[發(fā)明專利]基板處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810087412.8
• 申請(qǐng)日: 2008-03-27
• 公開（公告）號(hào): CN101276742A
• 公開（公告）日: 2008-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 基村雅洋;高橋弘明;前川直嗣;林豊秀
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/00
• 分類號(hào): H01L21/00;H01L21/02;H01L21/306;B08B3/04;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12
• 代理公司: 隆天國(guó)際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 馬少東;徐恕

1.一種基板處理裝置，其利用處理液對(duì)基板進(jìn)行處理，其特征在于，包含有以下構(gòu)件：

處理槽，其具有存積處理液的內(nèi)槽、和回收從內(nèi)槽溢出的處理液的外槽；

供給配管，其將上述內(nèi)槽和上述外槽連通連接，并使處理液循環(huán)；

第一分支配管，其將上述供給配管分流；

分離裝置，其配設(shè)于上述第一分支配管，將處理液中的純水和溶劑分離，并排出純水；

第二分支配管，其將上述分離裝置的上游側(cè)和下游側(cè)連通連接；

純水去除裝置，其配設(shè)于上述第二分支配管，用于吸附去除處理液中的純水；

注入管，其配設(shè)于上述供給配管，在上述分離裝置的下游側(cè)注入純水；

溶劑注入裝置，其將溶劑注入到上述注入管中；

控制裝置，其在從上述注入管提供純水并用純水清洗處理槽內(nèi)的基板的純水清洗處理之后，執(zhí)行從上述溶劑注入裝置注入溶劑并用溶劑來(lái)置換純水的置換處理，之后，切換至上述第一分支配管，通過(guò)上述分離裝置執(zhí)行從處理液中去除純水的分離去除處理，再切換至上述第二分支配管，通過(guò)上述純水去除裝置執(zhí)行吸附并去除處理液中的純水的吸附去除處理。

2.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

還具有：

混合裝置，其設(shè)置在位于上述分離裝置的上游側(cè)的上述第一分支配管上，用于混合純水和溶劑；

第三分支配管，其將上述混合裝置的上游側(cè)和處在上述混合裝置下游側(cè)的上述分離裝置的上游側(cè)連通連接，

上述控制裝置在溶劑為水溶性的情況下，執(zhí)行分離去除處理時(shí)，切換處理液的流路至上述第三分支配管；上述控制裝置在溶劑為非水溶性的情況下，執(zhí)行分離去除處理時(shí)，使處理液通過(guò)上述混合裝置。

3.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述混合裝置具有注入純水的注入部。

4.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述分離裝置具有：

過(guò)濾器，其用于將油水分離；

外殼，其包圍著上述過(guò)濾器；

流入部，其設(shè)置于上述外殼上，用于使處理液流入；

流出部，其設(shè)置于上述外殼上，用于使已通過(guò)上述過(guò)濾器的處理液流出；

排出部，其設(shè)置于上述外殼上，用于將利用上述過(guò)濾器而分離出的純水排出；

冷卻裝置，其用于冷卻上述過(guò)濾器。

5.如權(quán)利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述分離裝置具有：

過(guò)濾器，其用于將油水分離；

外殼，其包圍著上述過(guò)濾器；

流入部，其設(shè)置于上述外殼上，用于使處理液流入；

流出部，其設(shè)置于上述外殼上，用于使已通過(guò)上述過(guò)濾器的處理液流出；

排出部，其設(shè)置于上述外殼上，用于將利用上述過(guò)濾器而分離出的純水排出；

冷卻裝置，其用于冷卻上述過(guò)濾器。

6.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

具有：

超聲波賦予裝置，其對(duì)存積于上述內(nèi)槽中的處理液賦予超聲波振動(dòng)；

濃度計(jì)，其用于測(cè)定處理液的純水濃度，

上述控制裝置，在由上述濃度計(jì)測(cè)定的純水濃度達(dá)到給定值以下之后，使上述超聲波賦予裝置工作。

7.如權(quán)利要求6所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述給定值為10000ppm。

8.如權(quán)利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于，

上述溶劑注入裝置用于注入氫氟醚或異丙醇。