[發明專利]芯片的導電結構無效
| 申請號: | 200810092277.6 | 申請日: | 2008-04-14 |
| 公開(公告)號: | CN101562161A | 公開(公告)日: | 2009-10-21 |
| 發明(設計)人: | 黃祥銘;劉安鴻;李宜璋;蔡豪殷;何淑靜 | 申請(專利權)人: | 南茂科技股份有限公司;百慕達南茂科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/485 | 分類號: | H01L23/485 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人: | 陸 嘉 |
| 地址: | 臺灣省新竹科學*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 芯片 導電 結構 | ||
1.一種芯片的導電結構,其特征在于,包含:
一重新分布層,形成于所述芯片的一上方,其具有一第一導電區域及一第二導電區域,所述第一導電區域與所述芯片電性連接;
一凸塊下金屬層,形成于所述重新分布層的第二導電區域上,并與其電性連接;
一焊塊,形成于所述凸塊下金屬層上,并與其電性連接;
其特征在于:所述芯片及所述重新分布層之間,另設有:
一接地層,形成于所述芯片上;以及
一介電層,覆蓋所述接地層。
2.如權利要求1所述的導電結構,其特征在于,所述芯片包含多個焊盤及一第一保護層,所述多個焊盤至少包含一輸入/輸出焊盤及一接地焊盤,所述接地層形成于所述第一保護層上,并與所述接地焊盤電性連接。
3.如權利要求2所述的導電結構,其特征在于,所述重新分布層是覆蓋于所述介電層上,并在所述第一導電區域與所述芯片的輸入/輸出焊盤電性連接。
4.如權利要求3所述的導電結構,其特征在于,還包含一第二保護層,覆蓋所述重新分布層,并局部暴露所述第二導電區域。
5.如權利要求4所述的導電結構,其特征在于,所述介電層是由聚亞酰胺、苯環丁烯及SU-8光阻的其中之一所制成。
6.如權利要求5所述的導電結構,其特征在于,所述第二保護層與所述介電層具有實質上相同的一介電常數。
7.如權利要求6所述的導電結構,其特征在于,所述第二保護層是由聚亞酰胺、苯環丁烯及SU-8光阻的其中之一所制成。
8.如權利要求6所述的導電結構,其特征在于,所述介電層與所述第二保護層所形成的一厚度、所述重新分布層的一寬度、所述重新分布層的一厚度、及所述介電常數,是對應形成一關系,使所述導電結構在傳送一高頻信號時,所述重新分布層適可形成一阻抗匹配。
9.如權利要求1所述的導電結構,其特征在于,所述凸塊下金屬層為一無電解電鍍層。
10.如權利要求9所述的導電結構,其特征在于,所述無電解電鍍層是由鎳及金所制成。
11.如權利要求1所述的導電結構,其特征在于,所述凸塊下金屬層為一濺鍍層。
12.如權利要求2所述的導電結構,其特征在于,各所述焊盤是由鋁及銅的其中之一所制成。
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