[發明專利]光學檢測缺陷后的路徑規劃方法

無效

• 申請號: 200810094668.1
• 申請日: 2008-04-29
• 公開（公告）號: CN101571493A
• 公開（公告）日: 2009-11-04
• 發明（設計）人: 陳詩涌;沈家麟
• 申請（專利權）人: 臺達電子工業股份有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88;G06F17/50
• 代理公司: 北京安信方達知識產權代理有限公司
• 代理人: 龍 洪;霍育棟

1.一種光學缺陷檢測后的路徑規劃方法，包括下列步驟：

(1)提供一受檢物；

(2)將所述受檢物置于一光學檢測機臺上；

(3)以所述光學檢測機臺掃描所述受檢物；

(4)在所述受檢物上檢測出一個以上的缺陷；以及

(5)提供一數值運算模型，得到一條連接所述一個以上的缺陷位置的一路徑。

2.如權利要求1所述的方法，其特征在于：

所述步驟(5)中的路徑為一條連接各缺陷的較佳或最短路徑。

3.如權利要求1所述的方法，其特征在于：

還包含一步驟，是將所述路徑提供給一缺陷修復機臺使用。

4.如權利要求1所述的方法，其特征在于：

還包含一步驟，是將所述路徑提供給一缺陷檢視機臺使用。

5.如權利要求1所述的方法，其特征在于：

還包含一步驟，是將所述一個以上的缺陷的資料儲存于一資料庫內。

6.如權利要求1所述的方法，其特征在于：

還包含一步驟，是將所述路徑儲存于一資料庫內。

7.一種光學缺陷檢測后的路徑規劃方法，包括：是將已知的一個以上的缺陷以一數值運算模型計算出一路徑。

8.如權利要求7所述的方法，其特征在于：

所述數值運算模型是可自暴力法、割平面計算法、馬可夫煉法、最近鄰法、基因演算法、蟻群計算法中，選擇其中任一種作為路徑規劃。

9.一種光學缺陷檢測后的路徑規劃方法，主要是在于光學缺陷進行檢測并得知一個以上的缺陷后依據一個以上的所述缺陷的位置和一缺陷檢視裝置或一缺陷修復裝置的位置，經由一數值運算模型得到一條連接所述一個以上的缺陷及所述缺陷檢視裝置或缺陷修復裝置的位置的一路徑。

10.如權利要求9所述的方法，其特征在于，包括下列步驟：

(1)提供一受檢物；

(2)將所述受檢物置于一光學檢測機臺上；

(3)以所述光學檢測機臺掃描所述受檢物；

(4)在所述受檢物上檢測出所述一個以上的缺陷；以及

(5)利用所述數值運算模型，得到一條連接所述一個以上的缺陷位置的一第一路徑。

11.如權利要求10所述的方法，其特征在于：

所述路徑為一條連接各缺陷位置的具有兩端點的非封閉路徑，其中：

所述光學檢修機臺的缺陷檢視裝置或缺陷修復裝置的位置是可連接至最接近所述位置的任一所述端點，而得到一第二路徑；或

所述光學檢修機臺的缺陷檢視裝置或缺陷修復裝置的位置與所述兩端點做比較，連接而得到一第二路徑。

12.如權利要求10所述的方法，其特征在于：

光學檢測后得到的缺陷位置資料儲存在一儲存裝置，提供給一缺陷檢修裝置作為移動路徑的規劃的資料來源；及

所述缺陷檢修裝置是選自一缺陷檢視機臺的檢視裝置與一缺陷修復機臺的修復裝置中的一種。

13.如權利要求10所述的方法，其特征在于：

所述數值運算模型是可自暴力法、割平面計算法、馬可夫煉法、最近鄰法、基因演算法、蟻群計算法中，選擇其中任一種作為路徑規劃，其中所述缺陷檢視裝置還具有一感光單元，所述感光單元則是選自電荷耦合元件與互補式金屬氧化物半導體中的一種。

14.一種光學缺陷檢測后的路徑規劃方法，所述光學缺陷檢測，是以一光學檢測機臺掃描一受檢物而在所述受檢物上檢測出一個以上的缺陷，而所述路徑規劃方法則是根據所述一個以上的所述缺陷進行排列組合，其特征在于：

所述路徑規劃方法包括下列步驟：

(1)將一個以上的所述缺陷加以排列組合產生一個以上的排列順序；

(2)再將步驟(1)各個所述排列順序中各個所述缺陷予以連結，而得到一個以上的路徑；以及

(3)比較各個所述路徑后，保留最短為一最短路徑。

15.如權利要求14所述的方法，其特征在于：

所述步驟(3)是比較由各個所述缺陷所排列組合成一個以上的所述路徑的長度，并選擇一適當所述路徑的長度。