[發明專利]激光加工裝置、定位裝置、觀察裝置及觀察方法

有效

• 申請號: 200810090313.5
• 申請日: 2008-03-28
• 公開（公告）號: CN101274392A
• 公開（公告）日: 2008-10-01
• 發明（設計）人: 小川純一;栗山規由;林和夫;庭山博
• 申請（專利權）人: 雷射先進科技株式會社
• 主分類號: B23K26/03
• 分類號: B23K26/03;B23K26/02;B23K26/40
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司
• 代理人: 高龍鑫

1.一種激光加工裝置，具有用于觀察在作為被加工物的透明基板的一側主面形成的不透明部分的觀察裝置，其特征在于，

上述觀察裝置具有：

支撐上述透明基板的支撐單元，

照射同軸照明光的同軸照明光源，

照射斜射照明光的斜射照明光源，以及

從上述透明基板的第一主面一側觀察上述透明基板的觀察單元；其中，

上述支撐單元以通過上述觀察單元能夠觀察的方式支撐上述透明基板，

上述同軸照明光源和上述斜射光源從第二主面一側對上述透明基板分別照射上述同軸照明光和上述斜射照明光，該第二主面是上述透明基板的位于上述第一主面的相反一側的主面。

2.如權利要求1所述的激光加工裝置，其特征在于，在上述透明基板上，在對上述透明基板重疊地照射上述同軸照明光和上述斜射照明光的狀態下，上述觀察單元能夠獲取上述透明基板的觀察像。

3.如權利要求1所述的激光加工裝置，其特征在于，還具有獲取第一觀察像和第二觀察像的合成圖像的合成單元，其中，該第一觀察像是指，在向上述透明基板照射上述同軸照明光時，通過上述攝像單元能夠觀察到的像，該第二觀察像是指，在向上述透明基板照射上述斜射照明光時，通過上述攝像單元能夠觀察到的像。

4.一種定位裝置，具有用于觀察在透明基板的一側主面形成的不透明部分的觀察裝置，其特征在于，

上述觀察裝置具有：

支撐上述透明基板的支撐單元，

照射同軸照明光的同軸照明光源，

照射斜射照明光的斜射照明光源，以及

從上述透明基板的第一主面一側觀察上述透明基板的觀察單元；其中，

上述支撐單元以通過上述觀察單元能夠觀察的方式支撐上述透明基板，

上述同軸照明光源和上述斜射光源從第二主面一側對上述透明基板分別照射上述同軸照明光和上述斜射照明光，該第二主面是上述透明基板的位于上述第一主面的相反一側的主面。

5.如權利要求4所述的定位裝置，其特征在于，在上述透明基板上，在對上述透明基板重疊地照射上述同軸照明光和上述斜射照明光的狀態下，上述觀察單元能夠獲取上述透明基板的觀察像。

6.如權利要求4所述的定位裝置，其特征在于，還具有獲取第一觀察像和第二觀察像的合成圖像的合成單元，其中，該第一觀察像是指，在向上述透明基板照射上述同軸照明光時，通過上述攝像單元能夠觀察到的像，該第二觀察像是指，在向上述透明基板照射上述斜射照明光時，通過上述攝像單元能夠觀察到的像。

7.一種觀察裝置，用于觀察在透明基板的一側主面形成的不透明部分，其特征在于，具有：

支撐上述透明基板的支撐單元，

照射同軸照明光的同軸照明光源，

照射斜射照明光的斜射照明光源，以及

從上述透明基板的第一主面一側觀察上述透明基板的觀察單元；其中，

上述支撐單元以通過上述觀察單元能夠觀察的方式支撐上述透明基板，

上述同軸照明光源和上述斜射光源從第二主面一側對上述透明基板分別照射上述同軸照明光和上述斜射照明光，該第二主面是上述透明基板的位于上述第一主面的相反一側的主面。

8.如權利要求7所述的觀察裝置，其特征在于，在上述透明基板上，在對上述透明基板重疊地照射上述同軸照明光和上述斜射照明光的狀態下，上述觀察單元能夠獲取上述透明基板的觀察像。

9.如權利要求7所述的觀察裝置，其特征在于，還具有通過對第一觀察像和第二觀察像進行運算合成而獲取合成圖像的合成單元，其中，該第一觀察像是指，在向上述透明基板照射上述同軸照明光時，通過上述攝像單元能夠觀察到的像，該第二觀察是指，在向上述透明基板照射上述斜射照明光時，通過上述攝像單元能夠觀察到的像。

10.如權利要求7所述的觀察裝置，其特征在于，通過調整上述同軸照明光和上述斜射照明光中的至少一方在上述透明基板上的照射狀態，能夠調整觀察區域內的由上述觀察單元來把握的光量。

11.如權利要求10所述的觀察裝置，其特征在于，針對上述同軸照明光源和上述斜射照明光源中的至少一方，能夠調整其與上述不透明基板之間的距離。