[發(fā)明專利]用于平板顯示器薄膜沉積的掩模框架組件和使用該組件的沉積設(shè)備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810089856.5 | 申請日: | 2008-04-03 |
| 公開(公告)號: | CN101280411A | 公開(公告)日: | 2008-10-08 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 金善浩;魯碩原 | 申請(專利權(quán))人: | 三星SDI株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04 |
| 代理公司: | 北京德琦知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人: | 陸弋;朱登河 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 平板 顯示器 薄膜 沉積 框架 組件 使用 設(shè)備 | ||
1、一種用于平板顯示器的膜沉積的掩模框架組件,包括:
圖樣掩模,其設(shè)置有包括多個開口的圖樣部分;
第一框架,其與所述圖樣掩模的下邊緣部分連接以支撐所述圖樣掩模;和
第二框架,其沿水平或豎直方向與所述第一框架連接。
2、根據(jù)權(quán)利要求1的掩模框架組件,其中,所述圖樣掩模由SUS或因瓦材料形成。
3、根據(jù)權(quán)利要求1的掩模框架組件,其中,所述第一框架由SUS或因瓦材料形成。
4、根據(jù)權(quán)利要求1的掩模框架組件,其中,所述第二框架由比質(zhì)量小于SUS或因瓦材料的質(zhì)量的金屬和合金之一形成。
5、根據(jù)權(quán)利要求4的掩模框架組件,其中,所述具有小的比質(zhì)量的金屬或合金包括從鋁、鎂、鈦以及它們的合金中選出的一種。
6、根據(jù)權(quán)利要求1的掩模框架組件,其中,所述圖樣掩模由與所述第一框架相同的材料形成,并通過焊接與所述第一框架連接。
7、根據(jù)權(quán)利要求1的掩模框架組件,其中,所述第一框架由不同于所述第二框架的材料形成,并通過一連接元件與所述第二框架連接。
8、根據(jù)權(quán)利要求7的掩模框架組件,其中,所述連接元件形成在所述第一框架中并與所述第二框架連接。
9、根據(jù)權(quán)利要求7的掩模框架組件,其中,所述連接元件形成在所述第二框架中并與所述第一框架連接。
10、一種沉積設(shè)備,包括:
沉積腔;
如權(quán)利要求1-9中任一權(quán)利要求所述的掩模框架組件,其設(shè)置在所述沉積腔中;和
朝向所述圖樣掩模的沉積源。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





