[發(fā)明專利]酚類化合物的活性醚化物及其制備

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810098637.3
• 申請日: 2008-06-03
• 公開（公告）號: CN101597219A
• 公開（公告）日: 2009-12-09
• 發(fā)明（設計）人: 余尚先;叢培軍;劭正春;楊金瑞;王大偉;顧江楠;叢明明
• 申請（專利權）人: 威海經濟技術開發(fā)區(qū)天成化工有限公司
• 主分類號: C07C43/303
• 分類號: C07C43/303;C07C41/54;C07C69/92;C07C67/30;C07C49/84;C07C45/61;C07C317/22;C07D309/10
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所
• 代理人: 劉金輝;李小梅

技術領域

本發(fā)明涉及酚類化合物的活性醚化物及其制備。具體而言，本發(fā)明涉及一元、二元或多元酚化合物用乙烯基醚化合物醚化得到的化合物。此外，本發(fā)明還涉及一種制備所述活性醚化物的方法。

背景技術

以往陽圖無預熱熱敏計算機直接制版(computer?to?plate，下文中簡稱為“CTP”)版材多采用物理變化原理，如利用背景染料和紅外染料的阻溶作用，或另加入一些能與成膜線型酚樹脂發(fā)生氫鍵締合的物質，實現熱掃描成像。2001年本發(fā)明第一發(fā)明人及所在研究所開始研究常溫具有高酸解活性(亦稱常溫化學增幅型)的醚化物作為阻溶/促溶劑來制作熱敏CTP版材的技術，并申請了一系列專利(02117827.5，02160050.3，03143500.9，01123686.8)。不過所申請的專利中除了01123686.8專利是采用低分子量多酚縮聚物作為醚化母體外，多數專利是以重均分子量大于2000的線型酚樹脂，如聚對羥基苯乙烯(M_W＝12000)和線型酚醛樹脂(M_W＝2000～10000)為醚化母體，醚化試劑多采用乙烯基乙基醚和二氫吡喃，所用溶劑為氯代物-環(huán)醚化合物的復合溶劑體系。這一點和更以前富士膠片公司為光致抗蝕劑合成阻溶/促溶所用單一溶劑-四氫呋喃的方法有很大不同(日本公開特許公報平-10-133378)。但是由于使用分子量較高的醚化母體，醚化率一般不能做得太高，否則由它們配制的成像配合物感度太低，也無法順利進行堿顯影。即使一般利用陽圖PS版封孔過的版基也需預涂一層底涂層才能解決留底臟的問題。本發(fā)明以它們?yōu)楸尘凹夹g，借鑒以往這些專利成功的經驗，吸取其優(yōu)點，努力克服其缺點，提出用分子量在100～400之間的低分子量酚類化合物作為醚化母體，加入大于酚羥基摩爾數的醚化試劑，盡量得到醚化率接近100％的醚化物。這樣一方面使醚化產物自身的貯存穩(wěn)定性大為改善，另一方面所配制的成像配合物可以獲得更高的感度和掃描前后更大的差別溶解度，從而明顯地提高了顯影寬容度，用一般封孔過的陽圖PS版版基即可直接涂出顯影性能很好的陽圖無預熱熱敏CTP版材，這也是本發(fā)明和以往技術主要的不同點。

發(fā)明內容

鑒于現有技術中存在的上述問題，本發(fā)明提供了一類新的化合物，制備該化合物所用的酚類化合物的分子量在100-400，醚化率接近100％，所述新化合物是在常溫下具有高酸解活性的醚化物，可以在成像制版中用作阻溶/促溶劑。

根據本發(fā)明的第一個方面，提供了如下通式(I)化合物，

式中X是-CH₂-、-O-、-S-、

R₁是-CH₃、-CH₂Cl、-Ph、-OC₃H₇或

R₂各自獨立地為H、C₁-C₄烷基或-OR₄，優(yōu)選為氫、甲基或-OR₄，

R₃各自獨立地為H、C₁-C₄烷基或鹵素，優(yōu)選為氫、甲基、氯或溴，

R₅各自獨立地為H、C₁-C₄烷基或鹵素，優(yōu)選為氫、甲基或溴，

R₄是C₁-C₆烷基-O-CH(CH₃)-或

在優(yōu)選實施方案中，式(I)化合物尤其為選自如下的化合物：

在本發(fā)明中，鹵素應理解為指氟、氯、溴和碘，優(yōu)選氯和溴。

C₁-C₄烷基應理解為指包含1-4個碳原子的直鏈或支鏈烷基，其實例包括甲基、乙基、丙基、異丙基、正丁基、異丁基、仲丁基和叔丁基，優(yōu)選甲基和乙基。

C₁-C₆烷基應理解為指包含1-6個碳原子的直鏈或支鏈烷基，該烷基的實例除了上一段落為C₁-C₄烷基所列舉的各個烷基之外，還包括正戊基、異戊基、仲戊基、叔戊基、新戊基、正己基和仲己基等，優(yōu)選甲基和乙基。

根據本發(fā)明的第二個方面，提供了一種制備本發(fā)明通式(I)化合物的方法，該方法的特征在于：