[發(fā)明專利]曝光繪圖裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810088524.5
• 申請(qǐng)日: 2008-03-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101276157A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李德;山下大輔;松田政昭;石川淳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社ORC制作所
• 主分類號(hào): G03F7/20
• 分類號(hào): G03F7/20;G03B27/32;H05K3/00
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 黃綸偉

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種在電路板、液晶組件用玻璃基板、PDP用玻璃組件基板等平面基材的表面上形成圖案的曝光繪圖裝置。

背景技術(shù)

例如，電路板(印刷電路板)被搭載于行動(dòng)電話、各種行動(dòng)裝置(mobile)及個(gè)人計(jì)算機(jī)等。搭載于這些被搭載機(jī)器的基材的圖案，傾向于要求其分辨率、及連接用面(land)徑、孔(via)徑等相當(dāng)細(xì)微的構(gòu)成。對(duì)應(yīng)于這些要求，在圖案形成用曝光工程中，需要增加曝光裝置的光量。另外，需要提高光的矯正度、提高平行光的精度等。

在另一方面，在短期間內(nèi)生產(chǎn)多品種、量少的產(chǎn)品的要求變強(qiáng)。在公知的曝光裝置，即使是接觸方式或投影曝光方式，要形成圖案也必須有光罩，而在光罩的準(zhǔn)備、管理及維持方面，難以符合要求。

因此，將構(gòu)成圖案的數(shù)據(jù)從CAD數(shù)據(jù)作為直接曝光裝置的光線的控制信號(hào)而利用的直接曝光方式和其裝置的要求變高。然而，公知的直接曝光裝置由于使用405nm激光作為照射至被曝光介質(zhì)的光線，有關(guān)被曝光介質(zhì)的圖案形成的反應(yīng)速度變慢。因此，強(qiáng)烈希望能設(shè)計(jì)出解決這些問(wèn)題的曝光繪圖裝置。

[專利文獻(xiàn)1]日本特開(kāi)2006-113413

[專利文獻(xiàn)2]日本特開(kāi)2006-343684

[專利文獻(xiàn)3]日本特開(kāi)2006-337475

然而，公知的曝光繪圖裝置由于使用405nm激光作為照射至被曝光介質(zhì)的光線，有關(guān)被曝光介質(zhì)的圖案形成的反應(yīng)速度變慢，會(huì)妨礙電路形成的生產(chǎn)性。另外，在作為大型基板的被曝光體的整面形成圖案時(shí)，有必要搭載多個(gè)空間光調(diào)制組件，在這些組件照射強(qiáng)的激光會(huì)有成本的問(wèn)題。在專利文獻(xiàn)2或?qū)＠墨I(xiàn)3揭露的圖案繪圖裝置，為將輸出的七根UV燈光源通過(guò)光纖供給光線至一場(chǎng)所或多個(gè)光學(xué)系統(tǒng)的曝光繪圖裝置，但有無(wú)法控制至配合被曝光體的感光條件的光線的問(wèn)題。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種曝光繪圖裝置，搭載著少數(shù)的光源和多個(gè)作為空間光調(diào)制組件的DMD(Digital?Micro-mirror?Device，數(shù)字微型反射鏡組件)組件，在確保高運(yùn)轉(zhuǎn)率的同時(shí)，可控制由于此光源的光量被加熱的構(gòu)件等的溫度。

第一觀點(diǎn)的曝光繪圖裝置包括：光源，照射紫外線；第一照明光學(xué)系統(tǒng)，使來(lái)自光源的光束形成為平行光；有孔構(gòu)件，設(shè)有將來(lái)自第一照明光學(xué)系統(tǒng)的光束分離成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗及第二矩形窗；第一及第二空間光調(diào)制裝置，將在有孔構(gòu)件被分離的第一光束及第二光束進(jìn)行空間調(diào)制；以及第一及第二投影光學(xué)系統(tǒng)，將在這些第一及第二空間光調(diào)制裝置被空間調(diào)制的第一光束和第二光束引導(dǎo)至被曝光體。

通過(guò)此構(gòu)成，曝光繪圖裝置將一個(gè)光源通過(guò)有孔構(gòu)件分離成多個(gè)光束，可將此在多個(gè)空間光調(diào)制組件曝光繪圖。因此，可確保高的運(yùn)轉(zhuǎn)率。

第二觀點(diǎn)的曝光繪圖裝置包括：反射光學(xué)組件，將在有孔構(gòu)件被分離的第一光束和第二光束全反射而引導(dǎo)至第一及第二空間光調(diào)制裝置；以及第二照明光學(xué)系統(tǒng)，將在此反射光學(xué)組件被反射的第一光束和第二光束以彼此不同的光路長(zhǎng)度引導(dǎo)至第一及第二空間光調(diào)制裝置。

根據(jù)此構(gòu)成，通過(guò)在有孔構(gòu)件將第一光束和第二光束分離，由于能夠以光路長(zhǎng)度不同的狀態(tài)引導(dǎo)光束至第一及第二空間光調(diào)制裝置，第一及第二投影光學(xué)系統(tǒng)可在一直線形成。因此，容易進(jìn)行組裝或保養(yǎng)檢查。

第三觀點(diǎn)的曝光繪圖裝置，在有孔構(gòu)件和第一及第二空間光調(diào)制裝置之間配置一個(gè)以上兩個(gè)以內(nèi)的反射光學(xué)組件。

一般作為引導(dǎo)光的裝置，有將光纖使用于路徑的方法，但在此方法中，光成為散射光，且在光纖中，光量衰減。另一方面，本發(fā)明由于使用不多的反射光學(xué)組件，光量不衰減，可將光引導(dǎo)至第一及第二空間光調(diào)制裝置。

第四觀點(diǎn)的曝光繪圖裝置的第二照明光學(xué)系統(tǒng)，具有可變化開(kāi)口面積而調(diào)整透過(guò)的光量的光圈調(diào)整部，此光圈調(diào)整部具有散熱構(gòu)件。

第四觀點(diǎn)的曝光繪圖裝置，通過(guò)有孔構(gòu)件將一個(gè)光束分離成第一及第二光束。因此在第一及第二光束產(chǎn)生光量差的情形，在光圈調(diào)整部調(diào)整。因?yàn)樵诖斯馊φ{(diào)整部容易產(chǎn)生熱蓄積，通過(guò)散熱構(gòu)件抑制溫度上升。

第五觀點(diǎn)的曝光繪圖裝置包括：噴嘴，對(duì)于有孔構(gòu)件、第一及第二空間光調(diào)制裝置，分別吹制冷劑。

通過(guò)此構(gòu)成，曝光繪圖裝置因?yàn)榫哂写抵评鋭┑膰娮欤梢种茰囟壬仙蛇M(jìn)行穩(wěn)定的曝光繪圖。