[發(fā)明專利]光學(xué)檢測(cè)缺陷后的路徑規(guī)劃方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 200810094668.1 | 申請(qǐng)日: | 2008-04-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN101571493A | 公開(公告)日: | 2009-11-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳詩(shī)涌;沈家麟 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 臺(tái)達(dá)電子工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G01N21/88 | 分類號(hào): | G01N21/88;G06F17/50 |
| 代理公司: | 北京安信方達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 龍 洪;霍育棟 |
| 地址: | 臺(tái)灣省桃園縣龜*** | 國(guó)省代碼: | 中國(guó)臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 光學(xué) 檢測(cè) 缺陷 路徑 規(guī)劃 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明是有關(guān)一種缺陷檢測(cè)后的路徑規(guī)劃方法,尤指應(yīng)用于光學(xué)機(jī)臺(tái)進(jìn)行檢測(cè)、檢視與修復(fù)受檢物的缺陷的路徑規(guī)劃。
背景技術(shù)
以現(xiàn)在對(duì)于一個(gè)平板狀、平面狀的成品而言,在其良率的檢測(cè)上最常使用的便是自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)(Automated?Optical?Inspection?System)。此系統(tǒng)通常還包含缺陷檢出機(jī)臺(tái)、缺陷檢視機(jī)臺(tái)、缺陷修復(fù)機(jī)臺(tái)、資料庫(kù)、顯示裝置等等,其中缺陷檢出機(jī)臺(tái)是在一成品上多以線性掃描的方式建立成品的影像,并利用影像處理技術(shù)找出輸入影像的缺陷的位置,再將被找出的缺陷的資料(通常是坐標(biāo))儲(chǔ)存于資料庫(kù)內(nèi)。之后,缺陷檢視裝置則移動(dòng)到各個(gè)缺陷的所在位置上以人工的方式做進(jìn)一步的檢視,通過(guò)缺陷檢視機(jī)臺(tái)所具有的較高解析度的光學(xué)元件,可以更加清楚的查看某一缺陷的更細(xì)微的狀態(tài),并可單獨(dú)為該缺陷作成影像檔案,以利如品管人員分析缺陷的成因,并決定此一缺陷可否修復(fù),以及修復(fù)的方法。在對(duì)缺陷進(jìn)行檢視之后,即再移動(dòng)缺陷修復(fù)裝置至各個(gè)缺陷的位置進(jìn)行修復(fù)。
請(qǐng)參閱圖1,為已知的自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)系統(tǒng)上各機(jī)臺(tái)的運(yùn)作平面示意圖。其中圖1揭露了缺陷檢出機(jī)臺(tái)上的取像裝置2、缺陷檢視機(jī)臺(tái)的檢視裝置3、與缺陷修復(fù)機(jī)臺(tái)的修復(fù)裝置4,一般而言檢視裝置3與修復(fù)裝置4均同屬于一光學(xué)檢修機(jī)臺(tái)(圖中未揭示)內(nèi)。另外,其中在使用缺陷檢出機(jī)臺(tái)時(shí),受檢物1由圖面上方至下方移動(dòng)同時(shí)被缺陷檢出機(jī)臺(tái)的取像裝置2(一線掃瞄CCD)掃描。掃描完成后,缺陷檢出機(jī)臺(tái)將掃描后的影像進(jìn)行影像處理,從而得到如圖所示的第一缺陷X1至第八缺陷X8。此一排列順序的緣由是缺陷檢出機(jī)臺(tái)本身也屬于掃描器的一種,而其對(duì)于被掃描物的各點(diǎn)坐標(biāo)的定義優(yōu)先順序是先左至右、后上至下,因此如圖所示的各缺陷被標(biāo)為第一缺陷X1至第八缺陷X8。
