[發明專利]用于平板顯示器薄膜沉積的掩模框架組件和使用該組件的沉積設備

有效

• 申請號: 200810089856.5
• 申請日: 2008-04-03
• 公開（公告）號: CN101280411A
• 公開（公告）日: 2008-10-08
• 發明（設計）人: 金善浩;魯碩原
• 申請（專利權）人: 三星SDI株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司
• 代理人: 陸弋;朱登河

相關申請的交叉參考

本申請要求2007年4月5日提交的韓國專利申請No.2007-33733的權益，該申請的公開內容通過引用被全部并入此文。

技術領域

本發明涉及一種用于平板顯示器的薄膜沉積的掩模框架組件及使用該掩模框架組件的沉積設備，更具體地，涉及一種用于平板顯示器的薄膜沉積的掩模框架組件，其采用了雙輕質框架結構，以易于搬運和運輸此掩模框架組件，并涉及一種使用該組件的沉積設備。

背景技術

最近，對例如液晶顯示器(LCD)、有機發光顯示器(OLED)等等的輕質且緊湊的平板顯示器(FPD)的適應優點以及大尺寸顯示器不斷增加的分辨率的研究已經廣泛進行。在平板顯示器中，有機發光顯示器是能夠解決傳統液晶顯示器的問題的下一代平板顯示器之一，這是由于有機發光顯示器具有快速響應時間和色彩表現能力，而不需要單獨的光源和濾色器。

通常，有機發光顯示器包括陽極與陰極之間的有機發射層。空穴和電子從陽極和陰極移出以產生激發態的激發子，激發子重新組合以發光。

在此，構成有機發光顯示器的薄膜的精細圖樣的形成方法包括使用圖樣掩模的光刻方法或沉積方法。由于有機發射層對濕度敏感，因而使用傳統的光刻方法難以形成有機發射層。

因此，在光刻膠離層處理和蝕刻處理過程中，暴露于濕氣的光刻方法不適于沉積有機發射層的處理。

為了解決該問題，使用具有特定圖樣的圖樣掩模在真空中沉積有機發射材料的方法廣泛用于形成有機發射層。

圖1是用于薄膜沉積的傳統掩模框架組件的俯視圖。

圖2是圖1中的用于薄膜沉積的掩模框架組件的沿線A-A′所取的橫截面圖。

參見圖1和2，用于平板顯示器的薄膜沉積的傳統的掩模框架組件40包括圖樣掩模20，圖樣掩模20設置有具有多個開口的圖樣部分21，和用于支撐圖樣掩模20的框架10。框架10與圖樣掩模20的下邊緣部連接以支撐圖樣掩模20。

通常，當用于薄膜沉積的掩模框架組件40在制造有機發光顯示器的處理過程中用于沉積有機發射層的處理時，圖樣掩模20具有過小的厚度，并且，圖樣掩模20的圖樣部分21的縫隙具有過小的寬度。因此，圖樣掩模20可能由于下垂而變形或彎曲，從而難以精確地沉積薄膜。

特別地，該問題在用于批量生產的圖樣掩模20的大范圍中更為嚴重。為了解決該問題，框架10可以用于支撐圖樣掩模20并保持圖樣掩模20的形狀。

此時，框架10可以由例如SUS(不銹鋼)鋼或因瓦(Invar)合金的強材料形成，以提供具有均勻質量的圖樣掩模20。

然而，當使用SUS鋼或因瓦合金時，用于薄膜沉積的掩模框架組件的重量增加，因此難以搬運掩模框架組件，并增大了用于運輸在沉積設備的腔中設置的用于薄膜沉積的掩模框架組件40的設備的重量載荷，從而降低了生產率。

發明內容

本發明提供一種用于薄膜沉積的掩模框架組件，其采用雙框架結構，以減少其重量，并提供一種使用該掩模框架組件的沉積設備。

根據本發明的一個方面，一種用于平板顯示器的薄膜沉積掩模框架組件包括：圖樣掩模，其設置有包括多個開口的圖樣部分；第一框架，其與所述圖樣掩模的下邊緣部分連接以支撐所述圖樣掩模；和第二框架，其沿水平或豎直方向與所述第一框架連接。

根據本發明的另一方面，一種沉積設備包括：沉積腔；用于薄膜沉積的掩模框架組件，其設置在所述沉積腔中，并包括設置有具有多個開口的圖樣部分的圖樣掩模，與所述圖樣掩模的下邊緣部分連接以支撐所述圖樣掩模的第一框架，和沿水平或豎直方向與所述第一框架連接的第二框架；和設置在所述圖樣掩模下的沉積源。

所述用于平板顯示器的薄膜沉積的掩模框架組件可包括具有多個圖樣部分的圖樣掩模，和用于支撐所述圖樣掩模的第一框架。所述第一框架可與所述圖樣掩模的下邊緣部分連接以支撐所述圖樣掩模。另外，所述第二框架可沿水平或豎直方向與所述第一框架連接。

此時，所述第一框架可由例如因瓦或SUS材料的強材料形成。沿水平或豎直方向對應于所述第一框架的所述第二框架可由比質量(specific?mass)小于因瓦或SUS材料的質量的金屬和合金之一形成，從而實現用于薄膜沉積的輕質掩模框架組件。

附圖說明

本發明的以上及其他特征將通過以下結合附圖的其特定示例性實施例進行描述，其中：

圖1是用于薄膜沉積的傳統掩模框架的俯視圖；

圖2是圖1中的用于薄膜沉積的掩模框架組件的沿線A-A′所取的橫截面圖；