋求更完善產品予客戶為志業，進而發現該循環氣流系統在使用過程中可能因光掩膜盒內部流道與儲存光掩膜的影響，造成進氣量小于排氣量的現象，而使該光掩膜盒的內部空間與外部環境形成負壓，將影響到該光掩膜盒的開啟便利性，甚至造成無法有效的開啟，如果在機臺內運轉的過程中發生此一狀況，則可能造成制程機臺當機或損壞的狀況，從而影響到制程效率。再者，當光掩膜盒內部空間形成負壓時，其在開啟的瞬間，外部氣流會形成一股向內的強力氣流，此強力氣流可能刮傷光掩膜表面或使微粒或有害物質因氣流而揚起，進而附著于光掩膜的表面，造成后續制程中的不良品，由于此一問題同時存在于半導體制程中的其他容器中，如密封式的晶圓容置箱等，故確實有必要做進一步的改良。

由此可見，上述現有的移載容器在結構與使用上，顯然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進一步改進。為了解決上述存在的問題，相關廠商莫不費盡心思來謀求解決之道，但是長久以來一直未見適用的設計被發展完成，而一般產品又沒有適切結構能夠解決上述問題，此顯然是相關業者急欲解決的問題。因此如何能創設一種新型結構的應用于移載容器的穩壓系統，實屬當前重要研發課題之一，亦成為當前業界極需改進的目標。

有鑒于上述現有的移載容器存在的缺陷，本發明人基于從事相關產業研發、設計與制造多年豐富的實務經驗及專業知識，并配合學理的運用，積極加以研究創新，以期創設一種新型結構的應用于移載容器的穩壓系統，能讓前述晶圓或光掩膜的移載容器在充、填氣的過程中，有效地保持其內、外部氣壓的平衡，相信即可克服前述問題，能改進一般現有的移載容器，使其更具有實用性。經過不斷的研究、設計，并經過反復試作樣品及改進后，終于創設出確具實用價值的本發明。

發明內容

本發明的主要目的在于，克服現有的移載容器存在的缺陷，而提供一種新型結構的應用于移載容器的穩壓系統，所要解決的技術問題是使其可以讓移載容器在充、填氣的過程中其內、外部的氣壓保持平衡，能夠避免影響移載容器的開啟，非常適于實用。