[發(fā)明專利]利用長程濺射制作液晶取向膜的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810098541.7 | 申請日: | 2005-06-03 |
| 公開(公告)號: | CN101280419A | 公開(公告)日: | 2008-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 官大雙;張逸明;林佳德;詹佳璁 | 申請(專利權(quán))人: | 聯(lián)誠光電股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/34 | 分類號: | C23C14/34;C23C14/06;G02F1/1337 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 | 代理人: | 陶鳳波 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 利用 長程 濺射 制作 液晶 取向 方法 | ||
本申請是申請日為2005年6月3日且發(fā)明名稱為“利用長程濺射制作液晶取向膜的方法”的中國專利申請No.200510074786.2的分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種制作液晶取向膜的方法,特別是涉及一種利用長程濺射(long-throw?sputtering)或準(zhǔn)直管(collimator)制作液晶取向膜的方法。
背景技術(shù)
隨著數(shù)字網(wǎng)絡(luò)科技的發(fā)展,數(shù)字信息設(shè)備已逐漸地影響二十一世紀(jì)人類的工作與生活。在液晶顯示(LCD)屏幕已廣泛地應(yīng)用在日常生活中的各個(gè)層面中,LCD面板產(chǎn)業(yè)除了原本以筆記型計(jì)算機(jī)(NB)作為核心應(yīng)用外,更朝向包括可攜式消費(fèi)型影音產(chǎn)品、移動(dòng)電話及液晶電視機(jī)等信息家電的市場應(yīng)用全力發(fā)展。LCD屏幕的畫質(zhì)雖然已接近技術(shù)成熟的CRT屏幕,但仍有視角、對比、顯示均勻性等問題需加以改善,而應(yīng)用在液晶電視等高密度、高精細(xì)化、大尺寸產(chǎn)品的開發(fā)上,更有應(yīng)答速度、色再現(xiàn)性等問題要克服。而在液晶面板中有關(guān)液晶取向的控制技術(shù)、取向膜的評估技術(shù)研究,即直接地與上述的問題息息相關(guān),所以取向膜的制造控制技術(shù)有其相當(dāng)?shù)闹匾浴?/p>
一般而言,液晶分子排列方式粗分為三種。第一種為液晶分子長軸平行于取向膜,稱為同質(zhì)取向(homogeneous?alignment),第二種為長軸垂直正交于取向膜上,稱為異質(zhì)取向(hetergeneous?alignment)或垂直取向(verticalalignment)。但在大部分液晶屏幕的實(shí)際應(yīng)用上,則為第三種排列方式,亦即液晶分子與取向膜表面呈某一角度的傾斜(即預(yù)傾角,pre-tilt?angle)。預(yù)傾角是影響LCD顯示特性的重要參數(shù),主要取決于(1)取向膜的物化作用力,如氫鍵(hydrogen?bond)、凡得瓦力(Van?der?Waals?force)及偶極偶極力(dipole-dipole?force);(2)機(jī)械力效應(yīng),即溝槽(groove)或取向膜表面型態(tài)。
現(xiàn)有用于液晶的取向膜的制造于基板上鍍上一層有機(jī)取向材料,例如聚亞酰膜(polyimide,PI),然后利用特制刷布(rubbing?cloth)以一定刷拭方向及壓力刷過沉積于基板上的PI膜,于其上形成許多極細(xì)的溝槽結(jié)構(gòu),使將來液晶分子可以順著這些溝槽方向排列。然而,現(xiàn)有這種需以機(jī)械接觸方式刷拭取向膜的方法存有許多缺點(diǎn)。例如,刷布與PI膜接觸的力道不均,以及所形成的溝槽分布皆會(huì)影響到取向膜的均一性,進(jìn)而影響到將來液晶顯示面板的顯示品質(zhì),另外PI膜的穿透率問題,造成光線不易穿透PI膜,也影響到液晶顯示面板的品質(zhì)。此外,現(xiàn)有利用機(jī)械方式亦會(huì)導(dǎo)入污染物質(zhì),而需在刷拭過程后,再加入清洗步驟。因此,現(xiàn)有利用機(jī)械方式來制作液晶取向膜不僅工藝繁瑣,耗費(fèi)成本,而且工藝成品率普遍不易提升。
發(fā)明內(nèi)容
因此本發(fā)明的主要目的在于供一種制作均一性的液晶取向膜的方法以解決上述現(xiàn)有的問題。
根據(jù)本發(fā)明的一優(yōu)選實(shí)施例,本方法包括將一基底置于一反應(yīng)室內(nèi)的一基底乘座上,再利用一高密度等離子體轟擊設(shè)于基底上方的一靶材,以產(chǎn)生一濺射物質(zhì),同時(shí)于反應(yīng)室內(nèi)提供一偏壓,以使濺射物質(zhì)提供一近似垂直的濺射方向,且濺射物質(zhì)依此濺射方向沉積于基底表面以形成一液晶取向膜,其中靶材與基底間的距離大于20厘米。
根據(jù)本發(fā)明另一優(yōu)選實(shí)施例,本方法包括將一基底置于一反應(yīng)室內(nèi)的一基底乘座上,再利用一高密度等離子體轟擊設(shè)于基底上方的一靶材,以產(chǎn)生一濺射物質(zhì),同時(shí)于基底與靶材之間提供一準(zhǔn)直管,以使濺射物質(zhì)依照一特定濺射方向沉積于基底表面以形成一液晶取向膜。
由于本發(fā)明可以使用無機(jī)的取向材料來形成靶材,并且利用濺射的方法來制作液晶取向膜,不但排除了現(xiàn)有技術(shù)的取向膜低透光率問題、擦印所造成的擦痕以及取向膜不均一等問題,進(jìn)一步提升取向膜的產(chǎn)率與品質(zhì)來降低制作成本。
附圖說明
圖1為一般濺射制作液晶取向膜的方法。
圖2以及圖3為本發(fā)明的利用長程濺射制作液晶取向膜的方法。
圖4以及圖5為本發(fā)明的利用準(zhǔn)直管制作液晶取向膜的方法。
簡單符號說明
10??????反應(yīng)室????????????????12??????靶材
14??????基底乘座??????????????16??????基底
30??????反應(yīng)室????????????????32??????靶材
34??????基底乘座??????????????36??????基底
38??????角度??????????????????50??????反應(yīng)室
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





