[發明專利]磁記錄介質和磁存儲設備無效
| 申請號： | 200810099507.1 | 申請日： | 2008-05-13 |
| 公開（公告）號： | CN101308669A | 公開（公告）日： | 2008-11-19 |
| 發明（設計）人： | 白鳥聰志;鐮田芳幸;木村香里 | 申請（專利權）人： | 株式會社東芝 |
| 主分類號： | G11B5/72 | 分類號： | G11B5/72;G11B5/82 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 | 代理人： | 蹇煒 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 記錄 介質 存儲 設備 | ||
1、一種磁記錄介質，其包括：
基底；
記錄層，形成在所述基底上，由溝槽圖案圍繞；以及
保護層，形成在所述記錄層上，以填充所述溝槽圖案，
其中，所述記錄層包括在保留伺服數據的伺服部分和保留記錄數據的記錄軌道部分中，以及
其中，在所述伺服部分處的所述保護層的厚度比在所述記錄軌道部分處的所述保護層的厚度大1nm到10nm的范圍。
2、如權利要求1所述的介質，其中，所述保護層包括選自包含Ni、Nb、Cu、Hf、Zr、Cr、Ru、Pt、Pd、Ti、Ta、Mo、及W的組的金屬材料和所述金屬材料的合金。
3、一種磁存儲設備，包括：
磁記錄介質，其中記錄有數據；以及
浮置在所述磁記錄介質上并且訪問所述數據的磁頭，
其中，所述磁記錄介質包括：
基底；
記錄層，形成在所述基底上，由溝槽圖案圍繞；以及
保護層，形成在所述記錄層上，以填充所述溝槽圖案，
其中，所述記錄層包括在保留伺服數據的伺服部分和保留記錄數據的記錄軌道部分中，以及
其中，在所述伺服部分處的所述保護層的厚度比在所述記錄軌道部分處的所述保護層的厚度大1nm到10nm的范圍。
4、如權利要求3所述的設備，其中，所述保護層包括選自包含Ni、Nb、Cu、Hf、Zr、Cr、Ru、Pt、Pd、Ti、Ta、Mo、及W的組的金屬材料和所述金屬材料的合金。
5、如權利要求3所述的設備，其中，所述磁記錄層還包括形成在所述記錄層以下的軟磁層，以及
其中，所述軟磁層包括選自包含CoZr合金、CoZrNb合金、及CoZrTa合金的組的非晶軟磁材料。
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