[發明專利]垂直磁記錄介質及方法有效
| 申請號: | 200810095953.5 | 申請日: | 2008-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN101369429A | 公開(公告)日: | 2009-02-18 |
| 發明(設計)人: | 埃里克·E·富勒頓;奧拉夫·赫爾維格 | 申請(專利權)人: | 日立環球儲存科技荷蘭有限公司 |
| 主分類號: | G11B5/73 | 分類號: | G11B5/73;G11B5/82;G11B5/855 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 | 代理人: | 張波 |
| 地址: | 荷蘭阿*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 垂直 記錄 介質 方法 | ||
技術領域
本發明總體上涉及圖案化垂直磁記錄介質,例如,磁記錄硬盤驅動器中采用的磁盤,更具體而言,涉及其中數據位存儲在相互隔離的升高磁數據島上的圖案化磁盤,其中,所述升高的磁數據島通過凹陷的非磁區域相互隔離。
背景技術
有人提出了具有圖案化磁記錄介質的磁記錄硬盤驅動器來提高數據密度。在圖案化介質中,將磁盤上的磁記錄層圖案化成布置在同心數據道內的隔離數據島。圖案化介質盤可以是磁化方向平行于記錄層或者處于記錄層所在平面內的縱向磁記錄盤,或者可以是磁化方向垂直于記錄層或者離開記錄層的平面的垂直磁記錄盤。為了形成所要求的圖案化數據島的磁隔離,必須破壞島之間的空間的磁矩,或者使之顯著降低,從而這些空間實質呈現非磁特性。在一種類型的圖案化介質中,數據島是升高的、間隔開的柱,在磁盤襯底表面之上延伸,從而在柱(pillar)之間的襯底表面上界定槽或溝槽。這種類型的圖案化介質之所以引起人們的興趣是因為能夠以較低的成本以及諸如光刻和納米壓印的大批量工藝制造預蝕刻的柱和溝槽圖案的襯底。之后,在預蝕刻襯底的整個表面上淀積磁記錄層材料,使之覆蓋所述柱的末端和所述溝槽。人們認為,由于所述溝槽是凹陷的,因而離讀取/寫入頭足夠遠,不會對讀取或寫入造成不利影響。在美國專利6440520和作者為Moritz等的“Patterned?Media?Made?From?Pre-Etched?Wafers:A?Promising?Route?TowardUltrahigh-Density?Magnetic?Recording”,IEEE?Transactions?on?Magnetics,Vol.38,No.4,July?2002,pp.1731-1736中公開了這種類型的圖案化介質。這種類型的在柱末端上具有垂直磁化的圖案化介質據信為超高密度磁記錄提供了機會。但是,已經發現溝槽中的磁材料在讀回信號中產生了噪聲,而且還對單獨數據位的寫入(即,磁化柱末端上的記錄材料)帶來了負面影響。
2006年11月10日提交的被轉讓給與本申請相同的受讓人的待審查美國申請11/558846公開了一種圖案化垂直磁記錄介質,其允許采用帶有圖案化柱的預蝕刻襯底。所述襯底具有處于溝槽內的材料,該材料在退火過程中擴散到溝槽內的磁記錄層材料內。所述擴散材料與記錄層材料內的一種或多種元素發生化學反應或相互擴散,從而使所述溝槽具有非磁特性或者具有顯著降低的磁矩。必須仔細控制退火工藝的時間和溫度,以確保不會對柱上的記錄層造成負面影響。
需要一種圖案化垂直磁記錄介質,其溝槽通過擴散材料與記錄層材料的化學反應而呈現非磁特性,還需要一種用于防止擴散材料與柱上的記錄層材料發生化學反應的制造工藝。
發明內容
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