[發明專利]研磨方法、研磨墊及研磨系統有效
| 申請號： | 200810099176.1 | 申請日： | 2008-05-13 |
| 公開（公告）號： | CN101579838A | 公開（公告）日： | 2009-11-18 |
| 發明（設計）人： | 王裕標 | 申請（專利權）人： | 智勝科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B24B29/02 | 分類號： | B24B29/02;B24B37/04;B24D13/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人： | 陳 亮 |
| 地址： | 臺灣省臺*** | 國省代碼： | 中國臺灣;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 研磨 方法 系統 | ||
1.一種研磨方法，包括：
提供一研磨墊，其中該研磨墊上具有多個溝槽，每一溝槽的寬度為W，且 相鄰兩溝槽之間的間距為P；
設定一物件在該研磨墊上的一擺動距離，其中該擺動距離使該物件上任一 特定點與其中心點間的方向，垂直于該些溝槽切線方向位置時，經過的溝槽次 數相同；以及
以該擺動距離對該物件進行一研磨步驟。
2.如權利要求1所述的研磨方法，其特征在于，該擺動距離其中N為正整數。
3.如權利要求1至2項中任一權利要求所述的研磨方法，其特征在于，該 研磨墊為圓形研磨墊。
4.如權利要求3所述的研磨方法，其特征在于，該些溝槽為多個同心圓溝 槽。
5.如權利要求4所述的研磨方法，其特征在于，該擺動的方向為該些同心 圓溝槽的徑向。
6.如權利要求1至2項中任一權利要求所述的研磨方法，其特征在于，該 研磨墊為帶狀研磨墊。
7.如權利要求6所述的研磨方法，其特征在于，該些溝槽為多個直線型溝 槽。
8.如權利要求7所述的研磨方法，其特征在于，該擺動的方向為垂直于該 些直線型溝槽的縱向。
9.一種研磨方法，包括：
提供一研磨墊，其中該研磨墊上具有多個溝槽，每一溝槽的寬度為W，且 相鄰兩溝槽之間的間距為P；
設定一物件在該研磨墊上的一擺動距離其中N為正整數； 以及
以該擺動距離對該物件進行一研磨步驟。
10.如權利要求9所述的研磨方法，其特征在于，該研磨墊為圓形研磨墊。
11.如權利要求10所述的研磨方法，其特征在于，該些溝槽為多個同心圓 溝槽。
12.如權利要求11所述的研磨方法，其特征在于，該擺動的方向為該些同 心圓溝槽的徑向。
13.如權利要求9所述的研磨方法，其特征在于，該研磨墊為帶狀研磨墊。
14.如權利要求13所述的研磨方法，其特征在于，該些溝槽為多個直線型 溝槽。
15.如權利要求14所述的研磨方法，其特征在于，該擺動的方向為垂直于 該些直線型溝槽的縱向。
16.一種研磨墊，用于對一物件進行一研磨制程，且在該研磨制程過程中， 該物件在該研磨墊上有一擺動距離D，該研磨墊包括：
多個溝槽，每一溝槽的寬度W以及相鄰兩溝槽之間的間距P滿足其中N為正整數。
17.如權利要求16所述的研磨墊，其特征在于，該擺動距離D為25.4mm。
18.如權利要求16至17項中任一權利要求所述的研磨墊，其特征在于，該 研磨墊為圓形研磨墊。
19.如權利要求18所述的研磨墊，其特征在于，該些溝槽為多個同心圓溝 槽。
20.如權利要求19所述的研磨墊，其特征在于，該擺動的方向為該些同心 圓溝槽的徑向。
21.如權利要求16至17項中任一權利要求所述的研磨墊，其特征在于，該 研磨墊為帶狀研磨墊。
22.如權利要求21所述的研磨墊，其特征在于，該些溝槽為多個直線型溝 槽。
23.如權利要求22所述的研磨墊，其特征在于，該擺動的方向為垂直于該 些直線型溝槽的縱向。
24.一種研磨系統，包括：
一研磨墊，該研磨墊上具有多個溝槽，且每一溝槽的寬度為W，且相鄰兩 溝槽之間的間距為P；以及
一物件，設置在該研磨墊上，且該物件在該研磨墊上有一擺動距離D，其 中該擺動距離N為正整數。
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