[發(fā)明專利]晶圓測試方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 200810086130.6 | 申請日: | 2008-03-11 |
| 公開(公告)號: | CN101251571A | 公開(公告)日: | 2008-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 曹育誠 | 申請(專利權(quán))人: | 日月光半導(dǎo)體制造股份有限公司 |
| 主分類號: | G01R31/26 | 分類號: | G01R31/26;G01R1/02;G01R1/067 |
| 代理公司: | 上海翼勝專利商標(biāo)事務(wù)所 | 代理人: | 翟羽 |
| 地址: | 臺灣省高雄市*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 測試 方法 | ||
1.一種晶圓測試方法,其特征在于:所述測試方法包括如下步驟:提供一晶圓,所述晶圓上具有至少一焊墊的步驟;在所述晶圓上覆蓋一罩體,形成一罩體晶圓,并暴露出所述至少一焊墊的步驟;以及以一探測模塊通過所述至少一焊墊,對所述罩體晶圓作電性測試的步驟。
2.如權(quán)利要求1所述的晶圓測試方法,其特征在于:對所述罩體晶圓作電性測試步驟之后,更包括對所述罩體晶圓切割成若干個晶粒,并將所述若干個晶粒予以封裝的步驟。
3.如權(quán)利要求1所述的晶圓測試方法,其特征在于:所述罩體為玻璃材質(zhì)。
4.如權(quán)利要求1所述的晶圓測試方法,其特征在于:所述探測模塊至少包括一針測機及一針測卡,且所述針測卡包含至少一探針。
5.如權(quán)利要求4所述的晶圓測試方法,其特征在于:所述針測機更包含一對位控制單元,用以控制所述探針與所述罩體晶圓正確對位。
6.如權(quán)利要求4所述的晶圓測試方法,其特征在于:所述針測機包括一夾盤,所述夾盤z軸高度大于所述罩體的高度。
7.如權(quán)利要求4所述的晶圓測試方法,其特征在于:所述針測機包括一夾盤,所述夾盤z軸高度大于40密爾。
8.如權(quán)利要求4所述的晶圓測試方法,其特征在于:所述針測卡的探針尖端高度大于所述罩體的高度。
9.如權(quán)利要求4所述的晶圓測試方法,其特征在于:所述針測卡的探針尖端高度大于40密爾。
10.如權(quán)利要求1所述的晶圓測試方法,其特征在于:所述晶圓上至少有一微機電結(jié)構(gòu)。
11.如權(quán)利要求1所述的晶圓測試方法,其特征在于:所述晶圓至少包含一光學(xué)芯片。
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