[發(fā)明專利]基板處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810087412.8
• 申請(qǐng)日: 2008-03-27
• 公開（公告）號(hào): CN101276742A
• 公開（公告）日: 2008-10-01
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 基村雅洋;高橋弘明;前川直嗣;林豊秀
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 大日本網(wǎng)目版制造株式會(huì)社
• 主分類號(hào): H01L21/00
• 分類號(hào): H01L21/00;H01L21/02;H01L21/306;B08B3/04;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12
• 代理公司: 隆天國際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司
• 代理人: 馬少東;徐恕

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種通過處理液對(duì)半導(dǎo)體晶片或液晶顯示用的玻璃基板(以下稱為基板)進(jìn)行處理的基板處理裝置。

背景技術(shù)

以往，作為這種裝置，例如具有存積處理液并容置基板的處理槽，和向處理槽的上部空間提供異丙醇(IPA：Isopropyl?Alcohol)氣體的噴嘴(例如日本特開平10-22257號(hào)公報(bào))。在該裝置中，向處理槽提供純水并清洗基板后，向處理槽的上部空間提供IPA氣體而形成IPA氣體環(huán)境。接著，通過將基板撈起并移動(dòng)至處理槽上部的IPA氣體中，使基板上附著的純水被IPA置換，從而促進(jìn)其干燥。

但是，在以往具有這樣結(jié)構(gòu)的實(shí)例中，存在下述這樣的問題。

即，一方面，以往的裝置，通過從純水中撈起用純水清洗過的基板，并移動(dòng)至IPA氣體環(huán)境中，能夠在某種程度上促進(jìn)基板的干燥，但是另一方面，不能充分的干燥在形成于基板的細(xì)小圖案間所附著的純水，有可能產(chǎn)生基板的干燥不良。

然而，在最近的半導(dǎo)體設(shè)備中，作為比以往大幅提高了集成度的技術(shù)，存儲(chǔ)器領(lǐng)域開始采用電容器結(jié)構(gòu)為圓柱體形狀的電容器。這樣的圓柱體結(jié)構(gòu)的電容器縱橫比極大，很難使進(jìn)入其縫隙間的純水充分干燥，因而上述問題變得更加突出。此外，即使是所謂的微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS：Micro?ElectroMechanical?Systems)相關(guān)的設(shè)備，也可能產(chǎn)生同樣的問題。

因此，考慮過不使用純水作為撈起基板前最后的處理液，而在用溶劑置換純水后撈起基板的方法。不過，在該情況下，雖然用溶劑充分置換純水很重要，但是即使向純水中提供大量的溶劑，也不能使溶劑中純水的濃度降到一定值以下，不能用溶劑充分置換純水。因此，還是有可能因純水而產(chǎn)生干燥不良這一問題。

此外，在如上所述用溶劑置換純水后，在撈起基板時(shí)，即使向純水中提供大量的溶劑，進(jìn)入基板的細(xì)微結(jié)構(gòu)中的純水緩慢地溶入處理液中，也會(huì)產(chǎn)生處理液中的純水濃度逐漸增加的現(xiàn)象。因此，還是會(huì)因純水而產(chǎn)生干燥不良，同時(shí)有可能在撈起基板時(shí)因純水的表面張力而發(fā)生細(xì)微結(jié)構(gòu)的倒塌。

此外，以往作為這種裝置，具有多個(gè)處理槽和跨各處理槽搬運(yùn)基板的搬運(yùn)機(jī)構(gòu)，存在有在各處理槽中用不同的處理液順序進(jìn)行處理的裝置(例如，日本特開平10-22257號(hào)公報(bào))。這樣的裝置中順序移動(dòng)基板，同時(shí)進(jìn)行一系列的處理，例如，在第一處理槽中用緩沖氫氟酸(BHF：Buffered?HydrofluoricAcid)輕輕刻蝕表面，在第二處理槽中用純水清洗，在第三處理槽中將純水置換為IPA，在第四處理槽中形成溶劑蒸氣的氣體環(huán)境使基板干燥。

但是，在具有這樣結(jié)構(gòu)的以往的實(shí)例的情況下，存在下述這樣的問題。

即，以往的裝置，在基板上形成有細(xì)微圖案的情況下，在處理槽之間移動(dòng)基板時(shí)，因?yàn)樵摷?xì)微圖案間殘留的純水的表面張力，而存在使形成于基板上的細(xì)微圖案發(fā)生倒塌這一問題。

發(fā)明內(nèi)容

鑒于上述情況，本發(fā)明的目的在于，提供一種基板處理裝置，能夠通過極力地降低溶劑中的純水濃度，來防止因純水而引起的干燥不良。

此外，鑒于上述情況，本發(fā)明的目的在于，提供一種基板處理裝置，能夠通過極力地除去用溶劑置換過的處理液中的純水，來防止干燥不良和細(xì)微結(jié)構(gòu)的倒塌。

此外，鑒于上述情況，本發(fā)明的目的在于，提供一種基板處理裝置，能夠通過提高純水的去除率，來防止形成于基板的細(xì)微圖案的倒塌。

本發(fā)明提供一種基板處理裝置，其利用處理液處理基板，其特征在于，具有以下構(gòu)件：處理槽，其具有存積處理液的內(nèi)槽和、回收從內(nèi)槽溢出的處理液的外槽；供給配管，其連通上述內(nèi)槽和上述外槽，使處理液循環(huán)；第一分支配管，其分流上述供給配管；分離裝置，其配設(shè)于第一分支配管，分離處理液中的純水和溶劑，并排出純水；第二分支配管，其連通上述分離裝置的上游和下游；純水去除裝置，其配設(shè)于上述第二分支配管，吸附去除處理液中的純水；注入管，其配設(shè)于上述供給配管，在上述分離裝置的下游處注入純水；溶劑注入裝置，其將溶劑注入到上述注入管中；控制裝置，其在執(zhí)行從上述注入管提供純水并用純水清洗處理槽內(nèi)的基板的純水清洗處理后，執(zhí)行從上述溶劑注入裝置注入溶劑并用溶劑來置換純水的置換處理，之后，切換至上述第一分支配管，通過上述分離裝置執(zhí)行從處理液中去除純水的分離去除處理，再切換至上述第二分支配管，通過上述純水去除裝置執(zhí)行吸附并去除處理液中的純水的吸附去除處理。