[發明專利]間歇涂布方法和間歇涂布裝置有效
| 申請號: | 200810092118.6 | 申請日: | 2008-04-03 |
| 公開(公告)號: | CN101279315A | 公開(公告)日: | 2008-10-08 |
| 發明(設計)人: | 荻野忠弘;戶內八郎;甲田正紀;魚井將詳 | 申請(專利權)人: | 中外爐工業株式會社 |
| 主分類號: | B05D1/26 | 分類號: | B05D1/26;B05C5/02;B05C11/10 |
| 代理公司: | 上海專利商標事務所有限公司 | 代理人: | 馬淑香 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 間歇 方法 裝置 | ||
本申請要求基于日本專利申請號2007-99952號的優先權。
技術領域
本發明涉及從設于涂布模頭前端面的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提供涂布液而在該基材上間歇地涂布涂布液的間歇涂布方法和間歇涂布裝置。
特別是上述間歇涂布方法和間歇涂布裝置具有如下特征:在開始向基材涂布涂布液的涂布開始側的端面和停止向基材涂布涂布液的涂布停止側的端面相對于基材垂直形成而不傾斜,能在基材上以一定的均勻的厚度涂布涂布液。
背景技術
以往,從設于涂布模頭前端面的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提供涂布液,從而在上述基材上間歇地涂布涂布液。
如上所述在片狀基材上間歇地涂布涂布液時,以往一般如圖1所示,在使基材1掛設于支承輥2上進行移動的同時,使按上述方式移動的基材1與涂布模頭10的前端面10a間隔所需間距相對而將涂布模頭10設在與支承輥2相對的位置上,并從設于該涂布模頭10的前端面10a的狹縫狀吐出口11間歇地吐出涂布液12,從而在上述基材1上間歇地涂布涂布液12。
另外,如上所述那樣從設于涂布模頭10的前端面10a的狹縫狀吐出口11間歇地吐出涂布液12時,在將涂布液12壓力輸送至涂布模頭10的壓力泵3與涂布模頭10之間設置間歇閥4,通過開閉該間歇閥4,通過樹脂制涂布液供給管13間歇地向涂布模頭10提供涂布液12,從設于該涂布模頭10的前端面10a的吐出口11間歇地吐出涂布液12。
但是,如上所述那樣從設于涂布模頭10的前端面10a的吐出口11間歇地吐出涂布液12時,在打開間歇閥4而從吐出口11吐出涂布液12的涂布開始階段、關閉間歇閥4而停止吐出涂布液12的涂布停止階段,由于上述涂布液供給管13膨脹等引起的壓力傳遞延遲、殘壓等而導致涂布液12的吐出及停止的響應性降低。其結果如圖2所示,從涂布模頭10的吐出口11吐出的涂布液12的吐出量在涂布開始階段逐漸增加而在涂布停止階段逐漸下降。
因此,按上述方法在移動的基材1上涂布涂布液12時,如圖3所示,涂布在基材1上的涂布液12的涂布開始側的端部和涂布停止側的端部呈傾斜狀態,存在無法以一定的均勻的厚度將涂布液12涂布于基材1這樣的問題。
近年來,如日本專利特開2001-179156號公報所示,提出了如下技術方案:在設于上述涂布模頭與間歇閥之間的支管上設置吸引閥和負壓箱,當停止向基材涂布涂布液時,關閉上述間歇閥而停止吐出涂布液,同時打開上述吸引閥而使上述負壓箱吸引涂布液,從而抑制涂布液涂布在基材上。
但是,該公報所示的方案不能抑制在基材上開始涂布涂布液的涂布液開始側的端部的傾斜狀態,且在上述情況下吸引閥的響應性等并不充分,涂布停止側的端部依然呈現略微傾斜的狀態,無法在基材上以一定的均勻的厚度涂布涂布液。
發明內容
本發明的技術問題在于解決從設于涂布模頭前端面的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提供涂布液而在該基材上間歇地涂布涂布液時存在的上述問題。
即,本發明的技術問題在于使開始向基材涂布涂布液的涂布開始側的端面和停止向基材涂布涂布液的涂布停止側的端面相對于基材垂直形成而不傾斜,從而能在基材上以一定的均勻的厚度涂布涂布液。
為了解決上述技術問題,本發明的間歇涂布方法是從設于涂布模頭前端面的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提供涂布液而在該基材上間歇地涂布涂布液的間歇涂布方法,它具有以下工序:在開始從上述涂布模頭向基材提供涂布液時,使該涂布模頭與上述基材同向移動的工序;使該涂布模頭停止移動或使涂布模頭與基材反向移動,從涂布模頭向移動的基材涂布涂布液的工序;以及在停止從該涂布模頭向基材提供涂布液時,使該涂布模頭與上述基材同向移動的工序。
在該間歇涂布方法中,如上所述在開始從涂布模頭向基材提供涂布液時,最好是使開始提供涂布液時的涂布模頭的移動速度與上述基材相同,并逐漸使該涂布模頭的移動速度減速,在停止從上述涂布模頭向基材提供涂布液時,最好是對使涂布模頭與上述基材同向移動的移動速度進行加速,在停止涂布液供給時使該涂布模頭的移動速度與上述基材相等。
在該間歇涂布方法中,上述基材與涂布模頭的前端面之間的間距最好是在形成液珠時基材移動方向的下游側比上游側窄。
在該間歇涂布方法中,可以使上述基材掛設于支承輥進行移動,并在與該支承輥相對的位置上從上述涂布模頭向基材間歇地涂布涂布液,此時,可以將上述涂布模頭以其前端面與支承輥相對的方式沿輻射方向配置,并在此狀態下使該涂布模頭沿支承輥的轉動方向移動。
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