[發(fā)明專利]光學(xué)器件及其制造方法

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810088492.9
• 申請(qǐng)日: 2008-03-31
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101299432A
• 公開(kāi)（公告）日: 2008-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 松本克良;西尾哲史
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 松下電器產(chǎn)業(yè)株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L27/146
• 分類號(hào): H01L27/146;H01L23/498;H01L23/31;H01L21/50;H01L31/0203;H01L31/18;H01L33/00
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司
• 代理人: 張?chǎng)?/td>

1.一種光學(xué)器件，其特征在于，

包括：

由具有開(kāi)口部的樹(shù)脂基材、埋入所述樹(shù)脂基材中以使至少一部分作為電極端子在所述樹(shù)脂基材下表面露出的多個(gè)導(dǎo)體、和嵌入所述樹(shù)脂基材的開(kāi)口部中的透明構(gòu)件所組成的電路基板；以及

上表面具有光學(xué)區(qū)域、且安裝于所述電路基板的下表面以使所述光學(xué)區(qū)域與所述樹(shù)脂基材的所述開(kāi)口部對(duì)置的光學(xué)元件，

所述電路基板是厚度大致相同的矩形平板形狀。

2.如權(quán)利要求1中所述的光學(xué)器件，其特征在于，

所述樹(shù)脂基材和所述透明構(gòu)件的厚度大致相同。

3.如權(quán)利要求1中所述的光學(xué)器件，其特征在于，

所述透明構(gòu)件的上下兩表面基本是平坦的。

4.如權(quán)利要求1中所述的光學(xué)器件，其特征在于，

所述電路基板的厚度為300μm至500μm左右。

5.如權(quán)利要求1中所述的光學(xué)器件，其特征在于，

所述光學(xué)元件通過(guò)凸點(diǎn)與所述導(dǎo)體的電極端子連接。

6.如權(quán)利要求1中所述的光學(xué)器件，其特征在于，

將所述透明構(gòu)件和所述樹(shù)脂基材進(jìn)行樹(shù)脂成形，形成為一體。

7.如權(quán)利要求1中所述的光學(xué)器件，其特征在于，

所述透明構(gòu)件是由光學(xué)玻璃、石英、水晶、或者光學(xué)樹(shù)脂之中的任一種材料構(gòu)成的。

8.如權(quán)利要求1中所述的光學(xué)器件，其特征在于，

所述透明構(gòu)件是組合多個(gè)由光學(xué)玻璃、石英、水晶、或者光學(xué)樹(shù)脂之中的任一種材料而形成的結(jié)構(gòu)體構(gòu)成的。

9.如權(quán)利要求1中所述的光學(xué)器件，其特征在于，

所述光學(xué)元件包括受光元件部和發(fā)光元件部中的任一種或兩種。

10.如權(quán)利要求1中所述的光學(xué)器件，其特征在于，

在所述光學(xué)元件的光學(xué)區(qū)域與所述電路基板的透明構(gòu)件之間具有透明粘接劑。

11.如權(quán)利要求1中所述的光學(xué)器件，其特征在于，

所述透明構(gòu)件的表面具有防止反射膜。

12.一種光學(xué)器件的制造方法，其特征在于，

包括：

將透明構(gòu)件安裝于支持構(gòu)件上的工序；將多個(gè)導(dǎo)體安裝于所述支持構(gòu)件上的工序；用金屬模壓緊所述支持構(gòu)件的下表面和所述透明構(gòu)件的上表面、并且對(duì)所述透明構(gòu)件和所述導(dǎo)體進(jìn)行樹(shù)脂密封的工序；以及將上表面具有光學(xué)區(qū)域的光學(xué)元件與所述導(dǎo)體的下表面連接、以使所述透明構(gòu)件和所述光學(xué)區(qū)域面對(duì)面的工序。

13.一種光學(xué)器件的制造方法，其特征在于，

包括：將多個(gè)透明構(gòu)件安裝于支持構(gòu)件上的工序；將多個(gè)導(dǎo)體安裝于所述多個(gè)透明構(gòu)件各自的外周側(cè)、即所述支持構(gòu)件上的工序；用金屬模壓緊所述支持構(gòu)件的下表面和所述多個(gè)透明構(gòu)件的上表面、并且對(duì)所述多個(gè)透明構(gòu)件和所述導(dǎo)體進(jìn)行樹(shù)脂密封的工序；以及將上表面具有光學(xué)區(qū)域的多個(gè)光學(xué)元件與所述導(dǎo)體的下表面連接、以使各個(gè)所述光學(xué)區(qū)域和所述透明構(gòu)件面對(duì)面的工序。