[發(fā)明專利]磁記錄介質(zhì)和磁存儲(chǔ)設(shè)備無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810099507.1 | 申請(qǐng)日: | 2008-05-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101308669A | 公開(公告)日: | 2008-11-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 白鳥聰志;鐮田芳幸;木村香里 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社東芝 |
| 主分類號(hào): | G11B5/72 | 分類號(hào): | G11B5/72;G11B5/82 |
| 代理公司: | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 | 代理人: | 蹇煒 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 記錄 介質(zhì) 存儲(chǔ) 設(shè)備 | ||
相關(guān)申請(qǐng)
本公開涉及包含在2007年5月14日申請(qǐng)的日本專利申請(qǐng)2007-128318號(hào)中的主題,于此通過引用將其全文并入。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及圖案化伺服類型的磁記錄介質(zhì),其伺服部分圖案化,響應(yīng)是否提供了磁物質(zhì)或是否形成了溝槽,本發(fā)明還涉及設(shè)置有該磁記錄介質(zhì)的存儲(chǔ)設(shè)備。
背景技術(shù)
由于近年來諸如個(gè)人計(jì)算機(jī)的信息裝備的顯著的功能改善,用戶處理的信息量極大地增長(zhǎng)。在此環(huán)境下,需要記錄密度比傳統(tǒng)可利用的存儲(chǔ)設(shè)備的那些高得多的存儲(chǔ)設(shè)備和具有較高集成度的半導(dǎo)體設(shè)備。
存在作為實(shí)施在該存儲(chǔ)設(shè)備中部件的磁記錄介質(zhì)。作為適用于提高記錄密度的目的的最近的磁記錄介質(zhì),開發(fā)了其中記錄軌道被物理地分開的離散軌道類型的圖案化介質(zhì)(DTR介質(zhì))。該DTR介質(zhì)的示例在JP-A-7-085406中公開。
此DTR介質(zhì)通過形成在基底上的記錄軌道部分上的軟磁物質(zhì)構(gòu)成,在其上形成鐵磁物質(zhì)圖案,形成非磁性物質(zhì)以填充記錄軌道部分之間的空間,并且在鐵磁物質(zhì)圖案和非磁性物質(zhì)上形成保護(hù)層?;镜?,此配置也適用于伺服部分。
在傳統(tǒng)配置中的DTR介質(zhì)的伺服部分中,依賴于是否形成磁性物質(zhì)來形成伺服圖案。因此,通常執(zhí)行DC退磁以不使用伺服軌道寫入器。相反,在記錄軌道層上寫入數(shù)據(jù)中,通過使用磁頭寫入數(shù)據(jù)。
因此,在伺服部分中寫入伺服數(shù)據(jù)后,在通過使用磁頭寫入記錄數(shù)據(jù)中,存在這樣的問題:被寫入到伺服軌道上的伺服數(shù)據(jù)被磁頭覆蓋了。為了解決此問題,當(dāng)形成在伺服部分和記錄軌道上的保護(hù)層變厚時(shí),還存在這樣的問題:或者歸因于磁性間隔不能通過磁頭將記錄數(shù)據(jù)寫入到記錄軌道上,或者在重新產(chǎn)生被寫入到記錄軌道上的記錄數(shù)據(jù)中,回放信號(hào)被削弱了。
發(fā)明內(nèi)容
根據(jù)本發(fā)明的一方面,提供了一種磁記錄介質(zhì),其包括:基底;記錄層,形成在所述基底上,具有溝槽圖案;以及保護(hù)層,形成在所述記錄層上,填充所述溝槽圖案,其中規(guī)定所述記錄層具有保留伺服數(shù)據(jù)的伺服部分和保留記錄數(shù)據(jù)的記錄軌道部分,并且其中,在所述伺服部分的所述保護(hù)層的第一膜厚度比在所述記錄軌道部分的所述保護(hù)層的第二膜厚度大1nm到10nm的厚度范圍。
附圖說明
附圖中:
圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例的磁記錄介質(zhì)的部分橫截面視圖;
圖2是示出制造磁記錄介質(zhì)的步驟的視圖;
圖3是示出制造磁記錄介質(zhì)的步驟的視圖;
圖4是示出制造磁記錄介質(zhì)的步驟的視圖;
圖5是示出制造磁記錄介質(zhì)的步驟的視圖;
圖6是示出制造磁記錄介質(zhì)的步驟的視圖;
