[發明專利]間歇涂布方法和間歇涂布裝置

有效

• 申請號: 200810092118.6
• 申請日: 2008-04-03
• 公開（公告）號: CN101279315A
• 公開（公告）日: 2008-10-08
• 發明（設計）人: 荻野忠弘;戶內八郎;甲田正紀;魚井將詳
• 申請（專利權）人: 中外爐工業株式會社
• 主分類號: B05D1/26
• 分類號: B05D1/26;B05C5/02;B05C11/10
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司
• 代理人: 馬淑香

1.一種間歇涂布方法，從設于涂布模頭前端面的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提供涂布液，從而在所述基材上間歇地涂布涂布液，其特征在于，具有如下工序：在開始從所述涂布模頭向基材提供涂布液的時刻，使所述涂布模頭與所述基材同向移動的工序；使所述涂布模頭停止移動或使涂布模頭與基材反向移動，從涂布模頭向移動的基材涂布涂布液的工序；以及在停止從所述涂布模頭向基材提供涂布液的時刻，使所述涂布模頭與所述基材同向移動的工序。

2.如權利要求1所述的間歇涂布方法，其特征在于，在開始從所述涂布模頭向基材提供涂布液的開始時刻使涂布模頭的移動速度與所述基材相同，并使所述涂布模頭的移動速度逐漸減速。

3.如權利要求1或2所述的間歇涂布方法，其特征在于，在停止從所述涂布模頭向基材提供涂布液時，對使涂布模頭與所述基材同向移動的移動速度進行加速，在停止提供涂布液時，使所述涂布模頭的移動速度與所述基材相同。

4.如權利要求1至3中任一項所述的間歇涂布方法，其特征在于，所述基材與涂布模頭前端面的間距在基材移動方向的下游側比上游側窄。

5.如權利要求1至4中任一項所述的間歇涂布方法，其特征在于，所述基材掛設于支承輥進行移動，在與所述支承輥相對的位置上從所述涂布模頭向基材間歇地涂布涂布液。

6.如權利要求5所述的間歇涂布方法，其特征在于，在所述涂布模頭的前端面以與支承輥相對的方式沿輻射方向配置的狀態下，所述涂布模頭沿支承輥的轉動方向移動。

7.如權利要求1至6中任一項所述的間歇涂布方法，其特征在于，在停止從所述涂布模頭向基材提供涂布液后，利用清洗裝置來清洗所述涂布模頭的前端部。

8.一種間歇涂布裝置，從設于涂布模頭前端面的狹縫狀吐出口向移動的片狀基材間歇地提供涂布液，從而在所述基材上間歇地涂布涂布液，其特征在于，設有傳送所述涂布模頭的傳送裝置，利用控制裝置來控制所述傳送裝置對涂布模頭的傳送，在開始從涂布模頭向基材提供涂布液的時刻，使所述涂布模頭與基材同向移動，在從涂布模頭向基材涂布涂布液的時刻，使涂布模頭停止移動或與基材反向移動，在停止從涂布模頭向基材提供涂布液的時刻，使涂布模頭與基材同向移動。