[發明專利]曝光繪圖裝置

有效

• 申請號: 200810088524.5
• 申請日: 2008-03-27
• 公開（公告）號: CN101276157A
• 公開（公告）日: 2008-10-01
• 發明（設計）人: 李德;山下大輔;松田政昭;石川淳
• 申請（專利權）人: 株式會社ORC制作所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03B27/32;H05K3/00
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司
• 代理人: 黃綸偉

1.一種曝光繪圖裝置，其包括：

光源，其照射紫外線；

第一照明光學系統，其使來自上述光源的光束形成為平行光；

有孔構件，其設有用于將來自上述第一照明光學系統的光束分離成矩形的第一光束和矩形的第二光束的第一矩形窗及第二矩形窗；

第一及第二空間光調制裝置，其將在上述有孔構件被分離的第一光束及第二光束進行空間調制；以及

第一及第二投影光學系統，其將在該第一及第二空間光調制裝置中被空間調制的第一光束和第二光束引導至被曝光體。

2.根據權利要求1所述的曝光繪圖裝置，其還包括：

反射光學組件，其將在上述有孔構件被分離的第一光束和第二光束全反射而引導至上述第一及第二空間光調制裝置；以及

第二照明光學系統，其將在該反射光學組件被反射的第一光束及第二光束以彼此不同的光路長度引導至上述第一及第二空間光調制裝置；

其中上述第一及第二投影光學系統排成一列。

3.根據權利要求2所述的曝光繪圖裝置，其中在上述有孔構件和上述第一及第二空間光調制裝置之間配置一個以上兩個以內的反射光學組件。

4.根據權利要求2所述的曝光繪圖裝置，其中上述第二照明光學系統具有可改變開口面積而調整透過的光量的光圈調整部，

該光圈調整部具有散熱構件。

5.根據權利要求2～4中任意一項所述的曝光繪圖裝置，其還包括：噴嘴，其對于上述有孔構件、上述第一及第二空間光調制裝置，分別吹制冷劑。

6.根據權利要求1所述的曝光繪圖裝置，其中上述有孔構件具有將來自上述第一照明光學系統的光束進一步分離成矩形的第三光束和矩形的第四光束的第三矩形窗和第四矩形窗；

上述曝光繪圖裝置具有將在上述有孔構件被分離的第三光束及第四光束進行空間調制的第三及第四空間光調制裝置；

其中上述有孔構件將上述第一矩形窗、第二矩形窗、第三矩形窗、及第四矩形窗配置為對于矩形的邊為45度方向、135度方向、225度方向、及315度方向的四個矩形窗。

7.根據權利要求6所述的曝光繪圖裝置，其中上述噴嘴具有調整制冷劑流量的閥；

上述曝光繪圖裝置還包括：

溫度傳感器，其針對上述有孔構件、上述第一及第二空間光調制裝置而被配置，測量各自的溫度；以及

閥控制部，其基于在上述溫度傳感器測量的溫度，控制上述閥。

8.根據權利要求1～7中的任一項所述的曝光繪圖裝置，其還包括：濾光器裝置，其配置于上述第一照明光學系統，可選擇多個波長。

9.一種曝光繪圖裝置，其包括：

第一光源及第二光源，其照射紫外線；

第一系統及第二系統的照明光學系統，其使來自上述第一光源及第二光源的光束形成為平行光；

第一有孔構件，其具有將來自上述第一系統的照明光學系統的光束分離成矩形的四個光束的四個矩形窗；

第二有孔構件，其具有將來自上述第二系統的照明光學系統的光束分離成矩形的四個光束的四個矩形窗；

第一至第四空間光調制裝置，其將在上述第一有孔構件分離的四個光束進行空間調制；

第五至第八空間光調制裝置，其將在上述第二有孔構件分離的四個光束進行空間調制；

第一至第八投影光學系統，其配置于第一方向，將在上述第一至第八空間光調制裝置中被空間調制的八個光束引導至被曝光體；以及

基板臺，其將配置于從上述第一至第八投影光學系統的焦點面的被曝光體在和第一方向正交的第二方向移動，然后在上述第一方向移動預定距離，且在上述第二方向移動。