圖7是示出制造圖1中的磁記錄介質(zhì)的步驟的視圖;
圖8是示出制造磁記錄介質(zhì)的步驟的視圖;以及
圖9是示例磁存儲(chǔ)設(shè)備的示意性配置的相關(guān)透視圖。
具體實(shí)施方式
將參照附圖描述本發(fā)明的實(shí)施例。
圖1是示出DTR介質(zhì)的伺服部分和軌道部分中的圖案的示例的橫截面視圖。
鐵磁體2經(jīng)由軟磁層(未示出)形成在基底以上在記錄軌道部分和伺服部分處。鐵磁體層2在記錄軌道部分中用作保留記錄數(shù)據(jù)的記錄層,而鐵磁體層2在伺服部分中用作保留伺服數(shù)據(jù)的記錄層。軟磁層執(zhí)行磁頭的功能的一部分,使得傳遞從例如單極頭的磁頭應(yīng)用的記錄磁場(chǎng),以磁化鐵磁體層2作為垂直磁記錄層,在水平方向返回到磁頭。軟磁層能夠施加陡峭(sharp)和足夠垂直的磁場(chǎng)到記錄層并因此提高記錄/播放效率。
作為基底1的材料,能夠使用例如Al合金基底、具有氧化表面的陶瓷、碳、硅單晶基底、鍍有NiP等的這些基底的任何一個(gè)等。作為玻璃基底,存在非晶玻璃和晶化玻璃,并且堿石灰玻璃和硅鋁酸鹽玻璃能夠用作非晶玻璃。還有,作為晶化玻璃,能夠使用鋰晶化玻璃。作為陶瓷基底,能夠使用含有普通氧化鋁、氮化鋁、氮化硅等作為主要成分的燒結(jié)合金、它們的纖維加強(qiáng)的合金等。作為基底,能夠使用金屬基底或在其表面上通過電鍍方法或?yàn)R射方法形成有NiP層的非金屬基底。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于株式會(huì)社東芝,未經(jīng)株式會(huì)社東芝許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/200810099507.1/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G11B 基于記錄載體和換能器之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)而實(shí)現(xiàn)的信息存儲(chǔ)
G11B5-00 借助于記錄載體的激磁或退磁進(jìn)行記錄的;用磁性方法進(jìn)行重現(xiàn)的;為此所用的記錄載體
G11B5-004 .磁鼓信息的記錄、重現(xiàn)或抹除
G11B5-008 .磁帶或磁線信息的記錄、重現(xiàn)或抹除
G11B5-012 .磁盤信息的記錄、重現(xiàn)或抹除
G11B5-02 .記錄、重現(xiàn)或抹除的方法及其讀、寫或抹除的電路
G11B5-10 .磁頭的外殼或屏蔽罩的結(jié)構(gòu)或制造
- 動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)管理裝置及方法
- 一種存儲(chǔ)方法、服務(wù)器及存儲(chǔ)控制器
- 一種基于存儲(chǔ)系統(tǒng)的控制方法及裝置
- 一種信息的存儲(chǔ)控制方法
- 一種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)方法及裝置
- 數(shù)據(jù)存儲(chǔ)方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備以及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 一種數(shù)據(jù)存儲(chǔ)控制方法及裝置
- 存儲(chǔ)設(shè)備、存儲(chǔ)系統(tǒng)及存儲(chǔ)方法
- 物料存儲(chǔ)方法及系統(tǒng)
- 基于雙芯智能電表的數(shù)據(jù)分類存儲(chǔ)方法和裝置
- 傳感設(shè)備、檢索設(shè)備和中繼設(shè)備
- 簽名設(shè)備、檢驗(yàn)設(shè)備、驗(yàn)證設(shè)備、加密設(shè)備及解密設(shè)備
- 色彩調(diào)整設(shè)備、顯示設(shè)備、打印設(shè)備、圖像處理設(shè)備
- 驅(qū)動(dòng)設(shè)備、定影設(shè)備和成像設(shè)備
- 發(fā)送設(shè)備、中繼設(shè)備和接收設(shè)備
- 定點(diǎn)設(shè)備、接口設(shè)備和顯示設(shè)備
- 傳輸設(shè)備、DP源設(shè)備、接收設(shè)備以及DP接受設(shè)備
- 設(shè)備綁定方法、設(shè)備、終端設(shè)備以及網(wǎng)絡(luò)側(cè)設(shè)備
- 設(shè)備、主設(shè)備及從設(shè)備
- 設(shè)備向設(shè)備轉(zhuǎn)發(fā)