請(qǐng)繼續(xù)參閱圖1,在將各個(gè)缺陷檢查出來(lái)之后,便是要針對(duì)各個(gè)缺陷逐一檢視,以已知技術(shù)而言,缺陷的檢視通常也遵循著之前缺陷檢出機(jī)臺(tái)的掃描定義,先左至右、后上至下,因此,缺陷檢視裝置3是以第一缺陷X1至第八缺陷X8的順序逐一檢視各個(gè)缺陷,缺陷修復(fù)裝置4也以此類推。所以第一缺陷X1至第八缺陷X8形成一第一路徑P1。
然而,如此由第一缺陷X1、第二缺陷X2乃至于第八缺陷X8的第一路徑P1依序檢視、修復(fù)受檢物1上的各個(gè)缺陷,勢(shì)必導(dǎo)致缺陷檢視裝置3與缺陷修復(fù)裝置4的移動(dòng)距離過(guò)長(zhǎng),而缺陷檢視裝置3與缺陷修復(fù)裝置4幾乎都是既大又精密的儀器,因此無(wú)法兼顧移動(dòng)速度與定位準(zhǔn)確度,若要兼顧之則會(huì)導(dǎo)致此二種儀器的體積更加巨大而成本更高,故現(xiàn)有技術(shù)的缺陷檢視裝置3與缺陷修復(fù)裝置4本身的移動(dòng)速度都很慢,而若是以圖1所示的第一路徑P1移動(dòng)則是更加的緩慢。
由此可見(jiàn),一旦檢視、修復(fù)的路徑很長(zhǎng),勢(shì)必導(dǎo)致整個(gè)檢測(cè)作業(yè)的時(shí)間拉長(zhǎng),這對(duì)于受檢物1所代表的產(chǎn)品來(lái)說(shuō)就是時(shí)間成本的增加,累積下來(lái)的結(jié)果將導(dǎo)致產(chǎn)能無(wú)法提升,因此,如何加速整個(gè)自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)程序,便成為一個(gè)重要的課題。
因此,申請(qǐng)人鑒于前述已知技術(shù)的缺陷,經(jīng)過(guò)反復(fù)推敲而提出本案,以下為本案的簡(jiǎn)要說(shuō)明。
發(fā)明內(nèi)容
為了達(dá)到上述目的,本案提出一種光學(xué)缺陷檢測(cè)后的路徑規(guī)劃方法,包括下列步驟(1)提供一受檢物;(2)將該受檢物置于一光學(xué)檢測(cè)機(jī)臺(tái)上;(3)以該光學(xué)檢測(cè)機(jī)臺(tái)掃描該受檢物;(4)在該受檢物上檢測(cè)出數(shù)個(gè)缺陷;(5)提供一數(shù)值運(yùn)算模型,得到一條連接該一個(gè)以上的缺陷位置的一路徑。
如上所述的方法,還包含一步驟(6),即將該路徑提供一缺陷修復(fù)機(jī)臺(tái)使用。
如上所述的方法,該步驟(6),還包含一步驟(6-1),即將該路徑提供一缺陷檢視機(jī)臺(tái)使用。
如上所述的方法,還包含一步驟(7),即將該路徑儲(chǔ)存于一資料庫(kù)內(nèi)。
如上所述的方法,該步驟(4),還包含一步驟(4-1),即將該數(shù)個(gè)缺陷的資料儲(chǔ)存于一資料庫(kù)內(nèi)。
如上所述的方法,其中該步驟(6)所述的該路徑,具有一起點(diǎn)。
如上所述的方法,其中該起點(diǎn)是自該數(shù)個(gè)缺陷中,選擇一最接近一缺陷修復(fù)裝置者。
如上所述的方法,其中該起點(diǎn)是自該數(shù)個(gè)缺陷中,選擇一最接近一缺陷檢視裝置者。
為了達(dá)到上述目的,本案再提出一種光學(xué)缺陷檢測(cè)后的路徑規(guī)劃方法,是將已知的一個(gè)以上的缺陷以一數(shù)值運(yùn)算模型計(jì)算出一路徑。
較佳者,其中該路徑為一條非封閉且連接各缺陷的較佳或最短路徑。
較佳者,其中該路徑再用以提供給一缺陷檢視裝置,以作為移動(dòng)用的路徑。
較佳者,其中該路徑再用以提供給一缺陷修復(fù)裝置,以作為移動(dòng)用的路徑。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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