[發明專利]觸控電路的透明基板雙面導電膜的制法

有效

• 申請號: 200810089058.2
• 申請日: 2008-04-15
• 公開（公告）號: CN101561729A
• 公開（公告）日: 2009-10-21
• 發明（設計）人: 周祎平
• 申請（專利權）人: 宸鴻光電科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/044
• 分類號: G06F3/044;H01L21/00;H01L21/3213;H01L21/84
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司
• 代理人: 邸萬杰

技術領域

本發明涉及一種觸控電路的制法，具體涉及一種以濺鍍、曝光、顯影、蝕刻等方法在透明基板雙面布設形成觸控電路的導電膜的制作方法。

背景技術

現在常見的觸控板(Touch?Panel)，通常為電阻式和電容式的觸控板。其中電阻式的觸控板，可用手指、筆或其它媒介物對面板表面進行按壓，產生觸控訊號，但是相對于電阻式觸控板來說，電容式觸控板僅需用手指對面板表面輕微觸壓，即可產生觸控訊號，在使用上具有較佳的靈敏度；因此，現有較為先進的行動電話、全球定位系統(GPS)、個人數位助理(Personal?Digital?Assistant，PDA)、掌上型電腦(Palm-Sized?PC)和資訊家電(Information?Appliance)等電子產品的觸控板，大都是以電容式觸控板為主。上述電容式觸控板內一般都具有一觸控電路，利用濺鍍、曝光、顯影、蝕刻等方法，將透明導電材料(如氧化銦錫Indium?Tin?Oxide，ITO)逐一堆迭在一玻璃基板(Glass?Substrate)的雙側表面上，形成觸控板，觸控板包含一形成于透明基板頂面的上層導電膜和一形成于透明基板底面的下層導電膜；因此，可利用上層和下層導電膜與人體之間所產生的電容效應，檢測因電容效應所產生的誘導電流來進一步計算其觸控位置的座標。

且知，上述觸控電路的制作方式，傳統上是在一玻璃基板的頂面及底面分別真空濺鍍一上層導電基材和一下層導電基材，并在該上層導電基材表面粘和(Contact)一上光阻層，然后于該下層導電基材表面粘和一保護層；使用一具鏤空電路圖樣的光罩覆蓋在該上光阻層上方，并使用紫外線光通過該鏤空電路圖樣對該上光阻層進行曝光；在該上光阻層表面分布顯影劑以進行顯影，促使該上層導電基材裸露出一待接受蝕刻的區域；將該上層導電基材裸露出的區域浸泡蝕刻劑以進行蝕刻，促使該上層導電基材形成一上層導電膜，并除去該上層導電膜表面的殘余光阻，以及該下層導電基材表面的保護層；隨后，在該下層導電基材表面附著一下光阻層，同時于該上層導電膜表面粘和一保護層；使用另一具鏤空電路圖樣的光罩覆蓋在該下光阻層上方，并利用該上層導電膜作為光罩，并根據上光阻電路圖形的對位基準，所述光罩覆蓋于該下光阻層上方，使用一影像視覺器(CCD)擷取該上層導電膜的影像供光罩進行對位，并使用紫外線光通過該鏤空電路圖樣對該下光阻層進行曝光；在該下光阻層表面分布顯影劑以進行顯影，促使該下層導電基材裸露出一待接受蝕刻的區域；將該下層導電基材裸露出的區域浸泡蝕刻劑以進行蝕刻，促使該下層導電基材形成一下層導電膜，并除去該下層導電膜表面的殘余光阻，以及該上層導電基材表面的保護層。

但是，上述傳統的觸控電路制作方式，必須先后重復進行多次附著及除去光阻層、保護層的步驟，且還必須重復進行多次顯影和蝕刻等制程，具有耗費制程工時與材料成本的問題。

發明內容

本發明的目的在于提供一種可對透明基板雙面同時進行顯影及蝕刻，以簡化觸控電路的布設形成程序的觸控電路的透明基板雙面導電膜的制法。

為達上述目的，本發明具體的內容為：

一種觸控電路的透明基板雙面導電膜的制法，包含：

在一透明基板的第一表面的一第一導電基材層上附著一具有感光變色劑的第一光阻層，并在該透明基板的第二表面的一第二導電基材層上附著一第二光阻層；

對該第一光阻層進行曝光，促使該第一光阻層接受曝光區域形成一具供識別顏色的電路圖形；

利用該電路圖形作為第二光阻層曝光用的對位基準進行位置調整，并對該第二光阻層進行曝光；

對該透明基板雙面同時進行顯影，使第一導電基材層及第二導電基材層各自裸露出一待接受蝕刻的區域；

對第一導電基材層及第二導電基材層裸露的區域同時進行蝕刻，促使第一導電基材上層形成一觸控電路的一第一導電膜，且第二導電基材上層形成該觸控電路的一第二導電膜。

其中該透明基板為一觸控板的透明基板或一顯示面板的上層透明基板。

其中光阻層為正光阻或負光阻。

其中該第一導電基材層與該第二導電基材層由透明的導電材料制成。

其中該第一光阻層使用一具鏤空電路圖樣的第一光罩覆蓋而接受紫外線光進行曝光，該第二光阻層也使用一具鏤空電路圖樣的第二光罩覆蓋而接受紫外線光進行曝光，且第一光阻層使用的具鏤空電路圖樣作為第二光阻層與第二光罩的對位基準。

其中該第一光阻層與該第二光阻層為非同步曝光。

其中還包含：在該第一導電膜與該第二導電膜形成后一同以除光阻劑除去殘余的第一及第二光阻層，完全裸露第一導電膜與第二導電膜。

其中該感光變色劑為有機雙鍵烯類物質所組成。