[發(fā)明專利]照射設(shè)備、半導(dǎo)體制造設(shè)備與方法和顯示裝置制造方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 200810097038.X
• 申請日: 2008-05-12
• 公開（公告）號: CN101303969A
• 公開（公告）日: 2008-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 月原浩一
• 申請（專利權(quán)）人: 索尼株式會社
• 主分類號: H01L21/00
• 分類號: H01L21/00;H01L21/20;H01L21/268;H01L21/324;B23K26/00;B23K26/06;G02B26/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務(wù)所
• 代理人: 彭久云

1.一種使用從半導(dǎo)體激光器發(fā)射的光束照射照射目標(biāo)的照射設(shè)備，

其中令w為用于照射所述照射目標(biāo)的光束半徑，Δ為所述半導(dǎo)體激光器 的發(fā)散角度的個體差異率，而λ為所述半導(dǎo)體激光器的光束波長，

夾置在所述半導(dǎo)體激光器與所述照射目標(biāo)之間的照射光學(xué)系統(tǒng)的焦點 位置被散焦，使得所述照射目標(biāo)夾置在所述照射光學(xué)系統(tǒng)和所述焦點位置之 間，所述焦點位置和所述照射目標(biāo)之間的距離z為

公式1：z=π·w2λ·1-Δ2(1-Δ2)2+1.]]>

2.一種進(jìn)行退火處理的半導(dǎo)體裝置制造設(shè)備，其中照射目標(biāo)用從半導(dǎo) 體激光器發(fā)射的光束照射，以便改性在所述照射目標(biāo)中的半導(dǎo)體膜，

其中令w為用于照射所述照射目標(biāo)的光束半徑，Δ為所述半導(dǎo)體激光器 的發(fā)散角度的個體差異率，而λ為所述半導(dǎo)體激光器的光束波長，

夾置在所述半導(dǎo)體激光器與所述照射目標(biāo)之間的照射光學(xué)系統(tǒng)的焦點 位置被散焦，使得所述照射目標(biāo)夾置在所述照射光學(xué)系統(tǒng)和所述焦點位置之 間，所述焦點位置和所述照射目標(biāo)之間的距離z為

公式2：z=π·w2λ·1-Δ2(1-Δ2)2+1.]]>

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體裝置制造設(shè)備，其中所述半導(dǎo)體激光 器具有大面積型發(fā)射器，并且光束直徑定義在垂直于所述發(fā)射器的長度方向 的方向上。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體裝置制造設(shè)備，

其中所述照射光學(xué)系統(tǒng)包括：

準(zhǔn)直透鏡，用于準(zhǔn)直來自大面積型半導(dǎo)體激光器的光通量；

均勻化光學(xué)系統(tǒng)，用于在所述半導(dǎo)體激光器的發(fā)射器的長度方向上均勻 化光通量；

聚光透鏡，用于使用通過所述均勻化光學(xué)系統(tǒng)獲得的光通量來照射所述 照射目標(biāo)；以及

縮減光學(xué)系統(tǒng)，用于在垂直于所述發(fā)射器的長度方向的方向上減少所述 光通量的直徑。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體裝置制造設(shè)備，還包括：

工作臺，用于在垂直于所述半導(dǎo)體激光器的大面積方向的方向上移動所 述照射目標(biāo)；以及

多個所述半導(dǎo)體激光器和多個所述照射光學(xué)系統(tǒng)；

其中所述半導(dǎo)體激光器彼此平行地發(fā)射光束。