[發明專利]加熱系統

無效

• 申請號: 200810086298.7
• 申請日: 2008-03-25
• 公開（公告）號: CN101545099A
• 公開（公告）日: 2009-09-30
• 發明（設計）人: 黃明鴻;葉公旭;楊正安;何建立
• 申請（專利權）人: 東捷科技股份有限公司
• 主分類號: C23C16/46
• 分類號: C23C16/46
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司
• 代理人: 周國城

1.一種加熱系統，設置于真空腔室內壁，其特征在于，包含有：

至少二加熱裝置，該二加熱裝置分別獨立控制調整其加熱的溫度，各該加熱裝置皆包含有至少二加熱器，該二加熱器分別裝設于真空腔室兩側的內壁，一加熱裝置的二加熱器設置于另一加熱裝置的二加熱器上方，使一加熱裝置的加熱器與另一加熱裝置的加熱器呈上下排列。

2.依據權利要求1所述的加熱系統，其特征在于，該加熱系統還包含有一加熱裝置設于真空腔室的底部，該加熱裝置同樣的可獨立控制調整加熱的溫度，該加熱裝置包含有至少一加熱器。

3.依據權利要求1所述的加熱系統，其特征在于，所述加熱器為加熱管。

4.依據權利要求1所述的加熱系統，其特征在于，所述加熱器為加熱線圈。

5.一種加熱系統，設置于真空腔室內壁，其特征在于，包含有：

一第一加熱裝置與一第二加熱裝置，該二加熱裝置分別獨立控制調整其加熱的溫度，各該加熱裝置皆包含有二加熱器，該二加熱器分別裝設于真空腔室兩側的內壁，該第一加熱裝置的二加熱器設置于該第二加熱裝置的二加熱器上方，第一加熱裝置的加熱器與第二加熱裝置的加熱器呈上下排列。

6.依據權利要求5所述的加熱系統，其特征在于，該加熱系統還包含有一第三加熱裝置設于真空腔室的底部，該加熱裝置同樣的可獨立控制調整加熱的溫度，該加熱裝置包含有至少一加熱器。

7.依據權利要求5所述的加熱系統，其特征在于，所述加熱器為加熱管。

8.依據權利要求5所述的加熱系統，其特征在于，所述加熱器為加熱線圈。