[發(fā)明專利]加熱系統(tǒng)

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 200810086298.7
• 申請(qǐng)日: 2008-03-25
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN101545099A
• 公開(kāi)（公告）日: 2009-09-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 黃明鴻;葉公旭;楊正安;何建立
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東捷科技股份有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/46
• 分類號(hào): C23C16/46
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司
• 代理人: 周國(guó)城

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及太陽(yáng)能電池的制成，特別是關(guān)于化學(xué)氣相沉積真空腔室內(nèi)的加熱系統(tǒng)。

背景技術(shù)

在太陽(yáng)能電池的制造過(guò)程中有一段程序是必須要將玻璃基板置入一真空腔室中進(jìn)行化學(xué)氣相沉積的加工動(dòng)作，在進(jìn)行此一加工動(dòng)作時(shí)，該真空腔室內(nèi)必須保持一定的真空度并且使腔室內(nèi)部的玻璃基板維持在一定的溫度才能達(dá)到所要的加工效果，所以都會(huì)在真空腔室內(nèi)設(shè)置加熱器來(lái)加熱。但是由于熱空氣會(huì)上升冷空氣會(huì)下降所以若在真空腔室內(nèi)只設(shè)置單一的加熱裝置時(shí)容易造成腔體內(nèi)部熱度分布不均勻的情形，并且單一的加熱裝置要進(jìn)行真空腔室內(nèi)整體的空間進(jìn)行溫度的調(diào)控時(shí)也比較困難。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種加熱系統(tǒng)，解決現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷。

為達(dá)成上述目的，本發(fā)明的技術(shù)解決方案是：

一種加熱系統(tǒng)是設(shè)置于真空腔室內(nèi)壁，包含有：至少二加熱裝置，該二加熱裝置可分別獨(dú)立控制調(diào)整其加熱的溫度，各該加熱裝置皆包含有二加熱器，該二加熱器是分別裝設(shè)于真空腔室兩側(cè)的內(nèi)壁，一加熱裝置的二加熱器是設(shè)置于另一加熱裝置的二加熱器上方，使一加熱裝置的加熱器與另一加熱裝置的加熱器呈上下排列。

本發(fā)明的加熱系統(tǒng)，置于化學(xué)氣相沉積的真空腔室內(nèi)，解決了造成真空腔室內(nèi)上層溫度較高下層溫度較低的溫度不平均的問(wèn)題，使真空腔室內(nèi)的溫度可以被調(diào)控得更為均勻、穩(wěn)定，以獲得更均勻的溫度分布效果，使玻璃基板進(jìn)行化學(xué)氣相沉積的加工效果大幅提升。

附圖說(shuō)明

圖1為本發(fā)明第一實(shí)施例裝設(shè)于真空腔室的立體示意圖；

圖2為本發(fā)明第一實(shí)施例裝設(shè)于真空腔室的側(cè)面示意圖；

圖3為本發(fā)明第一實(shí)施例裝設(shè)于真空腔室的剖面示意圖；

圖4為本發(fā)明第二實(shí)施例裝設(shè)于真空腔室的立體示意圖；

圖5為本發(fā)明第二實(shí)施例裝設(shè)于真空腔室的側(cè)面示意圖；

圖6為本發(fā)明第二實(shí)施例裝設(shè)于真空腔室的剖面示意圖；

圖7為本發(fā)明第三實(shí)施例裝設(shè)于真空腔室的立體示意圖。

主要組件符號(hào)說(shuō)明

真空腔室?1

第一加熱裝置?10??加熱器?11

第二加熱裝置?20??加熱器?21

第三加熱裝置?30

第四加熱裝置?40

第五加熱裝置?50

第六加熱裝置?60

具體實(shí)施方式

為了說(shuō)明本發(fā)明的特征及功效，以下茲舉三實(shí)施例配合附圖詳細(xì)說(shuō)明如后。

如圖1至圖3所示，為本發(fā)明的第一實(shí)施例裝設(shè)于真空腔室內(nèi)的示意圖，本發(fā)明加熱系統(tǒng)是設(shè)置于化學(xué)氣相沉積的真空腔室1內(nèi)兩側(cè)壁，本發(fā)明的加熱系統(tǒng)包含有：

一第一加熱裝置10與一第二加熱裝置20，該二加熱裝置可分別獨(dú)立控制調(diào)整其加熱的溫度，各該加熱裝置皆包含有二加熱器11，該二加熱器是分別裝設(shè)于真空腔室兩側(cè)的內(nèi)壁，該第一加熱裝置10的二加熱器11是設(shè)置于該第二加熱裝置20的加熱器21上方，使該第一加熱裝置的加熱器與該第二加熱裝置的加熱器呈上下排列。該等加熱裝置的加熱器可以為加熱管或是加熱線圈。各加熱裝置的加熱范圍可以在室溫至基板的熱變形溫度之間依實(shí)際的使用需要來(lái)加以各別的設(shè)定，以提供最好的加熱效能。

由于在本發(fā)明中該等加熱裝置的加熱器是采用上下的設(shè)置方式，所以通過(guò)本發(fā)明的加熱系統(tǒng)可以對(duì)真空腔室內(nèi)的上下空間分別設(shè)定提供不同的加熱溫度，例如上方加熱裝置所設(shè)定的溫度可以較下方加熱裝置所設(shè)定的溫度低，因此即可以排除目前熱空氣上升冷空氣下降而造成真空腔室內(nèi)上層溫度較高下層溫度較低的溫度不平均的問(wèn)題。

如圖4至圖6所示，為本發(fā)明的第二實(shí)施例裝設(shè)于真空腔室內(nèi)的示意圖。在本實(shí)施例中除了包含有前一實(shí)施例中的第一加熱裝置與第二加熱裝置的外，還在該二加熱裝置之間加設(shè)了一第三加熱裝置30、一第四加熱裝置40與一第五加熱裝置50，該等加熱裝置同樣的可獨(dú)立控制調(diào)整加熱的溫度，并亦各別包含有二加熱器，該等加熱器可以為加熱管或是加熱線圈，該等加熱器是分別依序裝設(shè)于真空腔室兩側(cè)的內(nèi)壁面并且位于第一加熱裝置與第二加熱裝置的加熱器之間，使真空腔室內(nèi)壁的加熱器呈現(xiàn)由上而下的排列設(shè)置。

通過(guò)第二施例的設(shè)置可以使真空腔室內(nèi)的溫度調(diào)控區(qū)分得更為細(xì)致，以獲得更均勻的溫度分布效果。